Understanding of charging properties of a small particle is necessary to control the particle contamination and to improve productivity of the electronic device in the plasma aided semiconductor manufacturing processes. In this study, the effects of both magnetic field and particle size on the charging properties are experimentally investigated in collisional dusty plasmas. The experiments carried out in the system consisted of a monodisperse particle generation system, a DC magnetized plasma generation system and a charge measurement system. The plasma chamber is made of cross-shape Pyrex surrounded by magnetic bucket (composed of 12 permanent magnetic bar) to confine the plasma. DC magnetic field up to 250G are applied to the plasma zone by external magnetic coil. Previous work shows the charging effect clearly increase with increasing the size of the particle and plasma density, as it was expected.
A concept in which laser-sustained plasmas (LSPs) are combined with inductively coupled plasmas (ICPs) is proposed. The concept is aiming at extensions of operative conditions of a CW laser thruster due to the fact that the ICP has some characteristics which are in contrast to those of LSPs. An estimation confirmed that the concept would effectively work. And a fundamental experiment was conducted. The results showed that the radio frequency magnetic field induced by a alternate current of 13.56 MHz coupled inductively with LSPs, resulting in the enlargement of the plasma region and the attainment of the enthalpy. It is expected that some improvements will enable to transfer the RF power to the work gas more effectively and to demonstrate the synergy effect between the LSPs and the ICPs.
The external electricla characteristics of helicon wave plasmas were measured over a wide range of RF power and magnetic filed. External parameters. such as antenna voltage , current, phase shift, and interanl parameter, electron density were measured at 7MHz, 1mTorr Ar discharge . The equivalent discharge resistance and reactance, and the power transfer efficiency were calculated through these measurements. There are a helicon mode which produces high density plasma by helicon wave and a lowmode which produces low density plasma by capaictive electric field. In case of the helicon mode, the anternna voltage and current were lower than those of the low-mode. The phase difference between voltage and current decreased suddenly at the transition point from the low-mode to the helicon mode. Equivalent resistance and power efficiency increased and reactance decreased suddenly at the transition point. These results mean that the power transperred to plasma and the nutual coupling between the antenna and plasma increase as the mode changes from the low-mode to the helicon mode.
The properties of plasmas produced by high power glass laser were investigated with various methods of diagnostics. Electron temperature was estimated by measurement of soft X-ray, and ion temperature was estimated by measurement of the time-of-flight of ion. The measurement of incident and reflected laser light, and Schlieren and shadowgragh methods were also used. No influence of laser pulse duration on the temperature was observed in the case of durations 2, 4 and 10 nsecs. The effective heating of plasma occurred in about 2 nsec of beginning of incident laser pulse. The experimental results for fast rising laser pulse were discussed and the influence of resetime of laser pulse on the heating of plasma was described. Neutrons produced by irradiating laser beam to solid deuterium target were detected.
The population density of excited species in dc, rf and laser ablation plume plasmas has been measured using laser absorption spectroscopy. It was shown that, when the plasma was modulated by on and off with, the sensitivity and signal to noise (S/N) ratio became high. For example, the atomic O(3$^{5}$ S$^{o}$$_2$) Population density, No* in $O_2$/He mixtures was obtained by the highest S/N ratio at a frequency of 2.7kHz. In a 20Torr room air, the lowest No* level to be detectable was shown to be an order of 10$^{7}$ cm$^{-3}$ . The population densities of resonance Ar(1S$_2$) and Xe(1S$_4$) levels were also measured in barrier discharges and laser ablation plasmas.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제13권1호
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pp.6-9
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2012
In this study, we carried out an investigation of the etching characteristics (etch rate, selectivity to $SiO_2$) of ZnO thin films in $N_2/Cl_2$/Ar inductivity coupled plasma. A maximum etch rate and selectivity of 108.8 nm/min and, 3.21, respectively, was obtained for ZnO thin film at a $N_2/Cl_2$/Ar gas mixing ratio of 15:16:4 sccm. The plasmas were characterized by optical emission spectroscopy. The x-ray photoelectron spectroscopy analysis showed the efficient destruction of oxide bonds by ion bombardment. An accumulation of low volatile reaction products on the etched surface was also shown. Based on this data, an ion-assisted chemical reaction is proposed as the main etch mechanism for plasmas containing $Cl_2$.
A microplasma current switch (MPCS) for a device operated in a current mode like organic light-emitting diodes (OLEDs), which features matrix addressability and current switching, is presented as well as its architecture and operational principle. The MPCS utilizes the intrinsic memory and conductivity of plasmas to achieve matrix addressability and current switching. We have fabricated a $100\;mm\;{\times}\;100\;mm$ MPCS panel in which its cell pitch is $1080\;{\mu}m\;{\times}\;1080\;{\mu}m$. The matrix addressability and current switching were verified. In addition, the current-voltage (I-V) characteristic of the unit cell was measured when plasmas were ignited. In principle, the scheme of the MPCS is equivalent to that of a double Langmuir probe diagnosing plasma parameters except for their relative dimensions to a plasma volume. Accordingly, the I-V characteristic was analyzed by a double Langmuir probe theory, and the plasma density and electron temperature were estimated from the I-V curve using a collisional double Langmuir probe theory.
The surface chemical structure of three kinds of polyethylene (PE): high density (HD) PE, low density (LD) PE and linear (L)-LDPE exposed to Ar and $O_2$ plasmas has been investigated using XPS. Oxygen was incorporated in a more increased amount for HDPE than for L-LDPE and LDPE. Ar plasma tended to incorporate more oxygen than $O_2$ plasma. The XPS valence band spectra for Ar plasma exhibited a clear peak assigned to $O_2$s character. By chemical derivatization method it was found that the amount of -COOH group at the surface was much greater than that of -OH group. The hydrophilic nature of plasma-treated PE increased in the order: LDPE
The objective of the present study is the development of a comprehensive air chemical kinetic model that includes 11 species and 54 chemical reactions for the numerical investigation of air nonequilibrium inductively coupled plasmas. The two-dimensional, compressible Navier-Stokes equations coupled with the electromagnetic-field equations were employed to describe the fundamental characteristics of an inductive plasma. Dunn-Kangs 32 chemical-reaction model of air was reconstructed and used as a comparative model. The effects of the different chemical kinetic models on the flow field were analyzed and discussed at identical/different working pressures. The results theoretically indicate that no matter the working pressure is low or high, the use of the 54 chemical kinetic model presented in this study is a better choice for the numerical simulation of a nonequilibrium air ICP.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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