Graphene, two-dimensional one-atom-thick planar sheet of carbon atoms densely packed in a honeycomb crystal lattice, has grabbled appreciable attention due to its extraordinary mechanical, thermal, electrical, and optical properties. Based on the graphene's high carrier mobility, high frequency graphene field effect transistors have been developed. Graphene is useful for photonic components as well as for the applications in electronic devices. Graphene's unique optical properties allowed us to develop ultra wide-bandwidth optical modulator, photo-detector, and broadband polarizer. Graphene can support SPP-like surface wave because it is considered as a two-dimensional metal-like systems. The SPPs are associated with the coupling between collective oscillation of free electrons in the metal and electromagnetic waves. The charged free carriers in the graphene contribute to support the surface waves at the graphene-dielectric interface by coupling to the electromagnetic wave. In addition, graphene can control the surface waves because its charge carrier density is tunable by means of a chemical doping method, varying the Fermi level by applying gate bias voltage, and/or applying magnetic field. As an extended application of graphene in photonics, we investigated the characteristics of the graphene-based plasmonic waveguide for optical signal transmission. The graphene strips embedded in a dielectric are served as a high-frequency optical signal guiding medium. The TM polarization wave is transmitted 6 mm-long graphene waveguide with the averaged extinction ratio of 19 dB at the telecom wavelength of $1.31{\mu}m$. 2.5 Gbps data transmission was successfully accomplished with the graphene waveguide. Based on these experimental results, we concluded that the graphene-based plasmonic waveguide can be exploited further for development of next-generation integrated photonic circuits on a chip.
Lee, Myeongsoon;Kim, Don;Yoon, Yong Tae;Kim, Yeong Il
Bulletin of the Korean Chemical Society
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제35권11호
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pp.3261-3266
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2014
A pellet of polycrystalline $CuGaO_2$ with a delafossite structure was prepared from $Ga_2O_3$ and CuO by high-temperature solid-state synthesis. The $CuGaO_2$ pellet was a p-type semiconductor for which the electrical conductivity, carrier density, carrier mobility and Seebeck coefficient were $5.34{\times}10^{-2}{\Omega}^{-1}cm^{-1}$, $3.5{\times}10^{20}cm^{-3}$, $9.5{\times}10^{-4}cm^2V^{-1}s^{-1}$ at room temperature, and $+360{\mu}V/K$, respectively. It also exhibited two optical transitions at about 2.7 and 3.6 eV. The photoelectrochemical properties of the $CuGaO_2$ pellet electrode were investigated in aqueous electrolyte solutions. The flat-band potential of this electrode, determined using a Mott-Schottky plot, was +0.18 V vs SCE at pH 4.8 and followed the Nernst equation with respect to pH. Under UV light illumination, a cathodic photocurrent developed, and molecular hydrogen simultaneously evolved on the surface of the electrode due to the direct reduction of water without deposition of any metal catalyst.
Spherical NiO-YSZ particles were synthesized by ultrasonic spray pyrolysis (USP). The morphology of the synthesized particles can be modified by controlling parameters such as precursor pH, carrier-gas flow-rate, and temperature of the heating zone. The synthesized spherical NiO-YSZ particles have rough surface morphology at high carrier-gas flow-rates due to rapid gas exhaustion and insufficient particle ordering. The Ni-YSZ cermet anode synthesized by ultrasonic spray pyrolysis at a flow rate of l L/min, with precursor solution at pH4, showed a higher maximum power density of 256 $mW/cm^2$ compared to a conventionally mixed Ni-YSZ anode (185 $mW/cm^2$) at $800^{\circ}C$. While the area-specific resistance of conventionally mixed Ni-YSZ anodes increases gradually with operation time (indicating performance degradation), the Ni-YSZ anode synthesized by USP does not exhibit any performance degradation, even after 500 h.
Minimizing the carrier recombination and electrical loss through surface passivation is required for high efficiency c-Si solar cell. Usually, $SiN_X$, $SiO_X$, $SiON_X$ and $AlO_X$ layers are used as passivation layer in solar cell application. Silicon oxide layer is one of the good passivation layer in Si based solar cell application. It has good selective carrier, low interface state density, good thermal stability and tunneling effect. Recently tunneling based passivation layer is used for high efficiency Si solar cell such as HIT, TOPCon and TRIEX structure. In this paper, we focused on silicon oxide grown by various the method (thermal, wet-chemical, plasma) and passivation effect in c-Si solar cell.
In this paper, we propose a new method to infiltrate $Fe_3O_4$-nanoparticles into a porous silicon film and a monitoring technique to detect packing density of nanoparticles within the film. Recently, research to use porous silicon as a drug carrier or a new functional sensor material by infiltrating $Fe_3O_4$-nanoparticles has been extensively performed. However, it is still necessary to enhance the packing density and to develop a monitoring technique to detect the packing density in real time. In this light, we forcibly injected a nanoparticle solution into a rugate-structured free-standing porous silicon (FPS) film by applying a pressure difference between the two sides of the film. We found that the packing density by the pressure-infiltration method proposed in this paper is enhanced, relative to that by the previous diffusion method. Moreover, a continuous shift in wavelength of the rugate reflectance peak measured from the film surface was observed while the nanoparticle solution was being injected. By exploiting this phenomenon, we could qualitatively monitor the packing density of $Fe_3O_4$-nanoparticles within the FPS film with the injection volume of the nanoparticle solution.
