• 한국지구과학회지
• /
• 제30권6호
• /
• pp.734-743
• /
• 2009

본 연구는 부산지역의 먼지 농도와 황사발원지의 기후학적 요소를 주기분석 함으로써 부산지역의 먼지농도 주기에 영향을 주는 기후학적 조건, 특히 황사 발생과의 관련성에 대하여 고찰하였다. 부산지역에서 관측된 먼지 농도 시계열 자료를 이용한 단일스펙트럼분석을 수행한 결과 배출량이나 강수 효과 등에 의해 나타난 일반적인 주기(1년, 7일) 이외에, 상대적으로 3-4년 주기가 우세하게 나타났으며, 먼지 농도와 부산지역의 기상자료 및 황사발원지에서의 풍속과의 교차스펙트럼 분석을 통한 주기 분석을 수행해 본 결과, 3-4년 주기일 때 먼지농도와 풍속, 기압은 양의 상관관계, 기온, 상대습도와는 각각 음의 상관관계가 나타났다. 이는 황사 발생 조건과 잘 부합되는 것으로 나타나, 3-4년의 먼지 농도 주기는 황사의 장거리 수송과 관련이 있는 것으로 판단된다. 또한 황사 발생은 발원지의 지표 상태에 따라 발생빈도가 달라지므로, 여러 기후학적 요소들 중 황사발원지에서의 강수량과의 주기 분석을 수행해 본 결과, 발원지에서의 강수량 그 자체보다는 발원지에서의 가뭄지수(EDI)의 시계열이 우리나라 먼지 농도의 3-4년 주기와 더 연관이 있는 것으로 나타났고 이는 기후학적으로 황사 발원지에서의 지표건조 특성의 변동성과 연관이 있는 것으로 나타났다.

• 한국식품저장유통학회지
• /
• 제14권4호
• /
• pp.369-377
• /
• 2007

백삼분말, 홍삼분말 및 홍삼추출농축액 등의 인삼제품을 첨가하여 기능성 식빵 제조에 이용하고자 인삼제품의 첨가량을 달리하여 반죽에 대한 물성을 측정하고 식빵을 제조하여 품질특성을 조사하였다. Farinograph, extensograph 및 amylograph에 의한 분석결과, 인삼제품의 첨가량이 증가할수록 높은 수분흡수력이 나타났고 반죽의 안정도가 무첨가구에 비하여 불안정하여 반죽시간이 단축되었으며 R/E값 및 점도가 감소하였다. 또한 발효시간의 경과에 따라 pH는 하강하였으며 발효팽창력은 무첨가구보다 우수하였으나 일정량이상의 첨가는 가스보유력을 약화시켰다. 인삼분말제품 첨가에 따른 비용적은 백삼분말 2% 첨가 시 5.41 mL/g으로 가장 높았고 홍삼추출농축액첨가제품은 첨가량이 증가할수록 높아져서 4% 첨가 시 5.82 mL/g을 나타냈다. 인삼제품을 첨가한 식빵의 저장 중 경도를 측정한 결과 백삼 및 홍삼분말첨가 시는 무첨가구에 비하여 초기경도가 높았으며 저장일수가 증가할수록 증가하였고 홍삼추출농축액을 첨가한 제품은 초기경도가 무첨가구보다 낮았으며 저장일수가 증가함에 따라 경도의 증가폭이 작았다. 색도 측정결과 인삼제품첨가량이 증가할수록 적색도와 황색도가 증가하였으며 관능검사결과 전체적인 기호도면에서 홍삼추출농축액 2% 첨가한 제품에서 가장 좋은 기호도를 나타내었다.

• 한국식품과학회지
• /
• 제41권1호
• /
• pp.16-20
• /
• 2009

식이섬유 함량이 높은 기능성 고아밀로오스 쌀로 밀가루를 대체할 수 있는 쌀가루를 제조하여 가공에 사용하기 위하여 국내산 고아밀로오스 쌀인 고아미와 고아미 2호, 수입쌀인 태국산 쌀을 처리하여 120 mesh를 통과한 쌀가루를 제조하고 이화학적 특성, 식이섬유 함량과 호화특성을 비교하였다. 쌀가루의 단백질 함량과 총 전분함량은 고아미 2호가 가장 낮았고 회분과 지질함량은 가장 높았으며 고아미와 태국산의 차이는 없었다. 겉보기 아밀로오스 함량과 물 결합능력, 총 식이섬유 함량은 고아미2호 쌀가루가 높았다. 태국산 쌀가루는 팽윤력이 높았고 호화특성 중피크점도, 냉각점도, total setback점도가 높았다. 반면 고아미 2호는 호화개시온도도 높을 뿐만 아니라 피크, 냉각 및 setback 점도를 포함한 모든 점도가 가장 낮아 호화와 겔 형성이 낮음을 알 수 있었다. 고아미와 태국산 쌀가루의 결정형은 전형적인 쌀의 결정형인 A형 이었지만 고아미2호는 고아밀로오스 옥수수전분과 같은 B형을 나타냈다. 고아미 2호 쌀가루의 색은 어둡고 누런색을 띠었으며 명도는 낮고 황색도는 높았다.

