Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics
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v.22
no.2
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pp.97-105
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1985
Phosphorus and boron diffusion from doped PECVD oxide films into silicon have been studied. CVD PSG was also prepared to parallelly compare the diffusion characteristics of CVD PSG with that in PECVD PSG, The phosphorus diffusion experiments were performed in N2 and O2 ambient at the temperatures of 100$0^{\circ}C$, 105$0^{\circ}C$ and 110$0^{\circ}C$ The parameters of boron diffusion have been investigated from the doped film prepared by changing B2 H6 flow rate and deposition temperature. The diffusivities and diffusion profiles of the dopant into silicon were calculated by applying Barry's model using the measured parameters such as diffusion depth and surface concentration.
Journal of the Institute of Electronics Engineers of Korea SD
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v.43
no.3
s.345
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pp.9-14
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2006
The dependence of NBTI lifetime on the BEOL processes such as sintering gas type and passivation layer has been characterized in depth. Then, optimized BEOL process scheme is proposed to improve NBTI lifetime. NBTI showed degradation due to the plasma enhanced nitride (PE-SiN) passivation film and $H_2$ sintering anneal. Then, new process scheme of $N_2$ annealing instead of $H_2$ annealing prior to PE-SiN deposition is proposed. The proposed BEOL process flow showed that NBTI lifetime can be improved a lot without degradation of device performance and NMOS hot carrier reliability.
The use of a cooling fan in an induction cooker raises a reliability issue due to the attraction of dust causing a malfunction of the cooling fan and also increases the noise level and power consumption of the device. The purpose of this study is to attempt to solve these problems by molding the Cu coil of an induction cooker with polymer composites that have a low electrical conductivity but a high thermal conductivity. Among the several polymer composites tested in this study, an aluminum nitride-based composite showed the best performance. The results show that the new induction cooker with the molded composite can operate for an extended period of time without the use of a cooling fan. A further advantage of this new type of induction cooker is that the temperature of the substance in the cooking pot increases more rapidly, indicating an increased efficiency of the induction cooker.
The crystals of group-Ⅲ nitride semiconductors with wurtzite structure exhibit a strong polarity. Especially, GaN has characteristics of different growth rate, anisotropic electrical and optical properties due to the polarity. In this work, GaN epilayer was grown and the polarities of the crystals were observed by the chemical wet etching and SP-EFM. GaN thin films were deposited on c-plane A1₂O₃ substrate under the variations of growth conditions by HVPE such as the deposition temperature of the buffer layer, the deposition time, the ratio of Group-V and Ⅲ and the deposition temperature of the film. The adquate results were obtained under the conditions of 500℃, 90 seconds, 1333 and 1080℃, respectively. It is observed that the GaN layer grown without the buffer layer has N-polarity and the GaN layer grown on the buffer layer has Ga-polarity. Fine crystal single particles were grown on c-plane A1₂O₃ and SiO₂, layer. The external shape of the crystal shows {10-11}{10-10}(000-1) planes as expected in the PBC theory and anisotropic behavior along c-axis is obvious. As a result of etching on each plane, (000-1) and {10-11}planes were etched strongly due to the N-polarity and {10-10} plane was not affected due to the non-polarity. In the case of the crystal grown on c-plane A1₂O₃, two types of crystals were grown. They were hexagonal pyramidal-shape with {10-11}plane and hexagonal prism with basal plane. The latter might be grown by twin plane reentrant edge (TPRE) growth.
Proceedings of the Korean Society for Technology of Plasticity Conference
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2006.05a
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pp.421-424
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2006
High nitrogen steels (HNS) exhibit both high strength and ductility during tensile deformation. In the present study the Fe-18Cr-14Mn-4Ni-0.9N high nitrogen steel was heat treated at $1000^{\circ}C$ and $1100^{\circ}C$ to produce $Cr_2N$ precipitates in austenite matrix and full austenite microstructures, respectively. Tensile tests of the heat treated specimens were performed at two different strain rates of 0.05/sec and 0.00005/sec. Each tensile curve of the specimens could be well characterized by the the modified Ludwik equation. Plastic deformation of the steel was adequately represented by the four parameters of the modified Ludwik equation. At 0.05/s strain rate, the specimen with the $Cr_2N$ precipitate exhibited higher strength than the full austenite specimen, while the full austenite specimen showed better mechanical properties at 0.00005/s strain rate. It was found that the $Cr_2N$ precipitates influences deformation behavior of the high nitrogen steel significantly.
NbN thin films were deposited on thermally oxidized Si substrate at room temperature by using reactive magnetron sputtering in an $Ar-N_2$ gas mixture. Total sputtering gas pressure was fixed while varying $N_2$ flow rate from 1.4 sccm to 2.9 sccm. X-ray diffraction pattern analysis revealed dominant NbN(200) orientation in the low $N_2$ flow rate but emerging of (111) orientation with diminishing (200) orientation at higher flow rate. The dependences of the superconducting properties on the $N_2$ gas flow rate were investigated. All the NbN thin films showed a small negative temperature coefficient of resistance with resistivity ratio between 300 K and 20 K in the range from 0.98 to 0.89 as the $N_2$ flow rate is increased. Transition temperature showed non-monotonic dependence on $N_2$ flow rate reaching as high as 11.12 K determined by the mid-point temperature of the transition with transition width of 0.3 K. On the other hand, the upper critical field showed roughly linear increase with $N_2$ flow rate up to 2.7 sccm. The highest upper critical field extrapolated to 0 K was 17.4 T with corresponding coherence length of 4.3 nm. Our results are discussed with the granular nature of NbN thin films.
