Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.39
no.4
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pp.190-197
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2006
The effects of blasting and acidic treatment on the corrosion characteristics of dental implant fabricated with Cp-Ti and Ti-6Al-4V alloy have been researched by using electrochemical methods. The fabricated implants were cleaned and sandblasted by $Al_2O_3$ powder and then acidic treatment was carried out in nitric acid solution. The surface morphology were observed using scanning electron microscope. The corrosion behaviors were investigated using potentiosat and EIS in 0.9% NaCl solution at $36.5{\pm}1^{\circ}C$. The potentio-dynamic test in 0.9% NaCl indicated that the corrosion potential of blasting and acidic treated implant was lower than that of non treated implant, but current density was higher than that of non treated implant. From the cyclic potentiodynamic test results of Ti implant, the passivation current density of blasting and acidic treated implant slightly higher than that of non treated implant. From A.C. impedance test results in 0.9% NaCl solution, polarization resistance($R_p$) value of blasting and acidic treated implant was lower than that of non treated implant. In case of blasting and acidic treated implant surface, the pits were observed in valley and crest of implant surface.
Titanium and its alloys are finding increasing use in medical devices and dental implants. The strong selling point of titanium is its resistance to the highly corrosive body fluids in which an implant must survive. This corrosion resistance is due to a tenacious passive oxide or film which exists on the metal's surface and renders it passive. Potentiodynamic polarization measurement is one of the most commonly used electro-chemical methods that have been applied to measure corrosion rates. And the potentiodynamic polarization test supplies detailed information such as open circuit, rupture, and passivation potential. Furthermore, it indicates the passive range and sensitivity to pitting corrosion. This study was designed to compare the corrosion resistance of the commonly used dental implant materials such as CP Ti, Ti-6A1-4V, Co-Cr-Mo alloy, and 316L stainless steel. And the effects of galvanic couples between titanium and the dental alloys were assessed for their useful-ness-as. materials for superstructure. The working electrode is the specimen , the reference electrode is a saturated calomel electrode (SCE), and the counter electrode is made of carbon. In $N_2-saturated$ 0.9% NaCl solutions, the potential scanning was performed starting from -800mV (SCE) and the scan rate was 1 mV/sec. At least three different polarization measurements were carried out for each material on separate specimen. The galvanic corrosion measurements were conducted in the zero-shunt ammeter with an implant supraconstruction surface ratio of 1:1. The contact current density was recorded over a 24-hour period. The results were as follows : 1. In potential-time curve, all specimens became increasingly more noble after immersion in the test solution and reached between -70mV and 50mV (SCE) respectively after 12 hours. 2. The Ti and Ti alloy in the saline solution were most resistant to corrosion. They showed the typical passive behavior which was exhibited over the entire experimental range. Therefore no breakdown potentials were observed. 3. Comparing the rupture potentials, Ti and Ti alloy had the high(:st value (because their break-down potentials were not observed in this study potential range ) followed by Co-Cr-Mo alloy and stainless steel (316L). So , the corrosion resistance of titanium was cecellent, Co-Cr-Mo alloy slightly inferior and stainless steel (316L) much less. 4. The contact current density sinks faster than any other galvanic couple in the case of Ti/gold alloy. 5. Ag-Pd alloy coupled with Ti yielded high current density in the early stage. Furthermore, Ti became anodic. 6. Ti/Ni-Cr alloy showed a relatively high galvanic current and a tendency to increase.
The polarization resistance of mild steel in 0.5M hydrochloric acid has been evaluated by using impedance (Z) and linear polarization (LPR) techniques and compared to the noise resistance obtained from electrochemical noise data. The degree of localization of this general corrosion has also been discussed by evaluating localization index and power spectral density. Polarization resistance obtained by LPR technique ($28\Omega$) was higher than that obtained by impedance technique ($15\Omega$). Noise resistance ($11\Omega$) was much lower than polarization resistance measured by both of above techniques. Higher polarization resistance obtained by LPR technique is generally caused by passivation effect in the presence of scales or deposits which can introduce an increased resistance as can low conductivity electrolytes. The reason why noise resistance is lower than polarization resistance is the effect of background noise detected by using three platinum electrodes cell in 0.5M hydrochloric acid. Slope($-\beta$) of power spectral density (PSD) obtained from analysis of noise data ($-\beta$ = 3.3) was much higher than 2 which indicates mild steel corroded uniformly. Localization index (LI) calculated from statistical analysis (LI=0.08) is much lower than 1 which indicates that mild steel did not corroded locally. However, LI value is still higher than $1x10^{-3}$ and this indicates that mild steel corroded locally in microscopic point of view.
