It is well known that a multicomponent $Zr_{4l.2}Ti_{13.8}Cu_{12.5}Ni_{10}Be_{22.5}$ bulk metallic glass alloy shows good bulk glass forming ability due to its high resistance to crystallization in the undercooled liquid state. DSC and XRD have been performed to confirm the amorphous structure of the master alloy. To investigate the mechanical properties and deformation behavior of the bulk metallic $Zr_{4l.2}Ti_{13.8}Cu_{12.5}Ni_{10}Be_{22.5}$ alloy, a series of compression tests has been carried out at the temperatures ranging from $351^{\circ}C$ to $461^{\circ}C$at the various initial strain rates from $2{\times}10^4s^1$ to $2{\times}10^2s^1$. Three types of nominal stress-strain curves have been identified such as linear stress-strain relationship meaning fracture at maximum stress, plastic deformation including stress overshoot and steady-state flow, plastic deformation without stress overshoot depending on the strain rate and test temperature. Also DSC analysis for the compressed specimens was carried out to investigate the change of structure, thermal stability and crystallization behavior for the various test conditions.
Kim, Si-Joon;Kim, Dong-Lim;Kim, Doo-Na;Kim, Hyun-Jae
Journal of Information Display
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v.11
no.4
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pp.165-168
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2010
A solution-processed multicomponent oxide, yttrium hafnium zinc oxide (YHZO), was synthesized and deposited as a gate insulator. The YHZO film annealed at $600^{\circ}C$ contained an amorphous phase based on the results of thermogravimetry, differential thermal analysis, and X-ray diffraction. The electrical characteristics of the YHZO film were analyzed by measuring the leakage current. The high dielectric constant (16.4) and high breakdown voltage (71.6 V) of the YHZO films resulted from the characteristics of $HfO_2$ and $Y_2O_3$, respectively. To examine if YHZO can be applied to thin-film transistors (TFTs), indium gallium zinc oxide TFTs with a YHZO gate insulator were also fabricated. The desirable characteristics of the YHZO films when used as a gate insulator show that the limitations of the general binary-oxide-based materials and of the conventional vacuum processes can be overcome.
Crystallizable glasses with precipitation of celsian, anorthite, wollastonite and gahnite were prepared for the purpose of insulating dielectric layers in devices such as integrated circuit substrates. The starting glasses were prepared by melting the batches for 1 hour at 1450.deg. C and then Quenching to a distilled water. And crystallization behavior of these glasses were studied by DTA, TMA, XRD analysis and by the measurement of dielectric properties. The overall composition of the glass-ceramic consists in weight percent of 30-35% A1$_{2}$O$_{3}$, 13-26% BaO, 5-21% CaO, 10-24% ZnO, 4.5-9.0% TiO$_{2}$ and 4-8% B$_{2}$O$_{3}$. As a result, in barium-rich glasses only celsian phase was developed in the range of 850-900.deg. C. Also, the thermal expansion coefficient, dielectric constant and quality factor of these glass-ceramics were 68*10$^{-7}$ /.deg. C, about 9 and more than 1000, respectively.
In this study, the thermal and optical proper-ties of multicomponent oxide glass fiber for IR sensor by adding heavy metal oxide Ga$_{2}$O$_{3}$ were investigated. The fiber samples were made by rod-in tube method. The optical loss of fiber was measured in 0.3-1.8/M wavelength region. As Ga$_{2}$O$_{3}$ increased up to 12wt%, the transition and softening temperature of bulk glass were increased from 495.deg. C to 564.deg. C and from 548.deg. C to 612.deg. C respectively. Whereas the thermal expansion coefficient was decreased from 102 to 88.2*10$^{-7}$ /.deg. C. The refractive index was increased from 1.621 to 1.662, and IR cut-off wavelength was enlarged from 4.64.mu.m to 5.22.mu.m. The optical loss of fiber was decreased and more remarkably decreased in 1.146.mu.m-1.8.mu.m wavelength region.
Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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2015.05a
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pp.77-77
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2015
Metallic glass alloys having dense packing structure have short range ordered structure with long range homogeneity. Therefore, they can provide complete corrosion protection and unique electrical properties. Recently, metallic glass thin films have received much attention to extend its application fields combining with PVC coating technologies. The metallic glass thin films can change the surface properties of the conventional bulk materials which need anticorrosion properties. However, multi-component alloying targets are required to fabricate the metallic glass thin films because metallic glass alloys contain more than three elements. Recently, many researchers have been reported the properties of the metallic glass thin films synthesized with multi-cathode systems or amorphous target. But, it is difficult to fabricate the large sized sputtering targets for mass production equipment with high toughness and thermal stability. In this study, newly developed sputtering target with glass forming ability and the properties of the metallic glass thin films will be introduced with respect to the various application fields such as bipolar plate in PEM fuel cell and decorative coatings for electric device and construction fields.
Recently, the multi-screening of target materials has been made possible by the development of the surface plasmon resonance (SPR) imaging method. To adapt this method to biochemical analysis, the multi-patterning technology of protein microarrays is required. Among the different methods of fabricating protein microarrays, the microfluidic platform was selected due to its various advantages over other techniques. Microfluidic devices were designed and fabricated with polydimethylsiloxane (PDMS) by the replica molding method. These devices were designed to operate using only capillary force, without the need for additional flow control equipment. With these devices, multiple protein-patterned sensor surfaces were made, to support the two-dimensional detection of various protein-protein interactions with SPR. The fabrication technique of protein microarrays can be applied not only to SPR imaging, but also to other biochemical analyses.
Recently molybdenum alloys have been introduced as accident tolerating materials for cladding of fuel rods. Molybdenum element has seven stable isotopes with different neutron absorption cross section used in various fields, including nuclear physics and radioisotope production. This study presents separation approaches for all intermediate isotopes of molybdenum element by squared-off cascades using a newly developed numerical code with Salp Swarm Algorithm (SSA) optimization algorithm. The parameters of cascade including feed flow rate, feed entry stage, cascade cut, input feed flow rate to gas centrifuges (GCs), and cut of the first stage are optimized to maximize both isotope recovery and cascade capacity. The squared off and squared cascades are studied, and the efficiencies are compared. The results obtained from the optimization showed that for the selected squared off cascade, Mo94 in four separation steps, Mo95 in five steps, Mo96 in six steps, Mo97 in seven steps, and Mo98 in two steps are separated to the desired concentrations. The highest recovery factor is obtained 63% for Mo94 separation and lowest recovery factor is found 45% for Mo95.
Kim, Jung-Hye;Son, Dae-Ho;Kim, Dae-Hwan;Kang, Jin-Kyu;Ha, Ki-Ryong
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2010.02a
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pp.200-200
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2010
