1 |
H. J. Choi and B. T. Lee, J. Electron. Mater. 32, 1 (2003) [DOI:
10.1007/s11664-003-0244-6].
DOI
|
2 |
G. K. Lee, J. H. Moon, and B. T. Lee, Semicon. Sci. Technol. 21, 971 (2006) [DOI: 10.1088/0268-1242/21/7/024].
DOI
ScienceOn
|
3 |
D. P. Kim, J. W. Yeo, and C. I. Kim, Thin Solid Films 459, 122 (2004) [DOI: 10.1016/j.tsf.2003.12.113].
DOI
ScienceOn
|
4 |
A. A. Demkov, O. Sharia, and J. K. Lee, Microelectron. Eng. 84, 2032 (2007) [DOI: 10.1016/j.mee.2007.04.081].
DOI
ScienceOn
|
5 |
V. A. Gritsenko, K. A. Nasyrov, Yu. N. Novikov, A. L. Aseev, S. Y. Yoon, J. W. Lee, E. H. Lee, and C. W. Kim, Solid State Electron 47, 1651 (2003) [DOI: 10.1016/S0038-1101(03)00174-6].
DOI
ScienceOn
|
6 |
International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS) (2007, December 8). ITRS 2007 Edition. Retrieved from http://www.itrs.net/links/2007itrs/home2007.htm.
|
7 |
S. I. Kim and K. H. Kwon, Trans. Electr. Electron. Mater. 10, 1
(2009) [DOI: 10.4313/TEEM.2009.10.1.001].
DOI
ScienceOn
|
8 |
G. Molas, M. Bocquet, E. Vianello, L. Perniola, H. Grampeix, J. P. Colonna, L. Masarotto, F. Martin, P. Brianceau, M. Gely, C. Bongiorno, S. Lombardo, G. Pananakakis, G. Ghibaudo, and B. De Salvo, Microelectron. Eng. 86, 1796 (2009) [DOI: 10.1016/j.mee.2009.03.083].
DOI
ScienceOn
|
9 |
C. H. Lee, S. H. Hur, Y. C. Shin, J. H. Choi, D. G. Park, and K. Kim, Appl. Phys. Lett. 86, 152908 (2005) [DOI: 10.1063/1.1897431].
DOI
ScienceOn
|
10 |
C. H. Lee, K. I. Choi, M. K. Cho, Y. H. Song, K. C. Park, and K. Kim, IEDM Tech. Dig. 613 (2003).
|
11 |
S. Wolf and R. N. Tauber, Silicon Processing for the VLSI Era, 2nd ed. (Lattice Press, Sunset Beach, 2002).
|
12 |
T. Kitagawa, K. Nakamura, K. Osari, K. Takahashi, K. Ono, M. Oosawa, S. Hasaka, and M. Inoue, Jpn. J. Appl. Phys. 45, L297(2006) [DOI: 10.1143/JJAP.45.L297].
DOI
ScienceOn
|
13 |
S. M. Koo, D. P. Kim, K. T. Kim, and C. I. Kim, Mater. Sci. Eng. B 118, 201 (2005) [DOI: 10.1016/j.mseb.2004.12.029].
DOI
ScienceOn
|