• KEPCO Journal on Electric Power and Energy
• /
• 제2권1호
• /
• pp.97-101
• /
• 2016

산화아연은 다양한 나노 구조와 특유의 특성으로 인하여 여러 분야에서 많은 관심을 받고있는 물질이다. 산화아연을 합성하는 다양한 방법 중에서, 수열합성법은 간단하고 친환경적인 장점을 가지고 있다. 나노 구조를 가지는 산화아연 박막은 수열합성법을 통하여 FTO 전극 위에 제작되었다. 성장된 산화아연은 X-ray diffraction (XRD)와 Field-emission scanning electron microscopy (FESEM)을 통하여 분석되었다. XRD 분석에서 산화아연 박막이 자연상태의 hexagonal wurtzite 상으로 구성되어 있음을 확인하였으며 SEM 사진에서는 나노 로드 형태를 구성하고 있는 것을 확인할 수 있었다. 본 연구에서는 UV 영역의 흡수 스펙트럼을 분석하여 산화아연이 보이는 365 nm 파장에서의 흡수를 확인하였다. 또한 photoluminescence 방출을 분석한 결과, 424 nm의 band edge emission과 500 nm에서 산화아연의 oxygen vacancies에 의한 방출을 확인하였다. 또한 라만 스펙트럼 분석을 통하여 본 연구진이 제작한 산화아연이 높은 결정성을 가지고 있는 것을 확인할 수 있었다. 이러한 연구를 통하여 다양한 특성을 가진 산화아연의 광촉매적 적용을 기대할 수 있다.

• Applied Biological Chemistry
• /
• 제28권4호
• /
• pp.219-225
• /
• 1985

6종의 찰곡류, 즉 찰벼 (한강 및 올찰), 찰보리, 차조, 찰수수, 찰옥수수 및 율무에서 전분을 분리하여 그들의 몇가지 점성특성에 관하여 분석 비교하였다. 광투과도에 의한 호화온도는 대략 $55{\sim}65^{\circ}C$ 범위로서 한강이 $55^{\circ}C$, 올찰, 찰보리, 차조 및 율무 $60^{\circ}C$, 그리고 찰수수와 찰옥수수는 $65^{\circ}C$에서 호화가 시작되었고, 한강 및 올찰전분은 $70^{\circ}C$, 차조, 찰수수, 찰옥수수 및 율무전분은 $75^{\circ}C$, 그리고 찰보리 전분은 $85^{\circ}C$ 이상에서 호화가 완료 되었다. Amylogram에 의한 호화개시온도는 $62{\sim}71^{\circ}C$이며, 차조, 찰수수, 찰옥수수 및 율무가 다소 높았다. 각 전분의 팽윤력은 $38{\sim}55$로서, 한강, 올찰, 차조 및 율무가 높은 편이고, 찰수수와 찰보리는 다소 낮았다. 용해도는 $9{\sim}27%$의 범위로 차조가 매우 높고, 한강 22, 올찰 21, 찰수수와 찰옥수수는 $18{\sim}19$, 찰보리 17, 율무가 매우 낮아 9였다. 고유점도는 차조 1.43, 율무 1.49, 올찰 1.58, 한강 1.60, 찰수수 1.61, 찰옥수수 1.68, 찰보리 1.75였다. 전분 gel의 질감은 올찰 및 한강이 대단히 무르고 끈기가 높았으며, 찰보리는 가장 단한하고 탄력성이 높았다. 또한 차조, 찰수수, 찰옥수수 및 율무전분 gel도 찹쌀에 비해서 상당히 단단했는데, 그중 유무가 다소 덜 단단했다.

