Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제14권1호
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pp.9-11
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2013
The AZO/Ag/AZO multilayer films were deposited on polyethersulfone (PES) substrate by using facing target sputtering methods at room temperature. The AZO/Ag/AZO multilayer films with polymer substrate had advantages, such as low sheet resistance, high optical transmittance in visible range and stable mechanical properties. From the results, the AZO/Ag/AZO multilayer films (50/12/50 nm) demonstrated a sheet resistance of 11 ${\Omega}/{\square}$ and average transmittance of 87% in visible range (wavelength of 380-770 nm). Moreover, the multilayer showed stable mechanical properties compared to the single-layered AZO sample during the bending test due to the existence of the ductile Ag metal layer.
We studied surface texture-etching of glass substrate by using reactive ion etching process with various working pressure (0.7~9.0 mT). With the increase in the pressure, a haze parameter, which means diffusive transmittance/total transmittance, was increased in overall wavelength regions, as measured by spectrophotometer. Also, atomic force microscopy (AFM) study also showed that the surface topography transformed from V-shaped, keen surface to U-shaped, flattened surface, which is beneficial for nanocrystalline silicon semiconductor growth with suppressing defective crack formation. The texture-etched ZnO:Al combined with textured glass exhibited pronounced haze properties that showed 60~90 % in overall spectral wavelength regions. This promising optical properties of double textured, transparent conducting substrate can be widely applied in silicon thin film photovoltaics and other optoelectronic devices.
We deposited Al-doped ZnO (ZnO:Al) thin films on glass substrates ($200mm{\times}200mm$) by using in-line magnetron sputtering system. Effects of various deposition parameters such as working pressure, deposition power and substrate temperature on optoelectronic characteristics including surface-texture etching profiles were carefully investigated in this study. We found that relatively low working pressure and high deposition power offered to obtain enhanced conductivity and optical transmittance. Haze properties showed similar trend with the transmittance. Furthermore, surface-texture etching study exhibited good morphologies when the films were deposited at $200-300^{\circ}C$. On the basis of these optimizations, we could find the deposition region that produces highly transparent and conductive properties including efficient light scattering capability.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제17권2호
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pp.109-112
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2016
We demonstrated an alternative electrically controlled birefringence liquid crystal (ECB-LC) system with ion beam (IB)-irradiated yttrium gallium oxide (YGaO) alignment films using a sol-gel process. The surface roughness of the films was dependent on the annealing temperature; aggregated particles on surface were observed at lower annealing temperatures, whereas a smooth surface could be obtained with higher annealing temperatures. Higher transmittance in the visible region was observed at higher annealing temperatures. The film had an amorphous crystallographic state irrespective of the annealing temperature. Furthermore, ECB-LC cell with our IB-irradiated YGaO film yielded faster response time when compared to ECB-LC cell with rubbed polyimide. Considering the fast response time and high transmittance, the IB-irradiated YGaO-base LC system is a powerful alternative application for the liquid crystal display industry.
한국정보디스플레이학회 2006년도 6th International Meeting on Information Display
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pp.872-876
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2006
This study was made to examine the electromagnetic interference(EMI) shielding effect (SE) of multilayered thin films in which indium-tin oxide(ITO) and Ag were deposited alternately from 3layer to 9 layer on Poly Methyl Meth Acrylate(PMMA) substrate at room temperature using a PF sputtering. We measured optical and electrical characteristics by UV-spectrometer and 4 point probe. The measurement of EMI SE in frequency range from 50MHz to 1.5GHz was performed by using ASTM D4935-89 method. We compared the measured EMI SEs with theoretical simulation data. We obtained relatively low resistivity and high transmittance from the EMI SE multilayers. In this study, we obtain good optical electrical characteristics with a minimun transmittance of about 60% at 550nm wavelength and sheet resistance of $2{\sim}3ohm/sq$., respectivity. Measured EMI SEs were over 50dB and similar to theoretical simulation data.
