• 제목/요약/키워드: nano dot

검색결과 166건 처리시간 0.036초

사출 성형 공정을 이용한 나노급 패턴 제작 (Injection Molded Nano Scale Pattern)

  • 유영은;서영호;최두선;이준형;제태진;황경현
    • 대한기계학회:학술대회논문집
    • /
    • 대한기계학회 2004년도 춘계학술대회
    • /
    • pp.989-992
    • /
    • 2004
  • A new method is proposed to fabricate a reusable qualtz master with order of 100 nm dot pattern on its surface. Some fabrication conditions such as dose are investigated to find optimal condition. This reusable qualtz master is used directly as a stamper to injection mold the dot patterns. Polycarbonate and Polyoxymethylene are used as molding materials and the effect of the mold temperature is also investigated to see the moldabilty of the injection molding for very fine dot features.

  • PDF

InGaAs 양자점 레이저 다이오드와 양자우물 레이저 다이오드의 특성 비교 (Comparisons of lasing characteristics of InGaAs quantum-dot and quantum well laser diodes)

  • 정경욱;김광웅;유성필;조남기;박성준;송진동;최원준;이정일;양해석
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제16권5호
    • /
    • pp.371-376
    • /
    • 2007
  • 분자선 에피택시(molecular beam epitaxy, MBE)로 성장된 InGaAs 양자점 레이저 다이오드(quantum dot laser diode, QD-LD)와 InGaAs 양자우물 레이저 다이오드(quantum well laser diode, QW-LD)의 특성을 비교하였다. 펄스 입력전류 하에서 문턱전류밀도(threshold current density, $J_{th}$), 특성온도(characteristic temperature, $T_0$), 온도에 따른 발진파장의 변화도($d{\lambda}/dT$)를 측정한 결과, 양자우물 레이저 다이오드는 $J_{th}\;=\;322\;A/cm^2,\;T_0\;=\;55.2\;K,\;d{\lambda}/dT\;=\;0.41\;nm/^{\circ}C$로 측정되었으며, 양자점 레이저 다이오드는 $J_{th}\;=\;116\;A/cm^2,\;T_0\;=\;81.8\;K,\;d{\lambda}/dT\;=\;0.33\;nm/^{\circ}C$로 측정되었다. 양자점 레이저 다이오드는 양자우물 레이저 다이오드와 비교하였을 때, 문턱전류밀도 및 발진 광 파워가 상대적으로 우수한 결과를 보여주었다.

적색 양자점 필름을 이용한 백색 발광 다이오드의 연색성 개선에 대한 광학 시뮬레이션 연구 (Optical Simulation Study of the Improvement of Color-rendering Characteristics of White Light-emitting Diodes by Using Red Quantum-dot Films)

  • 이기정;홍승찬;이정균;고재현
    • 한국광학회지
    • /
    • 제32권4호
    • /
    • pp.163-171
    • /
    • 2021
  • 조명에 사용되는 일반적인 백색 발광 다이오드는 청색 발광 다이오드 위에 황색 형광체를 입힌 구조가 보편적이나 발광 스펙트럼상 짙은 적색 성분이 부족해서 조명의 연색성이 떨어지는 문제가 있다. 본 연구에서는 백색 발광 다이오드의 연색 특성을 개선하기 위해 적색 양자점 조명을 백색 조명의 확산판에 적용한 후 광학 시뮬레이션을 이용해 광구조를 최적화하고자 하였다. 양자점의 평균 자유 행정 및 확산판 내 TiO2 입자의 농도를 조절해 연색지수, 휘도 등 광특성을 조사했다. 대부분의 조건에서 연색지수는 90을 넘었고 이는 적색 양자점 필름의 적용이 일반적인 백색 발광 다이오드의 연색 특성을 개선하는 데 효과적인 방법임을 보여준다. 색좌표의 각도 의존성은 확산판과 조명 하단의 반사판 사이에 형성되는 광학적 공동 구조를 활용함으로써 제거할 수 있었는데 이는 공동 내 위치한 양자점 필름을 통한 빛의 다중 투과가 시야각에 따른 광경로의 차이를 줄였기 때문으로 해석된다.

