JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.17
no.2
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pp.277-282
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2017
Nickel germanide (NiGe) is one of the most promising alloy materials for source/drain (S/D) of Ge MOSFETs. However, NiGe has limited thermal stability up to $450^{\circ}C$ which is a challenge for fabrication of Ge MOSFETs. In this paper, a novel method is proposed to improve the thermal stability of NiGe using Co interlayer. As a result, we found that the thermal stability of NiGe was improved from $450^{\circ}C$ to $570^{\circ}C$ by using the proposed Co interlayer. Furthermore, we found that current-voltage (I-V) characteristic was improved a little by using Co/Ni/TiN structure after post-annealing. Therefore, NiGe formed by the proposed Co interlayer that is, Co/Ni/TiN structure, is a promising technology for S/D contact of Ge MOSFETs.
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2016.02a
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pp.200.1-200.1
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2016
Tungsten coatings on the graphite (CX-2320) were successfully deposited using the vacuum plasma spraying (VPS) method. An optimum coating procedure was developed and coating thicknesses of $409{\mu}m$ (without an interlayer) and $378{\mu}m$ (with an interlayer) were obtained with no cracks and no signs of delamination. The mechanical characteristics and microstructure of the tungsten coating layers were investigated using a Vickers hardness tester, FE-SEM, EDS, and XRD. The effect of a titanium interlayer on the properties of the tungsten coating was investigated. It was shown that the titanium interlayer prevented the diffusion of carbon to the tungsten layer, thereby suppressing the formation of tungsten carbide. Vickers hardness data yielded values that were 62.5 ~ 80.46% of those for bulk tungsten, indicating that tungsten coatings on graphite can be utilized as a plasma-facing material. High heat flux tests were performed by using thermal plasma with a maximum flux of $10MW/^2$. Vickers hardness after the heat flux test is performed to see a change in the mechanical properties. The formationof a tungsten carbide and the effect of the titanium interlayer for the diffusion barrier are investigated by using energy dispersion spectroscopy (EDS).
Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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2015.08a
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pp.146-146
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2015
We report the enhanced performance of poly(N-vinylcarbozole) (PVK)/poly(3,4-ethylenedioxythiophene) polystyrene sulfonate (PEDOT:PSS)-based quantum-dot light-emitting diodes by inserting the polyaniline:poly (p-styrenesulfonic acid) (PANI:PSS) interlayer. The QD-LED with PANI:PSS interlayer exhibited a higher luminance and luminous current efficiency than that without PANI:PSS. Ultraviolet photoelectron spectroscopy results exhibited different electronic energy alignments of QD-LEDs with/without the PANI:PSS interlayer. By inserting the PANI:PSS interlayer, the hole-injection barrier at the QD layer/PVK interface was reduced from 1.45 to 1.23 eV via the energy level down-shift of the PVK layer. The reduced barrier height alleviated the interface carrier charging responsible for the deterioration of the current and luminance efficiency. This suggests that the insertion of PANI:PSS interlayer in QD-LEDs contributed to (i) increase the p-type conductivity and (ii) reduce the hole barrier height of QDs/PVK, which are critical factors leading to improve the efficiency of QD-LEDs.
옥천 변성대 남서부 지역에서 산출되는 변성 니질암에서는 muscovite, biotite 및 chlorite를 주로하는 phyllosilicate가 서로 intergrowth 또는 interlayer를 이루는 것이 편광현미경 관찰, EPMA 분석, Back Scattered Electron (BSE) image 관찰 및 Transmission Electron Micro-scope(TEM) 관찰을 통하여 확인되었다. 이들 광물들은 편광현미경 관찰에서 흔히 각각의 입자를 식별할 수 없을 정도의 미세 규모로 서로 intergrow 되어 있으며BSE image에서는 0.1$\mu\textrm{m}$ 이하의 아주 작은 크기에서부터 10.0$\mu\textrm{m}$ 정도 크기까지 다양한 규모의 intergrow를 형성하고 있음이 관찰되었다. TEM scale에서는 개별 layer 크기(약 10$\AA$)에서부터 수십 개 layer 크기의 interlayering을 보여준다. 이와 같은 intergrowth 또는 interlayering의 결과로 EPMA 분석에서 종종 보기에는 규진(homogeneous)한 입자라 하더라도 두 개 이상의 광물 성분이 섞여 있는 분석값을 나타내며 이러한 nonstoichiometry는 BSE image에서 interlayer(또는 intergrow) 된 것으로 관찰되는 부분에서 더욱 두드러진다.Chlorite zone에서는 chlorite와 muscovite의 interlayering (C/M)이 주로 발견되며 biotite zone과 garnet zone에서는 chlorite와 biotite의 interlayer (C/B)가 주로 관찰된다. 이는 chlorite zone에서는 속성작용에서 보편적으로 나타나는 C/M으로부터 chlorite가 분리되는 광물반응이 일어나는데 반해서 biotite zone과 garnet zone에서는 chlorite로부터 C/B를 거쳐 biotite를 생성하는 광물반응이 일어나는 것을 의미한다. 이와 같은 현상은 변성작용에서 phollosilicate의 광물반응의 엄밀한 의미에서는 평형(equilibrium) 상태에서 균질한 광물을 생성하기보다는 비평형(disequilibrium) 반응으로 일어난다는 것을 의미한다.
