전차 조준경으로 사용될 수 있는 2세대 열상장비를 개발하였다. 설계된 장비는 프랑스 Sofradir사의 $480\times6$ 배열 원적외선$(7.7{\mu}m-10.3{\mu}m)$ MCT(HgCdTe) 검출기를 이용하였고, $2.67^{\circ}\times2^{\circ}$의 고배율 협시계와 $10^{\circ}\times7.5^{\circ}$의 저배율 광시계의 이중배율을 가지고 있다. 또한 넓은 운용 온도 범위에서도 시스템의 성능이 저하되지 않도록 비열화 기술을 적용하였다. 설계된 장비는 고효율의 주사장치로 47만 화소의 실시간 영상 재현이 가능하며, 이는 1세대 열상장비에 비하여 화소수가 대폭 증가한 것이다. 적외선 검출소자들의 불균일 보정을 위해서 열전 냉각 소자를 이용한 두 점 보상 기법을 제시하여 실시간 보정이 이루어지게 하였고, 열영상 분포 히스토그램 가변 방식의 처리 기법을 제안하여 적용함으로써 대조비가 매우 낮은 표적의 식별도 용이하게 하였다. 설계 및 제작된 2세대 열상장비의 고배율에서 최소분해가능온도차를 측정한 결과, 2cycles/mrad의 공간주파수에서 0.05K 이하의 우수한 결과를 보였다.
The use of materials for modern lightweight auto-bodies is becoming more complex than hitherto assemblies. The high strength materials nowadays frequently used for more specific fields such as the front and rear sub frames, seat belts and seats are mounted to the assembled body structure using bolt joints. It is desirable to use nuts attached to the assembled sheets by projection welding to decrease the number of loose parts which improves the quality. In this study, nut projection welding was carried out between a nut of both boron steel and carbon steel and ultra-high strength hot-stamped steel sheets. Then, the joints were characterized by optical and scanning electron microscope. The mechanical properties of the joints were evaluated by microhardness measurements and pullout tests. An indigenously designed sample fixture set-up was used for the pull-out tests to induce a tensile load in the weld. The fractography analysis revealed the dominant interfacial fracture between boron steel nut weld which is related to the shrinkage cavity and small size fusion zone. A non-interfacial fracture was observed in carbon steel nut weld, the lower hardness of HAZ caused the initiation of failure and allowed the pull-out failure which have higher in tensile strengths and superior weldability. Hence, the fracture load and failure mode characteristics can be considered as an indication of the weldability of materials in nut projection welding.
$SiH_4$, $CH_4$, $B_2H_6$ 혼합기체를 이용하여 플라즈마 화학증착법으로 탄화실리콘 (a-SiC:H) 박막을 증착하였다. 증착중에 혼합기체중의$CH_4$농도 ($CH_4/CH_4+SiH_4$)를 변화시켜 얻은 박막의 물성을 SEM, XRD, Raman 분광법, FTIR, XPS, 광흡수도와 광전도도 분석을 통하여 살펴보았다. $SiH_4$기체만 이용하여 증착한 Si:H 박막은 비정질상태를 나타내었으나, $CH_4$가 첨가됨에 따라 실리콘 박막의 Si-$\textrm{H}_{n}$(n은 정수) 결합기가 Si-$\textrm{C}_{n}\textrm{H}_{m}$ (n,m은 정수) 형태의 결합기로 변화되었으며, 박막내 수소함량은 $CH_4$농도가 0~0.8의 범위에서 증가함에 따라 30~45% 범위에서 증가하였다. 반응기체중의 $CH_4$농도의 증가에 따라 박막 내의 탄소 농도가 증가함을 확인하였으며, 이에 따라 막의 전기비저항과 광학적밴드갭 역시 증가하였다.