• 대한교통학회지
• /
• 제28권5호
• /
• pp.55-64
• /
• 2010

지하역사 미세먼지의 효율적 저감방안 마련을 위하여 서울지하철 5호선 개화산역 대합실, 승강장, 본선터널 3곳의 미세먼지 농도를 동시간대에 30분 단위로 측정하고, 각 위치에서 측정한 미세먼지농도 변화패턴 사이의 상관관계 분석을 통하여 지하역사에서의 미세먼지 확산방향과 확산속도를 추정하였다. 지하역사의 미세먼지 농도는 본선터널이 가장 높고, 승강장, 대합실 순으로 낮아진다. 본선터널과 승강장, 대합실의 미세 먼지농도는 열차운행이 많은 혼잡시간대에는 증가하고 비 혼잡시간대에는 감소하는 패턴을 보인다. 위치에 따른 미세먼지농도의 상대적인 크기와 변화패턴에 대한 통계적 분석결과 본선터널의 높은 미세먼지농도가 승강장으로 확산되고, 승강장의 미세먼지 중 일부가 대합실로 확산되는 것으로 나타났다. 따라서 지하역사의 미세먼지를 효율적으로 감소시키기 위해서는 본선터널 내 미세먼지 집중발생지점과 발생원, 확산경로, 확산수단 등을 정확하게 파악하여 발생원을 제거하거나 발생량을 저감시키는 것이 중요하며, 환기시스템 가동을 위치별로 미세먼지농도가 높아지는 시간대에 맞추어 가동시킴으로써 전력사용량과 피크전력을 줄일 수 있다.

• 한국진공학회:학술대회논문집
• /
• 한국진공학회 2013년도 제45회 하계 정기학술대회 초록집
• /
• pp.155.2-155.2
• /
• 2013

Strain-relaxed SiGe layer on Si substrate has numerous potential applications for electronic and opto- electronic devices. SiGe layer must have a high degree of strain relaxation and a low dislocation density. Conventionally, strain-relaxed SiGe on Si has been manufactured using compositionally graded buffers, in which very thick SiGe buffers of several micrometers are grown on a Si substrate with Ge composition increasing from the Si substrate to the surface. In this study, a new plasma process, i.e., the combination of PIII&D and HiPIMS, was adopted to implant Ge ions into Si wafer for direct formation of SiGe layer on Si substrate. Due to the high peak power density applied the Ge sputtering target during HiPIMS operation, a large fraction of sputtered Ge atoms is ionized. If the negative high voltage pulse applied to the sample stage in PIII&D system is synchronized with the pulsed Ge plasma, the ion implantation of Ge ions can be successfully accomplished. The PIII&D system for Ge ion implantation on Si (100) substrate was equipped with 3'-magnetron sputtering guns with Ge and Si target, which were operated with a HiPIMS pulsed-DC power supply. The sample stage with Si substrate was pulse-biased using a separate hard-tube pulser. During the implantation operation, HiPIMS pulse and substrate's negative bias pulse were synchronized at the same frequency of 50 Hz. The pulse voltage applied to the Ge sputtering target was -1200 V and the pulse width was 80 usec. While operating the Ge sputtering gun in HiPIMS mode, a pulse bias of -50 kV was applied to the Si substrate. The pulse width was 50 usec with a 30 usec delay time with respect to the HiPIMS pulse. Ge ion implantation process was performed for 30 min. to achieve approximately 20 % of Ge concentration in Si substrate. Right after Ge ion implantation, ~50 nm thick Si capping layer was deposited to prevent oxidation during subsequent RTA process at $1000^{\circ}C$ in N2 environment. The Ge-implanted Si samples were analyzed using Auger electron spectroscopy, High-resolution X-ray diffractometer, Raman spectroscopy, and Transmission electron microscopy to investigate the depth distribution, the degree of strain relaxation, and the crystalline structure, respectively. The analysis results showed that a strain-relaxed SiGe layer of ~100 nm thickness could be effectively formed on Si substrate by direct Ge ion implantation using the newly-developed PIII&D process for non-gaseous elements.

