상부산화 조건에 따른 N/O($SiO_2$ /$Si_3$ $N_4$ ) 구조막의 신뢰성 평가
(Reliability of N/O($SiO_2$ /$Si_3$ $N_4$ ) Films According to Top Oxidation Condition)
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- 전자공학회논문지A
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- 제29A권9호
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- pp.20-28
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- 1992