시편의 열분석과 SEM 분석에서 투명한 BP-계열의 시료 중 BP-1은 두 가지의 미세한 상으로 형성된 액적을 가진 유리 상을 발견할 수 있었고 열처리에 의하여 불혼화 영역이 생겨났다. BP-2 시료의 경우에서는 구형의 불혼화 영역이 관찰되는데 이와 같은 불혼화 현상의 원인은 용융액 내에 존재하는 양이온의 이온장 세기에 의한 것으로 해석하였다. 그리고 BP-계열 유리의 파장에 대한 흡수도는 $Bi_2O_3$의 함량이 많을수록 크게 나타났으며 400~800 nm 파장범위에서 흡수도의 변화는 완만하게 나타났다. 그리고 자외선에 대한 흡수단은 좀더 긴 파장 쪽으로 이동하였다. FT-IR 스펙트럼에서 BP-계열의 유리는 PbO 함량이 많은 시료가 보다 큰 흡수가 일어났으며 $3382cm^{-1}$과 $2800cm^{-1}$에서 나타나는 흡수대는 각각 사면체 $BO_1$에서 B-O 신축진동에 해당하는 흡수대와 B-O-B 변각진동에 해당하는 흡수대임을 알 수 있었다. BP-계열에서 $3400cm^{-1}$ 흡수대들이 예리해지는 것은 유리질 내 생성된 결정상이 성장하고 있는 것으로 판명되었다.
The purpose of this' study was to compare surface roughness and morphologic changes after use of various plaque control devices to titanium implant surfaces. The study materials were 6 ITI titanium implants($Bonefit^{(R)}$) and 5 plaque control devices. 6 implants were divided into 6 different groups and instrumented by each plaque control devices as follows. 1) Group I : untreated control 2) Group II : Titanium curette(Titanium $curette^{(R)}$, 3i) 80 vertical/horizontal strokes 3) Group III : Plastic curette($Implacare^{(R)}$, Hu-Friedy) 80 vertical/horizontal strokes 4) Group N : Plastic tip-ultrasonic scaler($Amdent^{(R)}$, Amdent) 160 seconds 5) Group V : Rotating interdental brush($Identobrush^{(R)}$, Identoflex) 160 seconds 6) Group VI : Abrasive rubber cup polisher($Zircate^{(R)}$, Prophy paste, Dentsply) 160 sec-onds. All specimens were prepared for evaluation by surface roughness tester, optical stereomicroscopy(OM) and scanning electron microscopy(SEM). The Ra and Rt mean values of the tested specimens were 1) Group I ($Ra=0.170{\pm}0.007{\mu}m$, $Rt=1.297{\pm}0.016{\mu}m$) 2) Group II ($Ra=0.209{\pm}0.006{\mu}m$, $Rt=1.602{\pm}0.110{\mu}m$) 3) Group III ($Ra=0.179{\pm}0.001{\mu}m$, $Rt=1.429{\pm}0.055{\mu}m$) 4) Group IV ($Ra=0.182{\pm}0.005{\mu}m$, $Rt=1.511{\pm}0.085{\mu}m$) 5) Group V ($Ra=0.301{\pm}0.008{\mu}m$, $Rt=1.882{\pm}0.131{\mu}m$) 6) Group VI ($Ra=0.147{\pm}0.010{\mu}m$, $Rt=1.059{\pm}0.021{\mu}m$) In Ra values, experimental group II, V, VI were statistically significant different when compared with control. OM and SEM observation showed that experimental group III, IV were minimal changes when compared with control and group VI was smoothest among other experimental groups. The results suggested that plastic curette and plastic tip-ultrasonic scaler were predictable devices to titanium implant surface.