Journal of the Korean Society of Fisheries and Ocean Technology
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v.36
no.2
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pp.139-146
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2000
Cavitation can occur in pipes when liquid is moving at high velocity, especially at pittings where the smooth bore of the pipe is interrupted. The effect is usually to produce pitting on the downstream side of the turbulence. However, stress corrosion cracking behavior under cavitation erosion-corrosion was neatly unknown. In this study, therefore, some were investigated of stress corrosion cracking behavior, others were stress corrosion cracking behavior under cavitation erosion-corrosion of water injection. And datas obtained as the results of experiment were compared between the two. Mainresult obtained are as follows: 1) Stress corrosion cracking growth rate of heat affected zone under cavitation erosion-corrosion becomes most rapid, and stress intensity factor $K_1$becomes most high. 2) Stress corrosion cracking growth mechanism by cavitation erosion-corrosion is judgement on the strength of the film rupture model and the tunnel model. 3) The range of potential as passivation of heat affected zone is less noble than that of base metal, and that value is smaller. 4) Corrosion potential under cavitation erosion-corrosion in loaded stress is less noble than that of stress corrosion, and corrosion current density is higher.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.38
no.6
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pp.227-233
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2005
Electrochemical characteristics of welded stainless steels containing Ti have been studied by using the electrochemical techniques in 0.5 M $H_2SO_4$+0.01 M KSCN solutions at $25^{\circ}C$. Stainless steels with 12 mm thick-ness containing $0.2{\~}0.9 wt\%$ Ti were fabricated with vacuum melting and following rolling process. The stainless steels were solutionized for 1hr at $1050^{\circ}C$ and welded by MIG method. Samples were individually prepared with welded zone, heat affected zone, and matrix for intergranular corrosion and pitting test. Optical microscope, XRD and SEM are used for analysing microstructure, surface and corrosion morphology of the stainless steels. The welded zone of the stainless steel with lower Ti content have shown dendrite structure mixed with $\gamma$ and $\delta$ phase. The Cr-carbides were precipitated at twin and grain boundary in heat affected zone of the steel and also the matrix had the typical solutionized structure. The result of electrochemical measurements showed that the corrosion potential of welded stainless steel were Increased with higher Ti content. On the other hand, reactivation($I_r$), passivation and active current($I_a$) density were decreased with higher Ti content. In the case of lower Ti content, the corrosion attack of welded stainless steel was remarkably occurred along intergranular boundary and ${\gamma}/{\delta}$ phase boundary in heat affected zone.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2012.02a
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pp.541-541
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2012
InP quantum dots capped by myristic acid (InP-MA QDs) were synthesized by a typical hot injection method using MA as stablizing agent. The current density across the InP-MA QDs thin film which was fabricated by spin-coating method is about $10^{-4}A/cm^2$ at the electric field of 0.1 MV/cm from I-V measurement on a metal-insulator-metal (MIM) device. The low conductivity of the InP-MA QDs thin film is interpreted as due to the long interdistances among the dots governed by the MA molecules. Therefore, replacing the MA with thioacetic acid (TAA) by biphasic ligand exchange was conducted in order to obtain TAA capped InP QDs (InP-TAA). InP-TAA QDs were designed due to: 1) the TAA is very short molecule; 2) the thiolate groups on the surface of the InP-TAA QDs are expected to undergo condensation reaction upon thermal annealing which connects the QDs within the QD thin film through a very short linker -S-; and 3) TAA provides better passivation to the QDs both in the solution and thin film states which minimizing the effect of surface trapping states.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.7
no.1
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pp.81-92
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1997
Rear floating junction cell (RFJC), using the buried contact technology, is capable of eliminating the efficiency limitations on the single sided cells by providing betterear surface passivation. The implementation of this structure, is simpler and lower in cost and therefore viable for commercial production. However, the contributions, due to damages in the two sets of grooves, to the total dark saturation current density has limited the achievable efficiency of the RFJC to only 21.5 %. This Paper reports on the efficiency estimates of RFJC using PC-1D.