Recently, graphene has been intensively studied due to the fascinating physical, chemical and electrical properties. It shows high carrier mobility, high current density, and high thermal conductivity compare with conventional semiconductor materials even it has single atomic thickness. Especially, since graphene has fantastic electrical properties many researchers are believed that graphene will be replacing Si based technology. In order to realize it, we need to prepare the large and uniform graphene. Chemical vapor deposition (CVD) method is the most promising technique for synthesizing large and uniform graphene. Unfortunately, CVD method requires transfer process from metal catalyst. In transfer process, supporting polymer film (Such as poly (methyl methacrylate)) is widely used for protecting graphene. After transfer process, polymer layer is removed by organic solvents. However, it is impossible to remove it completely. These organic residues on graphene surface induce quality degradation of graphene since it disturbs movement of electrons. Thus, in order to get an intrinsic property of graphene completely remove of the organic residues is the most important. Here, we introduce modified wet graphene transfer method without PMMA. First of all, we grow the graphene from Cu foil using CVD method. And then, we deposited several metal films on graphene for transfer layer instead of PMMA. Finally, we fabricate graphene FET devices. Our approaches show low defect density and non-organic residues in comparison with PMMA coated graphene through Raman spectroscopy, SEM and AFM. In addition, clean graphene FET shows intrinsic electrical characteristic and high carrier mobility.
Silicon nano-structures have great potential in bionic sensor applications. Atomic force microscopy (AFM) anodic oxidation have many advantages for the nanostructure fabrication, such as simple process in atmosphere at room temperature, compatibility with conventional Si process. In this work, we fabricated simple FET structures with channel width W~ 10nm (nanowire) and $1{\mu}m$ (nano-ribbon) on ~10, 20 and 100nm-thinned silicon-on-insulator (SOI) wafers in order to investigate the surface effect on the transport characteristics of nano-channel. For further quantitative analysis, we carried out the 2D numerical simulations to investigate the effect of channel surface states on the carrier distribution behavior inside the channel. The simulated 2D cross-sectional structures of fabricated devices had channel heights of H ~ 10, 20, and 100nm, widths of L ~ $1{\mu}m$ and 10nm respectively, where we simultaneously varied the channel surface charge density from $1{\times}10^{-9}$ to $1{\times}10^{-7}C/cm2$. It has been shown that the side-wall charge of nanowire channel mainly affect the I-V characteristics and this was confirmed by the 2D numerical simulations.
Kim, Tae-Woong;Park, Jae-Hoon;Park, Young-June;Son, Heung-Soon;Yang, Ki-Sook
한국식품영양과학회지
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제24권3호
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pp.362-370
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1995
Human plasma low density lipoprotein(LDL) is the main carrier for cholesterol, and recent studies suggest the normal LDL can be readily oxidized by free radical and not interact with LDL receptor. Lipoprotein pariticles are consisted of lipid andprotein, and fatty acids of lipoproteins are prone to oxidation. LDL particles readily undergo oxidative modification by copper. From the results, oxidized LDL altered its biological properties. A marked increase in the electrophoretic mobility of LDl on agarose gel indicated that negative surface charge of the LDL particles was increased. Also, the results from the HPLC showed that oxidized LDL was degraded into several polypeptides nonenzymatically. Degradation tests which measured the amount of 5-IAF labelled oxidized LDL were carried out by monocyte and hepatocyte cell culture. Hepatocyte cell culture of modified LDL did not show consistent pattern. However, binding rate of modified LDL with HMDM(human monocyte derived macrophage) was enhanced with oxidation, but was retarded by addition of antioxidants(hyaluronic acid, vitamin A, vitamin E). Also comparisons of oxidized-LDL, acetyl-LDL and MDA-LDL showed significant differences in the chemical properteis and binding affinity to HMDM. Thus, modificaition of normal LDL altered its biological properties.
Aluminum doped zinc oxide (AZO) films were deposited on non-alkali glass substrate by DC magnetron sputtering with 3 types of AZO targets (doped with 1.0 wt%, 2.0 wt%, 3.0 wt% $Al_2O_3$). Electrical, optical properties and microstructure of AZO films have been investigated by Hall effect measurements, UV/VIS/NIR spectrophotometer, and XRD, respectively. Crystallinity of AZO films increased with increasing substrate temperature ($T_s$) and doping ratio of Al. Resistivity and optical transmittance in visible light were $8.8{\times}10^{-4}{\Omega}cm$ and above 85%, respectively, for the AZO film deposited using AZO target (doped with 3.0 wt% $Al_2O_3$) at $T_s$ of $300^{\circ}C$. On the other hand, transmittance of AZO films in near-infrared region decreased with increasing $T_s$ and doping ratio of Al, which could be attributed to the increase of carrier density.
To realize high-performance thin film solar cells, we prepared CIGS by the co-evaporation technique on both sodalime and Corning glass substrates. The structural and efficient properties were investigated by varying the thickness of the Mo:Na layer, where the total thickness of the back contact was fixed at 1${\mu}m$. As a result, when the Mo:Na thickness was 300 nm on soda-lime glass, the measured Na content was 0.28 %, the surface morphology was a plate-like compact structure, and the crystallinity by XRD showed a strong peak of (112) preferential orientation together with relatively intense (220) and (204) peaks as the secondary phases influenced crystal formation. In addition, the substrates on soda-lime glass effected the lowest surface roughness of 2.76 nm and the highest carrier density and short circuit current. Through the optimization of the Mo:Na layer, a solar conversion efficiency of 11.34% was achieved. When using the Corning glass, a rather low conversion efficiency of 9.59% was obtained. To determine the effects of the concentration of sodium and in order to develop a highefficiency solar cells, a very small amount of sodium was added to the soda lime glass substrate.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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