There is a need for the development of transparent conductive materials that are economical and environmentally friendly with exhibit low resistivity and high transmittance in the visible spectrum. In this study, the deposition rate and uniformity of Al-doped ZnO-thin films were improved by changing the Z-motion of the sputtering system. The deposition rate and the uniformity were determined to be 3.44 nm/min and 1.23%, respectively, under the 10 mm Z-motion condition. During $O_2$ plasma treatment, the intrusion-type metal elements in the thin film were reduced, which contributed to an oxygen vacancy reduction in addition to structural stabilization. Moreover, the sheet resistance was more easily saturated.
In this study, nitrous oxide ($N_2O$) emission was compared between the operations of two different sequencing batch reactors, conventional sequencing batch reactor (CNVSBR) and simultaneous nitrification and denitrification sequencing batch reactor (SND-SBR), using synthetic wastewater. The CNV-SBR consisted of anoxic (denitrification) and aerobic phases, whereas the SND-SBR consisted of a microaerobic (low dissolved oxygen concentration) phase, which was achieved by intermittent aeration for simultaneous nitrification and denitrification. The CNV-SBR emitted 3.9 mg of $N_2O$-N in the denitrification phase and 1.6 mg of $N_2O$-N in the nitrification phase, resulting in a total emission of 5.5mg from 432mg of $NH_4^+$-N input. In contrast, the SND-SBR emitted 26.2mg of $N_2O$-N under the microaerobic condition, which was about 5 times higher than the emission obtained with the CNV-SBR at the same $NH_4^+$-N input. From the $N_2O$ yield based on $NH_4^+$-N input, the microaerobic condition produced the highest yield (6.1%), followed by the anoxic (0.9%) and aerobic (0.4%) conditions. It is thought that an appropriate dissolved oxygen level is critical for reducing $N_2O$ emission during nitrification and denitrification at wastewater treatment plants.
높은 안전성과 견고한 기계적 특성을 가진 고체상 슈퍼커패시터는 차세대 에너지 저장 장치로서 세계적 관심을 끌고 있다. 슈퍼커패시터의 전극으로서 경제적인 탄소 기반 전극이 많이 사용되는데 수계 전해질을 도입하는 경우 소수성 표면을 가진 탄소 기반 전극과의 계면 상호성이 좋지 않아 저항이 증가한다. 이와 관련하여 본 연구에서는 전극 표면에 산소 플라즈마 처리를 하여 친수화된 전극과 수계 전해질 사이의 향상된 계면 성질을 기반으로 더 높은 전기화학적 성능을 얻는 방법을 제시한다. 풍부해진 산소 작용기들로 인한 표면 친수화 효과는 접촉각 측정을 통해 확인하였으며, 전력과 지속시간을 조절함으로써 친수화 정도를 손쉽게 조절할 수 있음을 확인하였다. 수계 전해질로 PVA/H3PO4 고체상 고분자 전해질막을 사용하였으며 프레싱하여 전극에 도입하였다. 15 W의 낮은 전력으로 5초간 산소 플라즈마 처리를 시행하는 것이 최적 조건이었으며 슈퍼커패시터의 에너지 밀도가 약 8% 증가하였다.
The formation of inorganic thin films in low-temperature solution processes is necessary for a wide range of commercial applications of organic electronic devices. Aluminum oxide thin films can be utilized as barrier films that prevent the deterioration of an electronic device due to moisture and oxygen in the air. In addition, they can be used as the gate insulating layers of a thin film transistor. In this study, aluminum oxide thin film were formed using two methods simultaneously, a thermal process and the DUV process, and the properties of the thin films were compared. The result of converting aluminum nitrate hydrate to aluminum oxide through a hybrid process using a thermal treatment and DUV was confirmed by XPS measurements. A film-based a-IGZO TFT was fabricated using the formed inorganic thin film as a gate insulating film to confirm its properties.
열처리에 의한 광섬유 코어의 모드 확산과 모드 진화 현상을 이용하여 일반 통신용 단일모드 광섬유와 하이텔타(high ${\Delta}$) 광섬유 사이의 접속 손실을 줄일 수 있는 기법들을 제시하였다. 실험결과는 하이텔타 광섬유의 적절한 열처리를 통해 기계적 접속 손실이 2.3 dB에서 0.1 dB까지 감소함을 나타내었다. 반면 융착접속 후 접속 부위에 전기 방전이나 산소 불꽃으로 열을 인가하는 방법으로 $0.2{\sim}0.4dB$ 정도의 접속 손실을 달성하였다.
