We propose a novel hydrogen-reduced p-type amorphous silicon oxide buffer layer between $TiO_2$ antireflection layer and p-type silicon window layer of silicon thin film solar cells. This new buffer layer can protect underlying the $TiO_2$ by suppressing hydrogen plasma, which could be made by excluding $H_2$ gas introduction during plasma deposition. Amorphous silicon oxide thin film solar cells with employing the new buffer layer exhibited better conversion efficiency (8.10 %) compared with the standard cell (7.88 %) without the buffer layer. This new buffer layer can be processed in the same p-chamber with in-situ mode before depositing main p-type amorphous silicon oxide window layer. Comparing with state-of-the-art buffer layer of AZO/p-nc-SiOx:H, our new buffer layer can be processed with cost-effective, much simple process based on similar device performances.
Micro machining technologies have been required to satisfy various conditions in a high-technology industry. Micro electrochemical process is one of the most precision machining methods. Micro electrochemical process has been divided into electrochemical etching through protective layer and electrochemical machining using ultrashort voltage pulses. Micro shaft can be fabricated by electrochemical etching. The various protective layers such as photo-resist, oxide layer and oxidized recast layer have been used to protect metal surface during electrochemical etching. Micro patterning on metal surface can be machined by electrochemical etching through protective layer. Micro hole, groove and structures can be easily machined by electrochemical machining using ultrashort voltage pulses. Recently, the groove with subnanometer was machined using AFM.
In this paper, the inorganic-organic thin film encapsulation layer was newly adopted to protect the organic layer from moisture and oxygen. Using the electron beam, Sputter and Spin-Coater system, the various kinds of inorganic and organic thin-films were deposited onto the Ethylene Terephthalate(PET) and their interface properties between organic and inorganic layer were investigated Results indicates that the SiON/PI/SiON/PI/PET barrier coatings have high potential for flexible organic light-emitting diode(OLED) application.
The dielectric layers in AC plasma display panel(AC PDP) are essential to the discharge cell structure, because they protect metal electrodes from sputtering by positive ion and from a sheath of wall charges which are essential to memory function of AC PDP. Furthermore, this layer should be transparent because the visible light must pass through the layer. In this paper, the dielectric breakdown strength and transparency of the dielectric layer on the discharge electrodes are studied. The variables in this test are the dielectric layer thickness, dielectric firing condition, gas pressure, species of gas and so on.
Lithium-ion batteries (LIBs) are rapidly improving in capacity and life cycle characteristics to meet the requirements of a wide range of applications, such as portable electronics, electric vehicles, and micro- or nanoelectro-mechanical systems. Recently, atomic layer deposition (ALD), one of the vapor deposition methods, has been explored to expand the capability of LIBs by producing near-atomically flat and uniform coatings on the shell of nanostructured electrodes and membranes for conventional LIBs. In this paper, we introduce various ALD coatings on the anode, cathode, and separator materials to protect them and improve their electrochemical and thermomechanical stability. In addition, we discuss the effects of ALD coatings on the three-dimensional structuring and conduction layer through activation of electrochemical reactions and facilitation of fluent charge collection.
Nowadays, Active Matrix Organic Light-Emitting Diodes (AM-OLEDs) are the superior display device due to their vivid full color, perfect video capability, light weight, low driving power, and potential flexibility. One of the advantages of AM-OLED over Liquid Crystal Display (LCD) lies in its flexibility. The potential flexibility of AM-OLED is not fully explored due to its sensitivity to moisture and oxygen which are readily present in atmosphere, and there are no flexible encapsulation layers available to protect these. Therefore, we come up with a new concept of Inorganic-Organic hybrid thin film as the encapsulation layer. Our Inorganic layer is Al2O3 and Organic layer is F-Alucone. We deposited these layers in vacuum state using Atomic Layer Deposition (ALD) and Molecular Layer Deposition (MLD) techniques. We found the results are comparable to commercial requirement of 10-6 g/m2 day for Water Vapor Transmission Rate (WVTR). Using ALD and MLD, we can control the exact thin film thickness and fabricate more dense films than chemical or physical vapor deposition methods. Moreover, this hybrid encapsulation layer potentially has both the flexibility of organic layers and superior protection properties of inorganic layer.