Purpose: This study aimed to evaluate the biocompatibility and the mechanical properties of ultraviolet (UV) cross-linked and biphasic calcium phosphate (BCP)-added collagen membranes and to compare the clinical results of ridge preservation to those obtained using chemically cross-linked collagen membranes. Methods: The study comprised an in vitro test and a clinical trial for membrane evaluation. BCP-added collagen membranes with UV cross-linking were prepared. In the in vitro test, scanning electron microscopy, a collagenase assay, and a tensile strength test were performed. The clinical trial involved 14 patients undergoing a ridge preservation procedure. All participants were randomly divided into the test group, which received UV cross-linked membranes (n=7), and the control group, which received chemically cross-linked membranes (n=7). BCP bone substitutes were used for both the test group and the control group. Cone-beam computed tomography (CBCT) scans were performed and alginate impressions were taken 1 week and 3 months after surgery. The casts were scanned via an optical scanner to measure the volumetric changes. The results were analyzed using the nonparametric Mann-Whitney U test. Results: The fastest degradation rate was found in the collagen membranes without the addition of BCP. The highest enzyme resistance and the highest tensile strength were found when the collagen-to-BCP ratio was 1:1. There was no significant difference in dimensional changes in the 3-dimensional modeling or CBCT scans between the test and control groups in the clinical trial (P>0.05). Conclusions: The addition of BCP and UV cross-linking improved the biocompatibility and the mechanical strength of the membranes. Within the limits of the clinical trial, the sites grafted using BCP in combination with UV cross-linked and BCP-added collagen membranes (test group) did not show any statistically significant difference in terms of dimensional change compared with the control group.
This study was performed to evaluate the effects of three different implant surface treatments to the bone formation during osseous healing period under unloading conditions. Machined, double-acid etched and anodic oxidized implants were inserted into tibia of 3.0 - 3.5 kg NZ white male rabbits and 2 animals of each group were sacrificed at 2, 4 and 8 weeks. The specimens containing implant was dehydrated and embedded into hard methylmethacrylate plastic. After grinding to $50{\mu}m$, the specimens were stained with Villanueva bone stain. From each specimen, histomorphometric evaluation and the bone implant contact rate were analysed with optical microscope. The results were as follows; 1. In the scanning electronic microscopic examination, machined surface implant had several shallow and paralleled scratches on plain surface, double acid-etched implant had lots of minute wrinkles, rough valley and also irregularly located craters that looked like waves, anodic oxidized surface implant had porosity that minute holes were wholly distributed on the surface. 2. After 2 weeks of implantation, the percentages of bone-to-implant contact in the machined implant, double acid-etched implant and anodic oxidized implant were 26.85%, 62.64% and 59.82%, after 4 weeks of implantation they were 64.29%, 77.85% and 75.23%, and after 8 weeks they were 82.66%, 85.34% and 86.39%. 3. After 2 weeks of implantation, the percentages of bone area between threads in the machined implant, double acid-etched implant and anodic oxidized implant were 21.55%, 42.81%, and 40.33%, after 4 weeks of implantation they were 49.32%, 62.60% and 75.56%, and after 8 weeks they were 71.62%, 87.73% and 83.94%. In summary, percentages of implant surface contacted to bone trabeculae and bone formation area inside threads in double acid-etched implants and anodic oxidized implants were greater than machined implants in early healing stage. These results suggest that double acid-etched and anodic oxidized surface implants could reduce the healing period for osseointegration and may enable to do early function.
For more than three decades, the gate dielectrics in CMOS devices are $SiO_2$ because of its blocking properties of current in insulated gate FET channels. As the dimensions of feature size have been scaled down (width and the thickness is reduced down to 50 urn and 2 urn or less), gate leakage current is increased and reliability of $SiO_2$ is reduced. Many metal oxides such as $TiO_2$, $Ta_2O_4$, $SrTiO_3$, $Al_2O_3$, $HfO_2$ and $ZrO_2$ have been challenged for memory devices. These materials posses relatively high dielectric constant, but $HfO_2$ and $Al_2O_3$ did not provide sufficient advantages over $SiO_2$ or $Si_3N_4$ because of reaction with Si substrate. Recently, $HfO_2$ have been attracted attention because Hf forms the most stable oxide with the highest heat of formation. In addition, Hf can reduce the native oxide layer by creating $HfO_2$. However, new gate oxide candidates must satisfy a standard CMOS process. In order to fabricate high density memories with small feature size, the plasma etch process should be developed by well understanding and optimizing plasma behaviors. Therefore, it is necessary that the etch behavior of $HfO_2$ and plasma parameters are systematically investigated as functions of process parameters including gas mixing ratio, rf power, pressure and temperature to determine the mechanism of plasma induced damage. However, there is few studies on the the etch mechanism and the surface reactions in $BCl_3$ based plasma to etch $HfO_2$ thin films. In this work, the samples of $HfO_2$ were prepared on Si wafer with using atomic layer deposition. In our previous work, the maximum etch rate of $BCl_3$/Ar were obtained 20% $BCl_3$/ 80% Ar. Over 20% $BCl_3$ addition, the etch rate of $HfO_2$ decreased. The etching rate of $HfO_2$ and selectivity of $HfO_2$ to Si were investigated with using in inductively coupled plasma etching system (ICP) and $BCl_3/Cl_2$/Ar plasma. The change of volume densities of radical and atoms were monitored with using optical emission spectroscopy analysis (OES). The variations of components of etched surfaces for $HfO_2$ was investigated with using x-ray photo electron spectroscopy (XPS). In order to investigate the accumulation of etch by products during etch process, the exposed surface of $HfO_2$ in $BCl_3/Cl_2$/Ar plasma was compared with surface of as-doped $HfO_2$ and all the surfaces of samples were examined with field emission scanning electron microscopy and atomic force microscope (AFM).