A composition containing a-$Si_3N_4$ with 5w/0 $Y_2O_3$ and 4w/0 $Al_2O_3$ was hot-pressed at 1, $650^{\circ}C$ and 350kg/$cm^2$ for 1.5hrs and specimens of the same composition were pressureless-sintered at 1, 75$0^{\circ}C$ for 1.5 and 5hrs. By X-ray diffraction it was found that hot-pressed specimens were consisted of $\alpha$-and $\beta$-$Si_3N_4$ and sintered specimens were consisted of $\beta$-$Si_3N_4$ and $Si_3N-4Y_2O_3$ which was crystallized out from the grainboundary phase. The 5-hr sintered specimens had higher degree of crystallization than the 1.5 hr sintered specimens. Among these three different specimens the 5-hr sintered specimens showed the highest strength by hot MOR test at 1, 00$0^{\circ}C$. The SPT diagram for the 5-hr sintered $Si_3N_4$ was constructed by measurements of the stress rate dependence of fracture strength.
International Journal of Fuzzy Logic and Intelligent Systems
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v.1
no.1
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pp.87-94
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2001
Silicon nitride films grown by plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) are useful for a variety of applications, including anti-reflecting coatings in solar cells, passivation layers, dielectric layers in metal/insulator structures, and diffusion masks. PECVD systems are controlled by many operating variables, including RF power, pressure, gas flow rate, reactant composition, and substrate temperature. The wide variety of processing conditions, as well as the complex nature of particle dynamics within a plasma, makes tailoring SiN film properties very challenging, since it is difficult to determine the exact relationship between desired film properties and controllable deposition conditions. In this study, SiN PECVD modeling using optimized neural networks has been investigated. The deposition of SiN was characterized via a central composite experimental design, and data from this experiment was used to train and optimize feed-forward neural networks using the back-propagation algorithm. From these neural process models, the effect of deposition conditions on film properties has been studied. A recipe synthesis (optimization) procedure was then performed using the optimized neural network models to generate the necessary deposition conditions to obtain several novel film qualities including high charge density and long lifetime. This optimization procedure utilized genetic algorithms, hybrid combinations of genetic algorithm and Powells algorithm, and hybrid combinations of genetic algorithm and simplex algorithm. Recipes predicted by these techniques were verified by experiment, and the performance of each optimization method are compared. It was found that the hybrid combinations of genetic algorithm and simplex algorithm generated recipes produced films of superior quality.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.27
no.5
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pp.223-228
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2017
Aluminum nitride (AlN) powder was successfully synthesized at low temperature via carbothermal reduction and nitridation (CRN) assisted by microwave heating. The synthesis processes of AlN powder were investigated with X-ray diffraction, FE-SEM, FT-IR and TGA/DSC. Aluminum nitrate was used as an oxidizer and aluminum source, urea as fuel, and glucose as carbon source. These starting materials were mixed with D.I water and reacted in a flask at $100^{\circ}C$ for 20 minutes. After the reaction was finished, black foamy intermediate product was formed, which was considered to be an amorphous $Al_2O_3$ particles through intermediate product obtained by solution combustion synthesis (SCS) at the results of X-ray diffraction patterns and FT-IR. This intermediate product was nitridated at temperatures of $1300^{\circ}C$ and $1400^{\circ}C$ in $N_2$ atmosphere by a microwave heating furnace and then decarbonated at $600^{\circ}C$ for 2 hours in air. It should be noticed from FE-SEM images that as nitridated particles, identified as AlN from X-ray diffraction patterns, are covered with carbon residues. After decarbonating the nitridated powders, the spherical pure AlN powders were obtained without alumina and their particle sizes were dependent on the nitridating temperature with high temperature of $1400^{\circ}C$ giving large particles of around 70~100 nm.
Journal of information and communication convergence engineering
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v.6
no.1
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pp.38-42
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2008
Highly sensitive and mechanically stable gas sensors have been fabricated using the microfabrication and micromachining techniques. The sensing materials used to detect the offensive $CH_3SH$ and $(CH_3)_3N$ gases are 1 wt% Pd-doped $SnO_2$ and 6 wt% $Al_2O_3$-doped ZnO, respectively. The optimum operating temperatures of the devices are $250^{\circ}C$ and $350^{\circ}C$ for $CH_3SH$ and $(CH_3)_3N$, respectively and the corresponding heater power is, respectively, about 55mW and 85mW. Excellent thermal insulation is achieved by the use of a double-layer membrane: i.e. $0.2{\mu}m$-thick silicon nitride and $1.4{\mu}m$-thick phosphosilicate glass. The sensors are mechanically stable enough to endure the heat cycles between room temperature and $350^{\circ}C$, at least for 30 days.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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