Previous investigation results revealed that after the Low Temperature Plasma (LTP) treatment, the hydrophilicity of wool fiber was improved significantly. Such improvement enhances the wool dyeing and finishing processes which might be due to the changes of the wool surface to a more reactive one. In this paper, wool fibers were treated with LTP with different gases, namely, oxygen, nitrogen and gas mixture (25 % hydrogen/75 % nitrogen). Investigations showed that chemical composition of wool fiber surface varied differently with the different plasma gas used. The surface chemical composition of the different LTP-treated wool fibers was evaluated with different characterization methods, namely FTIR-ATR, XPS and saturated adsorption value. The experimental results were thoroughly discussed.
For the modification of wool surface, wool fabrics treated with oxygen low-temperature plasma(LTP) and dichloroisocyanuric acid(DCCA) were dyed with milling type acid dye. The difference of dyeing properties on modified and control wool fabric were investigated. DCCA treated wool showed that saturation dye uptake and dyeing desorption ratio were higher than LTP treated wool. Dyeing transition temperatures of DCCA and LTP treated wool fabrics were 20$^{\circ}C$ degree lower than control wool fabric. In light color fastness test, DCCA treated wool fabric was 1 grade lower than LTP or control wool fabric.
To investigate the relationship between heat treatment in zirconium alloy tubing process and metallurgical characteristics of Zr-1Nb-0.69Sn-0.11Fe alloy tubes, mechanical and oxidation behaviors of tubes heat treated at different temperatures after the final pilgering were investigated. The stress strain curves exhibited the saturation behaviors in all heat treatment conditions ($460{\sim}600^{\circ}C$) in this study with the onset strain of saturation increased with increase of post-pilgering annealing temperature. The strength fell off rapidly with increasing annealing temperature. The ultimate strength of the low tin Zr-1Nb-0.69Sn-0.11Fe alloy with slightly higher iron and oxygen contents in this study was found to be higher than Zr-1Nb-1Sn-0.1Fe alloy. The oxidation experiments in steam condition revealed that the corrosion resistance of low tin Zr-1Nb-0.69Sn-0.11Fe alloy was better than the Zr-1Nb-1Sn-0.1Fe alloy with a higher Sn content. The weight gain of low tin Zr-1Nb-0.69Sn-0.11Fe alloy tubes gradually increased with the increasing annealing temperature possibly due to the decreased Nb content in the matrix because of the formation of ${\beta}-Nb$ particles.
The effects of surface modification by nitric acid on the pre-treatment of electroless copper plating were investigated. Copper was electroless-plated on the nitric acid treated graphite activated by a two-step pre-treatment process (sensitization + activation). The chemical state and relative quantities of the various surface species were determined by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) after nitric acid modification or pre-treatment. The acid treatment increased the surface roughness of the graphite due to deep and fine pores and introduced the oxygen-containing functional groups (-COOH and O-C=O) on the surface of graphite. In the pre-treatment step, the high roughness and many functional groups on the nitric acid treated graphite promoted the adsorption of Sn and Pd ions, leading to the uniform adsorption of catalyst ($Pd^0$) for Cu deposition. In the early stage of electroless plating, a lot of tiny copper particles were formed on the whole surface of acid treated graphite and then homogeneous copper film with low variation in thickness was formed after 30 min.
곤쟁이, Neomysis awatschensis의 염분 내성을 파악하기 위하여 40일동안 다양한 염분에 노출시켜 생존, 성장 및 산소소비율에 미치는 염분의 영향을 조사하였다. 생존율은 6.7$\textperthousand$ 이하의 염분에서 40일 이후 현저하게 감소하였다. 곤쟁이의 체장과 일간 성장률도 40일 이후, 6.7$\textperthousand$이하의 염분에서 10.1% 이상의 염분 농도구와 비교해 현저히 감소하였다. 산소소비율은 40일 동안 10.1~33.6$\textperthousand$에 노출된 곤쟁이의 경우에는 염분처리 전과 비교해 큰 변화를 나타내지 않았지만, 6.7$\textperthousand$ 이하에 노출된 곤쟁이의 산소소비율은 현저하게 감소하였다. 이상의 결과는 6.7$\textperthousand$ 이하의 낮은 염분 농도에서는 곤쟁이의 생존, 성장 및 산소소비율이 감소한다는 것을 나타내고 있으며, 하구나 연안지역에서 염분이 6.7$\textperthousand$ 이하로 낮아질 경우에 서식하는 곤쟁이의 자연 사망률에 잠재적으로 영향을 미칠 수 있다는 것을 암시한다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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