Electrical properties of a fluorinated carbon black (CB)-filled high-density polyethylene (HDPE) polymeric switch were investigated as a function of fluorination pressure at 0.1 ~ 0.4 MPa. From the FT-IR results, the absorption spectra of the fluorinated CB show an absorption band at 1400 ~ 1000 $cm^{-1}\;for\;{\nu}_{C-F}$ and the peak intensity increased with increasing fluorination pressure. Also, the analysis of XPS spectra of the fluorinated CB indicated that fluorine content increased with increasing fluorination pressure. Meanwhile, the surface free energy of the fluorinated CB decreased with increasing fluorination pressure. Consequently, the increase of fluorine contents of CB made a disappearance of negative temperature coefficient (NTC) behavior of the polymeric switch, which was probably due to the reduction of CB reaggregation after melting point of the HDPE, resulted from the decreasing of London dispersive component of the surface free energy for CB particles.
A new method to control the free spectral range of a long period fiber grating is proposed and theoretically analyzed. As the refractive index decreases radially outward in the silica cladding due to graded doping of fluorine, waveguide dispersion in the cladding modes was modified to result in the effective indices change and subsequently the phase matching conditions for coupling with the core mode in a long period fiber grating. Enlargement of the free spectral range in a long period fiber grating was theoretically confirmed.
치과용 수복재에서 불소의 치질강화와 항우식 효과를 알아보기 위해 각 재료에서 불소 유리량의 차이와 불소 유리의 지속성을 실험하였다. 실험에 사용된 수복재는 Ionoseal, Fuji Filling LC, Quadrant Universal LC, PermaCem$^{(R)}$, Dyract$^{(R)}$ AP 등 5종이였고, 불소유리량 실험에는 ICS-5000 Reagent-FreeTM Ion Chromatography가 이용되어 다음과 같은 결론을 얻었다. 1. 모든 종류의 수복재에서 시간 경과 후 불소 유리량이 감소하였고, 4주 후에는 유의 할 만큼 급감하였다. Fuji Filling LC(12.446 PPM)와 PermaCem$^{(R)}$(16.008 PPM)는 장기간 불소가 유리하는 것으로 나타났다(P<.001). 2. Ionoseal(0.887 PPM), Quadrant Universal LC(0.957 PPM)는 1주 후부터 1 PPM 이하의 소량의 불소를 유리하였고, Dyract$^{(R)}$ AP는 1주 후에 8.631 PPM 유리하였다가 2, 4주 후에는 급감하여 각각 0.175 PPM, 0.116 PPM을 유리하여 많은 시간 경과 후에는 불소 유리 효과가 미흡한 것으로 나타났다(P<.001). 3. Fuji Filling LC와 PermaCem$^{(R)}$은 1주 경과 후 각각 33.372, 1.901 PPM의 불소를 유리하였으나, 2주 후에는 급격히 많은 36.370, 18.223 PPM의 불소를 유리하여 2주 후에 가장 많은 불소를 유리한 것으로 나타났다(P<.001). 따라서 치과용 충전 수복재의 불소 유리에 가장 효과적인 재료는 레진 강화형 글래스아이오노머와 콤포머 제품으로 나타났고, 미세누출로 인한 불소의 항우식 효과를 보기위한 제품 선택 시 고려되어야 할 사항인 것 같다. 제조회사의 매뉴얼에 나타나는 항우식 효과는 본 실험과 큰 차이를 보였다. 또한 향후 In Vitro 상태에서 레진 강화형 글래스아이오노머와 콤포머 제품에 대한 더 오랜 시간 실험을 통해 불소유리의 지속시간 확인을 위한 계속적인 연구의 필요성을 느꼈다.
의료용 $^{18}$ F을 단시간내에 생산하기 위하여 반조분리(recoil separation), 알루미나 칼럼크로마토그래피, 증류등 지금까지 알려진 분리방법들을 검토하고 각각의 분리방법으로 얻은 생성물중의 잔사, ${\gamma}$ 방출불순물, 및 $^3$H 함량등을 결정하였다. 핵반조분리 생성물이나 알루미나 칼럼크로마토그래피에 의한 분리생성물은 순도면에서 증류 분리 생성물보다 좋지 못하였고 특히 천연탄산리티움을 표적으로 사용하는 경우는 증류법이 가장 효과적임을 알수 있었다. 천연 탄산리티움 7g을 중성자속밀도 1$\times$$10^{13}$n/$\textrm{cm}^2$/sec에서 3시간 중성자 조사하고 증류에 의해 $^{18}$ F를 정제함으로서 무담체 $^{18}$ 를 대략 2mCi 이상 (10mCi 이하)의 규모로 일상생산할 수 있으며 이때 정제에 소요되는 시간은 35~40분이다.