Short wave infrared (SWIR) photovoltaic devices have been fabricated from metal organic vapour phase epitaxy (MOVPE) grown n- on p- HgCdTe films on GaAs substrates. The MOVPE grown films were processed into mesa type discrete devices with wet chemical etching employed for meas delineation and ZnS surface passivatlon. ZnS was thermally evaporated from effusion cell in an ultra high vacuum (UHV) chamber. The main features of the ZnS deposited from effusion cell in UHV chamber are low fixed surface charge density, and small hysteresis. It was found that a negative flat band voltage with -0.6 V has been obtained for Metal Insulator Semiconductor (MIS) capacitor which was evaporated at $910^{\circ}C$ for 90 min. Current-Voltage (I-V) and temperature dependence of the I-V characteristics were measured in the temperature range 80 - 300 K. The Zero bias dynamic resistance-area product ($R_{0}A$) was about $7500{\Omega}-cm^{2}$ at room temperature. The physical mechanisms that dominate dark current properties in the HgCdTe photodiodes are examined by the dependence of the $R_{0}A$ product upon reciprocal temperature. From theoretical considerations and known current expressions for thermal and tunnelling process, the device is shown to be diffusion limited up to 180 K and g-r limited at temperature below this.
The corrosion of metals and alloys in flowing liquids can be classified into uniform corrosion and localized corrosion which may be categorized as follows. (1) Localized corrosion of the erosion-corrosion type: the protective oxide layer is assumed to be removed from the metal surface by shear stress or turbulence of the fluid flow. A macro-cell may be defined as a situation in which the bare surface is the macro-anode and the other surface covered with the oxide layer is the macro-cathode. (2) Localized corrosion of the differential flow-velocity corrosion type: at a location of lower fluid velocity, a thin and coarse oxide layer with poor protective qualities may be produced because of an insufficient supply of oxygen. A macro-cell may be defined as a situation in which this surface is the macro-anode and the other surface covered with a dense and stable oxide layer is the macro-cathode. (3) Localized corrosion of the active/passive-cell type: on a metal surface a macro-cell may be defined as a situation in which a part of it is in a passivation state and another in an active dissolution state. This situation may arise from differences in temperature as well as in the supply of the dissolved oxygen. Compared to uniform corrosion, localized corrosion tends to involve a higher wall thinning rate (corrosion rate) due to the macro-cell current as well as to the ratio of the surface area of the macro-anode to that of the macro-cathode, which may be rationalized using potential vs. current density diagrams. The three types of localized corrosion described above can be reproduced in a Jet-in-slit test by changing the flow direction of the test liquid and arranging environmental conditions in an appropriate manner.
Lee, Sang Hee;Yang, Hee Jun;Lee, Uk Chul;Lee, Joon Sung;Song, Hee-eun;Kang, Min Gu;Yoon, Jae Ho;Park, Sungeun
Current Photovoltaic Research
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v.9
no.4
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pp.128-132
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2021
Advances in screen printing technology have been led to development of high efficiency silicon solar cells. As a post PERx structure, an n-type wafer-based rear side TOPCon structure has been actively researched for further open-circuit voltage (Voc) improvement. In the case of the metal contact of the TOPCon structure, the poly-Si thickness is very important because the passivation of the substrate will be degraded when the metal paste penetrates until substrate. However, the thin poly-Si layer has advantages in terms of current density due to reduction of parasitic absorption. Therefore, poly-Si thickness and firing temperature must be considered to optimize the metal contact of the TOPCon structure. In this paper, we varied poly-Si thickness and firing peak temperature to evaluate metal induced recombination (Jom) and contact resistivity. Jom was evaluated by using PL imaging technique which does not require both side metal contact. As a results, we realized that the SiNx deposition conditions can affect the metal contact of the TOPCon structure.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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