Kim, H.Y.;Kim, J.M.;Song, S.H.;Lee, S.K.;Lim, Y.J.;Jung, S.H.;Lee, S.H.
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2003년도 International Meeting on Information Display
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pp.539-542
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2003
We have studied cell gap-dependent electrode-optic characteristics of the FFS mode using the LC with negative dielectric anisotropy. In case of a small cell gap of 2 ${\mu}m$, the transmittance at the center of pixel and common electrodes is low due to stronger influence of surface anchoring that holds the LC to the initial state than twisting force induced by neighboring LCs. In case of a large cell gap of 4 ${\mu}m$, the influence of surface anchoring force becomes weak so that the LCs at the center of pixel and common electrode can be twisted enough by applied voltage, giving rise to high transmittance. Therefore, we conclude that the light efficiency in the device is dependent on the cell gap.
Tungsten oxide($WO_3$) thin films were prepared by reactive magnetron sputtering in an $Ar/O_2$ atmosphere from a compressed powder $WO_3$ target and their electrochromic(EC) phenomena were investigated. PEO-$LiClO_4$-PC polymer electrolyte can easely be formed into thin films and showed high transmittance. Such electrolyte have electrochromic properties suitable for large-scale electrochromic devices. For the devices using $WO_3$ thin films of 1500, 2500, $4000{\AA}$ thickness with glass/ITO/$WO_3$/PEO-$LiClO_4$-PC/ITO/glass structure, an optical modulation of $50{\sim}60%$ were obtained at a potential range of $1{\sim}2V$. It has shown that transmittance and reflectance of light could be electrically controlled by low applied voltage.
Transparent acrylic pressure sensitive adhesives (PSAs) were successfully prepared by photopolymerization with 2-ethylhexyl acrylate (2-EHA) and 2-hydroxyethyl acrylate (2-HEA) as a default constituent and with isobornyl acrylate (IBOA) and N-(isobutoxymethyl)acrylamide (IBMA) as a variable constituent. The IBMA mole fraction effect in the acrylic PSAs was investigated on adhesion performances and the optical properties including 85/85 test as well as the characteristics (solid content, and molecular weight) of the PSA syrups were also investigated. Regardless increasing the IBMA mole fraction in the acrylic PSAs, the acrylic PSAs exhibited almost the same adhesion performance such as $180^{\circ}$ peel strength (~4.0 kg/25 mm) and probe tack (~0.27 kg). All the acrylic PSA samples also showed high transmittance (more than 91%), low haze (less than 1.0%) and low color-difference (less than 1.0) before and after 85/85 test.
Jeon, Hwa Joon;Park, Gyeungju;Gwag, Jin Seog;Lee, Jong Hoon;Kwon, Jin Hyuk
Journal of the Optical Society of Korea
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제18권4호
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pp.345-349
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2014
A direct-lit color-matching liquid crystal display using a lenticular lens array with grouped lens elements that image linear RGB light sources on the RGB subpixels of a color filter to enhance transmittance is designed, simulated, and fabricated. The RGB LED linear light sources were fabricated using small RGB LEDs in a linear array arrangement, and the lenticular lens array consisted of eight units of the same structure with a gap of 2.19 mm. The optical transmittance of the liquid crystal panel was improved by as much as 240% due to the color matching.
Al doped ZnO thin films (ZnO:Al) were deposited on poly carbonate (PC) substrate by rf magnetron sputtering. In addition, the electrical, optical properties of the films prepared at various conditions were investigated. As the sputter power increased, the resistivity of ZnO:Al films decreased, regardless of substrate types. However, the resistivity of the films increased with the sputter pressure. The ZnO:Al films were increasingly dark gray colored as the sputter power increased, resulting in the loss of transmittance. High quality films with resistivity as low as 1.43${\times}$10$^{-4}$ Ω-cm and transmittance over 80 % have been obtained by suitably controlling the deposition parameters.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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