InP/ZnS Core/shell as Emitting Layer for Quantum Dot LED

  • Kwon, Byoung-Wook;Son, Dong-Ick;Lee, Bum-Hee;Park, Dong-Hee;Lim, Ki-Pil;Woo, Kyoung-Ja;Choi, Heon-Jin;Choi, Won-Kook
    • 한국진공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
    • /
    • pp.451-451
    • /
    • 2012
  • Instead of a highly toxic CdSe and ZnScore-shell,InP/ZnSecore-shell quantum dots [1,2] were investigated as an active material for quantum dot light emitting diode (QD-LED). In this paper, aquantum dot light-emitting diode (QDLED), consisting of a InP/ZnS core-shell type materials, with the device structure of glass/indium-tin-oxide (ITO)/PEDOT:PSS/Poly-TPD/InP-ZnS core-shell quantum dot/Cesium carbonate(CsCO3)/Al was fabricated through a simple spin coating technique. The resulting InP/ZnS core-shell QDs, emitting near blue green wavelength, were more efficient than the above CdSe QDs, and their luminescent properties were comparable to those of CdSe QDs.Thebrightness ofInP/ZnS QDLED was maximumof 179cd/m2.

  • PDF

Analysis of In/Ga Inter-Diffusion Effect on the Thermodynamical Properties of InAs Quantum Dot

  • Abdellatif, M.H.;Song, Jin Dong;Lee, Donghan;Jang, Yudong
    • Applied Science and Convergence Technology
    • /
    • 제25권6호
    • /
    • pp.158-161
    • /
    • 2016
  • Debye temperature is an important thermodynamical factor in quantum dots (QDs); it can be used to determine the degree of homogeneity of a QD structure as well as to study the interdiffusion mechanism during growth. Direct estimation of the Debye temperature can be obtained using the Varshni relation. The Varshni relation is an empirical formula that can interpret the change of emission energy with temperature as a result of phonon interaction. On the other hand, phonons energy can be calculated using the Fan Expression. The Fan expression and Varshni relation are considered equivalent at a temperature higher than Debye temperature for InAs quantum dot. We investigated InAs quantum dot optically, the photoluminescence spectra and peak position dependency on temperature has been discussed. We applied a mathematical treatment using Fan expression, and the Varshni relation to obtain the Debye temperature and the phonon energy for InAs quantum dots sample. Debye temperature increase about double compared to bulk crystal. We concluded that the In/Ga interdiffusion during growth played a major role in altering the quantum dot thermodynamical parameters.

Poly-Si 기판을 이용한 저온 공정 metal dot nano-floating gate memory 제작 (Fabrication of low temperature metal dot nano-floating gate memory using ELA Poly-Si thin film transistor)

  • 구현모;신진욱;조원주;이동욱;김선필;김은규
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
    • /
    • pp.120-121
    • /
    • 2007
  • Nano-floating gate memory (NFGM) devices were fabricated by using the low temperature poly-Si thin films crystallized by ELA and the $In_2O_3$ nano-particles embedded in polyimide layers as charge storage. Memory effect due to the charging effects of $In_2O_3$ nano-particles in polyimide layer was observed from the TFT NFGM. The post-annealing in 3% diluted hydrogen $(H_2/N_2)$ ambient improved the retention characteristics of $In_2O_3$ nano-particles embedded poly-Si TFT NFGM by reducing the interfacial states as well as grain boundary trapping states.

  • PDF

블록 공중합체 박막을 이용한 텅스텐 나노점의 형성 (Fabrication of Tungsten Nano Dot by Using Block Copolymer Thin Film)

  • 강길범;김성일;김영환;박민철;김용태;이창우
    • 마이크로전자및패키징학회지
    • /
    • 제13권3호
    • /
    • pp.13-17
    • /
    • 2006
  • 밀도가 높고 주기적인 배열의 기공과 나노패턴이 된 텅스텐 나노점이 실리콘 산화물/실리콘 기판위에 형성이 되었다. 기공의 지름은 25 nm이고 깊이는 40 nm 이었으며 기공과 기공 사이의 거리는 60 nm이었다. nm 크기의 패턴을 형성시키기 위해서 자기조립물질을 사용했으며 폴리스티렌(PS) 바탕에 벌집형태로 평행하게 배열된 실린더 모양의 폴리메틸메타아크릴레이트(PMMA)의 구조를 형성했다. 폴리메틸메타아크릴레이트를 아세트산으로 제거하여 폴리스티렌만 남아있는 건식 식각용 마스크를 만들었다. 실리콘 산화막은 불소 기반의 화학반응성 식각법을 이용하여 식각했다. nm크기의 트렌치 안에 선택적으로 증착된 텅스텐 나노점을 만들기 위해서 저압화학기상증착(LPCVD)방법을 이용하였다. 텅스텐 나노점과 실리콘 트렌치의 지름은 26 nm 와 30 nm였다.

  • PDF