피션트랙 검출에 의해 고체 및 액체상태 지질물질 내 우라늄을 정밀정량하는 최적기법을 제안하고 그 적용성을 검증하였다. 우라늄 정량은 중성자 조사에 의해 유도시킨 $^{235}U$의 핵분열 흔적을 트랙 디텍터에 기록하여 고배율 현미경 하에서 계수함으로써 이루어진다. 우라늄-친화력이 좋은 암석(예: 화강암, 석탄)을 분말 펠릿시료로 만들어 건식 검출하면, 그다지 높지 않은 우라늄함량(<5 ppm, 즉 ${\mu}g\;g^{-1}$)에서도 빈번하게 함유된 함-우라늄광물에 기인한 트랙 군집현상으로 인해 시료의 전체평균 함량 결정이 쉽지 않았으며, 트랙 균질부와 군집부를 별도로 검토해야 한다. 시료의 균질성이 유지된다면 백운모-Lexan 디텍터에 의한 중복 측정과 여러 차례 중성자 조사에 의한 반복 측정에서 높은 재현성이 확인되었다. 건고 액체시료 경우에 $10^1ppm$ 수준 및 그 이상의 우라늄함량에서 흔히 나타나는 불균질 현상을 극복하기 위해, 진공 석영튜브를 이용한 습식 검출법을 제안한다. 습식 검출에서 우라늄 균질성은 $10^0ppm$ 수준 이하에서 회복되며, 측정하한은 $10^2ppb$ (i.e. $ng\;g^{-1}$) 수준까지 무난한 것으로 입증되었다.
본 논문에서는 라인스캔 카메라를 통해 모든 영역의 영상을 획득하는 연구를 제안한다. 이 방법은 기존의 면적 카메라를 이용했던 방법에 비해 투영격자의 이동 횟수를 획기적으로 줄일 수 있으며, 그로 인해 측정시간이 매우 빠르고 측정정밀도도 뛰어난 장점을 가진다. 본 논문의 스캐닝 모아레 측정 방법은 넓은 영역의 3차원 형상 정보를 얻는데 매우 유익하며, 대면적의 대상물 측정 시 일반적으로 사용하는 stitching 기법을 사용할 필요가 없으므로 한번에 전 영역의 3차원 형상의 복원이 가능하여 보다 빠른 속도로 3차원 형상 정보를 얻을 수 있는 효과가 있다. 또한, 투영격자 하나만을 이용한 영사식 모아레 방식을 이용하여 작은 높이 단차를 갖는 물체의 3차원 형상을 복원하고 그 높이를 용이하게 측정 할 수 있다. 본 연구는 양산환경(Mass production)의 웨이퍼 범프 높이 검사 및 FC-CSP나 FC-BGA 범프 높이 검사 등에 활용 할 수 있으며, 실험을 통해 기존의 방법에 비해 투영격자의 이동횟수 및 측정 속도가 향상되었음을 확인하였다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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