In recent times, metal oxide semiconductors thin films transistor (TFT), such as zinc and indium based oxide TFTs, have attracted considerable attention because of their several advantageous electrical and optical properties. There are many deposition methods for fabrication of ZnO-based materials such as chemical vapor deposition, RF/DC sputtering and pulsed laser deposition. However, these vacuum process require expensive equipment and result in high manufacturing costs. Also, the methods is difficult to fabricate various multicomponent oxide semiconductor. Recently, several groups report solution processed metal oxide TFTs for low cost and non vacuum process. In this study, we have newly developed solution-processed TFTs based on Ti-related multi-component transparent oxide, i. e., InTiO as the active layer. We propose new multicomponent oxide, Titanium indium oxide(TiInO), to fabricate the high performance TFT through the sol-gel method. We investigated the influence of relative compositions of Ti on the electrical properties. Indium nitrate hydrate [$In(NO^3).xH_2O$] and Titanium isobutoxide [$C_{16}H_{36}O_4Ti$] were dissolved in acetylacetone. Then monoethanolamine (MEA) and acetic acid ($CH_3COOH$) were added to the solution. The molar concentration of indium was kept as 0.1 mol concentration and the amount of Ti was varied according to weighting percent (0, 5, 10%). The complex solutions become clear and homogeneous after stirring for 24 hours. Heavily boron (p+) doped Si wafer with 100nm thermally grown $SiO_2$ serve as the gate and gate dielectric of the TFT, respectively. TiInO thin films were deposited using the sol-gel solution by the spin-coating method. After coating, the films annealed in a tube furnace at $500^{\circ}C$ for 1hour under oxygen ambient. The 5% Ti-doped InO TFT had a field-effect mobility $1.15cm^2/V{\cdot}S$, a threshold voltage of 4.73 V, an on/off current ratio grater than $10^7$, and a subthreshold slop of 0.49 V/dec. The 10% Ti-doped InO TFT had a field-effect mobility $1.03\;cm^2/V{\cdot}S$, a threshold voltage of 1.87 V, an on/off current ration grater than $10^7$, and a subthreshold slop of 0.67 V/dec.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2011.02a
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pp.501-501
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2011
산업이 고도화, 다원화, 세계화되고 있는 현대사회는 다기능성, 고물성, 극한 내구성을 가지며 환경 친화적이면서 에너지 효율을 극대화시킬 수 있는 다기능 소재의 개발을 요구하고 있다. 이러한 시점에서 다양한 물성을 동시에 발현이 가능한 코팅 소재는 향후 미래에 중요한 원천소재로서 주목되고 있다. 특히, 환경에 의해 쉽게 물성 및 구조의 변화가 쉬운 종래의 코팅소재와는 달리, 다양한 외부환경에서도 미세 구조 및 물성을 안정적으로 유지할 수 있는 신개념의 코팅 소재의 개발이 절실히 요구되고 있다. 이를 위해서는 코팅소재의 다 성분화가 필수적이다. 최근의 코팅 기술은 2가지 이상의 물성, 특히 서로 상반되는 물성을 동시에 구현할 수 있는 소재의 개발을 요구하고 있다. 이러한 물성의 구현을 위하여 더 많은 성분으로 구성되며 더욱 복잡한 조직으로 구성된 코팅층에 대한 개발이 필요하다. 본 연구에서 목표로 하는 신 개념의 원천소재기술은 4 성분계 이상의 원료 물질을 단일 타겟으로 제조하여, 단순한 코팅공정으로서 단일 코팅층 내에 다양한 성분상이 10 nm 미만 크기의 나노 결정립/나노 비정질로 구성된 나노 복합 구조로 형성되도록 하는 기술을 개발하고자 하는 것이다. 이는 복합기능 3 이상의 다기능성 부여는 물론, 그림 1에 명시되어 있는 극한 기능성(광대역 윤활성, 전자 이동 제어에 의한 온도 저항 계수 및 전기 저항 조절, 고온 열적 안정성, 내산화성, 고열전도율, 초저마찰/내구성/초고경도성 등)이 구현되도록 하는 소재 개발과 원하는 물성을 구현할 수 있는 나노 복합 코팅층의 형성 공정으로 구성된다. 다성분계 모물질의 개발이 중요한 이유는 다수의 성분 원소를 합금 상태로 형성시킴으로서, 단일 소스에 의해 다양한 원소를 동시에 스퍼터링 및 증착이 가능하도록 할 수 있다는 장점을 가지기 때문이다. 특히, 타겟의 미세구조를 나노구조화 하는것을 통해, 스퍼터링 yield의 차이가 큰 원소일지라도 균일하게 증착시킬 수 있는 방법을 제시하고자한다. 이러한 연구는 다수의 성분 타겟을 사용함으로서 장비의 복잡성, 코팅의 재현성, 대형화 등의 문제점을 본질적으로 갖고 있는 기존 PVD 공정의 문제점을 해결하기 위한 최적의 대안이라할 수 있다. 본 발표에서는 3가지 이상의 다기능성 구현을 위한 가장 중요한 원천기술이라 할 수 있는 다성분계 타겟 모물질 제조 기술에 대해 소개하고자 한다.
Calculations of chemical equilibrium for multicomponent aqueous systems of the HyBRID dissolution of magnetite were performed by using the HSC Chemistry. They were done by using a Pitzer-based aqueous solution model with the recipe of raw materials in experiments conducted at KAERI. The change in the amounts of species and ions and the pH values of the solution at equilibrium was observed as functions of temperature and raw amount of CuSO4. Precipitation of Cu2O occurred at a large amount of CuSO4 added to the solution, while no precipitation of Cu(OH)2 was found at any amounts of CuSO4. The E-pH diagrams for Cu were constructed at various Cu concentrations to provide the effect of the Cu concentration on the pH values at boundaries where the coexistence of Cu+ ion and Cu2O solid occurred. To prevent Cu+ ions from being precipitated to Cu2O, the raw amount of CuSO4 should be adjusted so that the pH value of the solution from the equilibrium calculation is less than that from the E-pH diagram. We provided guidelines for the raw amount of CuSO4 and the pH value of the solution, which prevent the formation of Cu2O precipitates in the HyBRID dissolution experiments for magnetite.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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