• 한국지능시스템학회논문지
• /
• 제9권4호
• /
• pp.420-425
• /
• 1999

최대수요전력 예측과 제어의 목적은 공장 또는 빌딩등의 전력수용가의 입장에서 수시로 변동하는 부하의추이를 파악 예측하여 에너지 합리화 경제성 증대 산업기기의 보호 수용가의 비용절감과 더불어 크게는 국가적인 전력시스템안정화를 가져가기 위함에 있다. 최대수요전력 예측/제어를 위한 기존의 방법들은 수용가 특성이나 계절별 요일별 차이를 고려하지 않고 고정된 알고리즘에 의해 예측값이 결정되므로 환경변화에 적극적인 대응능력이 부족한 단점이있다. 이와같은 문제점의 해결을 위해 본 논문에서는 현재 많은 연구가 되고 있는 SOFM 신경망을 이용한 예측 방법과 예측치의 보정방법으로 퍼지제어길르 추가한 형태의 최대수요전력예측 제어기를 제안한다, 예측방법의 경우 유동적이며 적은 구간을 통하여 순시부하처럼 변동이 많은 데이터에 대하여 예측시간을 단축함과 동시에 오차를 줄여나갈수 있다. 또한 2단계의 학습을 통하여 SOFMd의 출력값이 패턴이 아닌 예측치가 될 수 있도록 변형하였으며 패턴자체의 변화에 대응하여 패턴오차를 이용하여재학습을 하도록 하여 불안정한 전력에 대하여 보완한다. 그리고 예측후반부에 퍼지제어기를 연결하여 예측의 신뢰성을 높이는 안정된 예측구조를 가지고 있다. 실험결과 시계열 예측방법인 지수평활법보다 제안된 예측/제어 방법이 우수함을 확인하였다.

• 에너지공학
• /
• 제28권3호
• /
• pp.18-25
• /
• 2019

본 연구에서는 발전사에서 숙련된 사용자가 코드를 입력하여 계산하는 프로그램의 문제점을 해소하고자 광역에너지네트워크 연구단은 확장성을 포함한 누구나 손쉽게 사용할 수 있는 지역난방 운전해석 프로그램 EnetPLAN을 국내 기술로 개발하였다. 이에 EnetPLAN과 시중에서 사용 중인 A프로그램과의 시뮬레이션을 통해 에너지네트워크상의 열원, 열수요 및 CHP(Combined Heat Plant:열병합발전) 운전 결과에 대해 비교하고자 하였다. 그 결과 EnetPLAN과 A프로그램의 에너지네트워크 상의 열 및 전력생산량은 열공급량과 축열조 운영방식의 시뮬레이션 결과에서 대부분 유사한 패턴으로 나타났다. 이는 EnetPLAN이 에너지네트워크 상에 존재하는 열병합발전시설의 다양한 운전모드에 따른 시뮬레이션 적용이 가능함을 확인할 수 있었다. 국내 기술로 개발된 EnetPLAN이 향후 현장에서 쉽게 적용할 수 있으며, 효율적인 운전 시뮬레이션 결과를 제시할 것으로 기대한다.

• 산업식품공학
• /
• 제15권4호
• /
• pp.332-337
• /
• 2011

치환제인 PO 농도(2%, 6%, 12%)를 달리하여 제조한 하이드록시프로필화 쌀전분에 가교제인 $POCl_{3}$ 농도(0.005%, 0.02%)를 달리하여 처리한 HPCL 쌀전분을 제조하고, HPCL 쌀전분의 용해도, 팽윤력, pasting 특성 및 열적 특성을 연구하였다. 팽윤력은 일반 쌀전분 보다 다소 낮은 온도에서 증가되기 시작하였으나 그 이후는 모두 낮은 수치를 보여 HPCL 쌀전분이 일반 쌀전분보다 완만한 상승을 나타내었다. 용해도는 HPCL 쌀전분이 일반 쌀전분보다 전체적으로 낮은 값을 나타내었다. 한편 PO 함량이 증가할수록 팽윤력과 용해도 모두 증가하는 경향을 나타내었다. RVA pasting분석 결과, HPCL 쌀전분의 경우 일반 쌀전분보다 최고 점도는 낮아졌고 holding strength와 finalviscosity는 높은 경향을 나타내었으며, breakdown은 낮아지고 setback은 높은 것으로 나타났다. 열적 특성 분석 결과 HPCL 쌀전분의 경우 일반 쌀 전분보다 낮은 $T_{o}, T_{p}, T_{c}$ 및 ${\Delta}H$를 나타내었으며, $POCl_{3}$ 함량이 적을수록 감소폭이 더 큰 것으로 나타났다. 따라서 HPCL 쌀전분의 경우 RVA pasting 특성은 PO 첨가량, 즉 하이드록시프로필화에 따른 영향이 크다고 볼 수 있고 DSC 열적특성은 하이드록시프로필화 및 가교화 모두 영향을 미치는 것으로 생각된다.