Various interlayer materials have been tested for active metal(Cusil ABA) brazing of Si3N4/S. S316 joint. In general multilayer joint had higher strength(80-150 MPa) and better reliability than monolayered one. The joint with Cu(0.2)/Mo(0.3)/Cu(0.2mm) interlayer showed the highest bending strength of abou 490 MPa and the joint with Cu(0.2)/Mo(0.3mm) interlayer the best reliability (14.6 Weibull modulus). The stresses distributed in joint materials during 4-point bending test were estimated by CAE von Mises analysis; the estimated stresses were In good agreement with the measured data. In multilayer joint Cu was though to reduce the residual stresses induced by the difference in thermal expansion coefficient between the ceramic Mo and metal It apperared that a Cu/Mo was optimum interlayer material for Si3N4/S. S316 joint with high bending strength (420 MPa) and reliability. In addition the various shapes and types of compound were examined by EPMA in joining interface.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.44
no.6
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pp.269-276
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2011
Phase evolution and tribological behavior of Cr-Mo-N multi compositional films with different interlayer were investigated. The films were deposited by hybrid PVD (Physical Vapor Deposition) system consisted of dc unbalanced magnetron (UBM) sputtering and arc ion plating (AIP) sources. A pure molybdenum (Mo) was used as sputtering target and also a pure Cr was used as AIP target to form the Cr-Mo-N films. Various growth planes were found, no textured surface, in all of the multi composition films. Maximum value of microhardness was measured in Cr-Mo-N film with Mo interlayer as 29 GPa. Composition film was mainly showed the aspect of the adhesive wear than CrN film. The friction coefficient was decreased from 0.6 for pure CrN coating to 0.35 for Cr-Mo-N film with Mo interlayer. This result may come from the formation of metal oxide tribo-layer which is known as solid lubricant during the wear test.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.25
no.2
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pp.82-89
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1992
The effect of interlayer coating of Ni and Ti on corrosion behavior was studied in TiN ion plated steel plate. Interlayer coating was carried out in a single and bi-layer to a various thickness combination prior to final TiN coating of $2\mu\textrm{m}$. Corrosion behavior was evaluated by anodic polarization test in 1N H2SO4 as well as salt spray test. Porosity of each coating was also tested by using SO2 test. Corrosion resistance was improved with increasing the thickness of Ni interlayer coating and Ni-Ti interlayer coating markedly enhanced the corrosion resistance. Ni/Ti interlayer coating of $2\mu\textrm{m}$/2$\mu\textrm{m}$ prior to $2\mu\textrm{m}$ TiN coating decreased the corrosion current density of active range by an order of 4 and that of passive range by an order of 1. This improvement was associated with the retardation of corrosive agent penetration with increasing coating thickness and inherent corrosion resistance of Ni and Ti interlayers, Ni/Ti interlayers coating were also very effective in improvement of corrosion resistance under salt atmosphere.
Han Kil Jin;Cho Yu Jung;Kim Yeong Cheol;Oh Soon Young;Kim Yong Jin;Lee Won Jae;Lee Hi Deok
Journal of the Semiconductor & Display Technology
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v.4
no.2
s.11
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pp.7-10
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2005
[ $SiO_{2}$ ] or SiON is usually deposited and annealed after formation of silicide in real transistor fabrication processes. Nickel silicide and nickel silicide with Co interlayer were annealed at 650$^{\circ}C$ for 30 min with silica top layer in this study to investigate its thermal stability. SEM, XPS, and FPP(four point probe) were employed for the investigation. Nickel silicide with Co interlayer showed improved thermal stability. Co interlayer seems to play a key role to the stability of nickel silicide.
Journal of the Korean institute of surface engineering
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v.31
no.3
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pp.142-150
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1998
Stainless steel is being used widely for various purposes due to its good corrosion resistance. There has been much research to produce colored stainless steel by several methods such as anodizing and ion plating. In this experiment, we coated TiN(C,O,H)films SUS304 substraate with the DC magnetron spttering system made by Leybold Heraeus and studied the interlater structure and abhesive strength of the films as a function of additional gases, acetylene, hydrogen and oxygen. When the acetylene gas was added into the chamber, the specimen with the interlayer phase had good adhesion due to the toughness of the $\gamma'-Fe_4N$ plase induced from a solid solution of carbon atoms, while low adhesion appeared on the specimen of the non interlayer phase. The formation of the interlayer phase($\gamma'-Fe_4N$) was due to hydrogen embrittlement and internal stress induced by $\gamma'-Fe_4N$ formation in the interlayer. We could fine the interlayer phase ($\gamma'-Fe_4N$) at the interface between the film and the substrate of the TEM image when $\gamma'-Fe_4N$ was detected by the X-ray duffraction metheod.
The interlayer coupling between adjacent ferromagnetic layers was examined for CoFe/Cu/NiFe trilayer systems. A series of films of CoFe (20 nm)/Cu($t_{cu}$)/NiFe (20 nm) trilayers with Cu spacer thickness, $t_{cu}$, in the range of 1~10 m was deposited on Si(100) wafers at room temperature by DC magnetron sputtering. In order to understand the dependence of the magnetic interaction between ferromagnetic $Co_{90}Fe_{10}$ (wt.%) and $Ni_{81}Fe_{19}$ (wt.%) layers separated by a nonmagnetic Cu spacer on the Cu layer thickness, we investigated the derivative ferromagnetic resonance (FMR) spectra. The FMR results were analyzed using the model of Layadi and Art-man for interlayer interaction. The interlayer coupling constant decreases in an oscillatory manner as the Cu spacer thickness increases up to 10 nm and approaches zero above 10 nm. The interlayer coupling constant is positive for all samples. Hence, it seems that the exchange coupling between adjacent CoFe and NiFe layers separated by a Cu layer is ferromagnetic.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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