The inorganic multi-layer thin film encapsulation was newly adopted to protect the organic layer from moisture and oxygen. Using the electron beam, sputter, inorganic multi-layer thin-film encapsulation was deposited onto the Polyethylene Terephthalate (PET) and their interface properties between inorganic and organic layer were investigated. In this investigation, the SiON, $SiO_2$ and parylene layer showed the most suitable properties. Under these conditions, the WVTR for PET can be reduced from level of $0.57g/m^2/day$ (bare subtrate) to $1*10^{-5}g/m^2/day$ after application of a SiON and $SiO_2$ layer. These results indicates that the $PET/SiO_2/SiON/Parylene$ barrier coatings have high potential for flexible organic light-emitting diode(OLED) applications.
In this study, the inorganic thin-film passivation layer was newly adopted to protect the organic layer from moisture and oxygen. Using the electron beam evaporation system, the various kinds of inorganic thin-films were deposited onto the organic layer and their interface properties between organic and inorganic layer were investigated. In this investigation, the MgO layer showed the most suitable properties, and based on this result, the time dependent emission properties were estimated for the OLED with and without passivation layer. In this experiment, we can see that the time-dependent emission properties of MgO passivated OLED had longer life-time compared to non-passivated OLED. Therefore, we can consider that the MgO thin film is one of the most suitable candidates for the thin-film passivation layer of OLED.
Purpose The purpose of this paper is to observe the relative priorities of importances among the modified versions of Block chain system, being based on AHP decision support model which should be also proposed in this paper. Design/methodology/approach Four versions modified from the beginning of Block chain were divided into Public& Permissionless, Private&Permissionless, Public&Permissioned and Private&Permissioned types. Five criteria for evaluating the four versions whether the version were suitable for Medical information system were introduced from five factors of Technologies Accept Model, which were Security, Availability, Variety, Reliability and Economical efficiency. We designed Decision support model based on AHP which would select the best alternative version suitable for introducing the Block chain technology into the medical information systems. We established the objective of the AHP model into finding the best choice among the four modified versions. First low layer of the model contains the five factors which consisted of Security, Availability, Variety, Reliability and Economical efficiency. Second low layer of the model contains the four modified versions which consisted Public&Permissionless, Private&Permissionless, Public&Permissioned and Private& Permissioned types. The structural questionnaire based on the AHP decision support model was designed and used to survey experts of medical areas. The collected data by the question investigation was analyzed by AHP analysis technique. Findings The importance priority of Security was highest among five factors of Technologies Accept Mode in the first layer. The importance priority of Private&Permissioned type was highest among four modified versions of Block chain technologies in second low layer. The second importance priority was Private&Permissionless type. The strong point of Private&Permissioned type is to be able to protect personal information and have faster processing speeds. The advantage of Private& Permissionless type is to be also able to protect personal information as well as from forging and altering transaction data. We recognized that it should be necessary to develop new Block chain technologies that would enable to have faster processing speeds as well as from forging and altering transaction data.
The discharge electrodes in ac PDP are coated with dielectric layer, and transparent MgO thin films are deposited on the dielectric layer. The main role of the MgO thin films in ac PDP is to protect the dielectric layer from sputtering by ion bombardment in the glow-discharge plasma. An additional important role of the MgO thin film is the high secondary electron emission coefficient which leads the low firing voltage and low cost of the PDP. In this paper, we investigated the relations of the crystal orientation about deposition thickness, deposition rate, temperature of substrate, and distance between the MgO tablet and the substrate. Additionally, we investigated the discharge characteristics of the AC PDP using nano-powder MgO tablet
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[게시일 2004년 10월 1일]
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