$O_2/CF_4$ 유도결합 플라즈마를 이용한 Polyimide 박막의 식각 특성
(Etching Characteristics of Polyimide Film as Interlayer Dielectric Using Inductively Coupled ($O_2/CF_4$ )Plasma)
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- 대한전기학회:학술대회논문집
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- 대한전기학회 2001년도 하계학술대회 논문집 C
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- pp.1509-1511
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- 2001