• 한국레이저가공학회지
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• 제18권4호
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• pp.12-16
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• 2015

The research on multi electron beam systems is being carried out by various methods. We are studying multi electron beam system using miniaturized electron beam columns. The column consists of electrostatic lenses, electrostatic deflector and tip emitter. Our operating system controls 4 column array, captures images of each column and maintains the instrument. We present the usefulness of our operating system for multi columns by capturing images of each column.

• 반도체디스플레이기술학회지
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• 제9권1호
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• pp.17-21
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• 2010

Currently miniaturized electron-optical columns find their way into electron beam lithography systems. For better lithography process, it is required to make smaller spot size and longer working distance. But, the micro-columns of the multi-beam lithography system suffer from chromatic and spherical aberration, even when the electron beam is exactly on the symmetric axis of the micro-column. The off-axis error of the electron emitting source is expected to become worse with increasing off-axis distance of the focusing spot. Especially the electron beams far from the system optical axis have a non-negligible asymmetric intensity distribution in the micro-column. In this paper, the effect of the off-axis e-beam source is analyzed. To analyze this effect is to introduce a micro-column model of which the e-beam emitting source is aligned with the center of the electron beam by shifting them perpendicular to the system optical axis. The presented solution can be used to analysis the performance of the multi-electron-beam system. The performance parameters, such as the working distances and the focusing position are obtained by the computational simulations as a function of the off-axis distance of the emitting source.

• 한국광학회지
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• 제13권4호
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• pp.314-318
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• 2002

저전압(~1 ㎸)에서 구동되어 수 ㎁의 전류를 얻을 수 있는 초소형 전자 칼럼(microcolumn) 설계를 위한 프로브(probe) 빔의 직경이 최소가 되는 전자 광학계의 조건을 조사하였다. 프로브 빔의 최소 직경은 전자 방출원의 특성에 의존하는데, 동일 조건의 광학계에 대하여 thermal field emitter(TFE)인 경우 ~20 ㎚인 반면 cold field emitter(CFE)인 경우 ~10 ㎚인 것으로 조사되었다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집
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• pp.473-474
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• 2009

A miniaturized electrostatic column consists of a set of scan-deflector and lens components. Electrical noises of scan-deflectors have been classified by the applied voltage, and analyzed the noise effects of electron beam passing through the deflectors.

• 한국산학기술학회논문지
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• 제19권11호
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• pp.1-7
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• 2018

마이크로칼럼에서는 전자빔을 스캔하기 위해 초소형화된 정전디플렉터를 사용하는 경우가 많다. 주로 두 개의 8중극 디플렉터(double octupole deflector)를 사용하는 경우가 많은데, 이는 스캔 영역을 넓게 하면서도 전자빔이 대물렌즈를 통과할 때에 광축 근처에 위치하도록 함으로써 수차를 작게 유지할 수 있는 장점이 있기 때문이다. 마이크로칼럼은 최종적으로는 멀티 칼럼 형태로 사용하여 전자빔 장비의 throughput을 높이고자 하는 목적으로 연구가 되고 있는데, 칼럼의 수가 많아지게 되면 각 부품에 연결되는 배선의 수도 함께 증가하게 된다. 이에 따라 정전렌즈, 디플렉터 등의 마이크로칼럼 부품 배선을 진공 챔버 밖에 있는 제어장비와 연결하는 과정에서 실질적인 문제에 봉착하게 된다. 이러한 문제를 완화하기 위하여 렌즈 수를 최소화할 수 있도록 대물렌즈를 제거한 마이크로칼럼 구조를 선택하여, 변형된 4중극 및 8중극 디플렉터의 동작을 전산모사 방법으로 연구하였다. 기본적으로 MEMS 공정을 적용하기 용이한 실리콘 디플렉터 구조에서 각 전극의 크기를 동일하게 하지 않고, 서로 다른 크기의 전극을 교대로 배치하도록 디자인하였다. 8중극과 4중극 디플렉터 각각에서 디플렉터 전압을 인가하는 구동전극의 크기에 변화를 주었을 때 스캔 영역과 디플렉터 중심점에서의 전기장의 변화를 조사하여 비교하였다. 스캔 영역은 디플렉터전압에 따라 선형적으로 비례하였다. 스캔영역과 중심점에서의 전기장 세기 모두 8중극 디플렉터에 비해 4중극 디플렉터에서 더 크게 나타났으며, 전극의 크기에 따라 약 1.3 ~ 2.0 배 큰 것으로 조사되었다.