이중 $\delta$ 도핑층을 이용한 Si 채널 MESFET의 성능 향상에 관한 연구
(Performance enhancement of Si channel MESFET using double $\delta$ -doped layers)
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- 전자공학회논문지D
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- 제34D권12호
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- pp.69-75
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- 1997