Sub-micrometer size gold particles were electrodeposited on a transparent fluorine-doped tin oxide (FTO) from acetonitrile solution containing $AuCl_4{^-}$ and tetramethylammonium tetraflouroborate (TMATFB) for detecting $NO_2{^-}$. A series of two-electron ($2e^-$) and one-electron ($1e^-$) reductions of the $AuCl_4{^-}-AuCl_2{^-}-Au$ redox systems were observed at FTO and a highly stable and homogeneous distribution of Au on FTO (Au/FTO) was obtained by stepping the potential from 0 to -0.55 V (vs. Ag/$Ag^+$). The Au/FTO electrode exhibited sufficiently high catalytic activity toward the oxidation of $NO_2{^-}$ with a detection limit (S/N = 3) and sensitivity of 2.95 ${\mu}M$ and 223.4 ${\mu}A{\cdot}cm^{-2}{\cdot}mM^{-1}$, respectively, under optimal conditions. It exhibited an interference-free signal for $NO_2{^-}$ detection with excellent recoveries from real samples.
Various organic acid were used in order to prepare new metalorganic deposition solution for high quality $REBa_2Cu_3O_{7-{\delta}}$ (RE=Y, Eu, Gd) films. Prepared fluorine free MO precursor solution was coated on single crystal (001) $LaAlO_3$ (LAO) by dip coating method. Processing parameters such as oxygen partial pressure, water vapor, ramping rate and pyrolysis temperature etc havebeen controlled in order to make high $J_c$ films with a good epitaxial relationship with substrate. 0.5 micron-thick film was obtained by single coating and no crack appeared after calcination. Oxygen partial pressure was varied in the range of $100{\sim}1,000 ppm$ and conversion heat treatment was carried out at the temperature of $725{\sim}765^{\circ}C$. A critical transition temperature $(T_{c0})$ of 90K and a critical transport current density $(J_c)$ of $>0.5MA/cm^2$ (77K and self-field) were demonstrated for the YBCO film on (001) oriented LAO substrates with a thickness of 0.5 micron. $I_c$ was determined by utilizing a transport measurement. SEM and XRD investigations confirmed that films were grown epitaxially onto the LAO single crystal substrate. It is thought that fluorine free new MOD solutionis promising for high quality REBCO films.
The reliability of fluorine doped silicon oxide (SiOF) films for intermetal dielectrics in multilevel interconnections of ultra-large scale integrated circuits (ULSIs) is investigated. SiOF films were deposited by electron cyclotron resonance plasma-enhanced chemical vapor deposition (ECRPECVD) using H-free source gases, i.e., SiF4 and O2. The effect of post plasma treatment on the moisture absorption and dielectric properties of SiOF films was carried out I terms of air exposure time, The reliability test of Cu/TiN/SiOF/Fi specimen was carried out in terms of temperature by rapid thermal annealing (RTA) in N2 ambient. After O2 plasma treatment,, no appreciable peak directly related to moisture absorption was detected. The capacitance-voltage (C-V) characteristics of the O2 plasma treated SiOF film showed that the film remained to hold the sound dielectric properties even after boiling treatment. The Cu/TiN/SiOF/Si system was found to be reliable up to $600^{\circ}C$.
제철기술은 고순도, 친환경화와 더불어 공정능력 및 제조원가를 고려한 최적의 공정개발이 요구되고 있다. 전로조업의 전 공정인 용선예비처리 단계에서 탈황처리가 실시된다. 탈황제로 CaO와 $CaCO_3$에 반응촉진제로 형석이 첨가되어 사용되지만, 슬래그 중 불소농도의 규제로 인하여 사용이 제한되고 있다. 본 연구에서는 형석을 대체하기 위해 CaO에 알루미늄 드로스와 알루미나를 함유한 래들 슬래그를 배합하여 첨가하는 방안을 제시하였다. 알루미늄 드로스와 알루미나 함유 래들 슬래그를 CaO에 배합하여 제조한 탈황제의 온도에 따른 물성과 KR(Kanvara Reactor)에서 탈황능을 비교하는 시험을 하였다. 본 연구에서 개발한 탈황제는 형석을 기반으로 제조한 종전의 탈황제와 탈황능이 동일하였다.
Polyvinylidene fluoride (PVDF)는 우수한 가공성을 가지고 있어 코팅 재료로 유망하지만 다른 불소계 고분자에 비하여 소수성이 약하여 부식 방지 등 그 응용에 제한이 있다. 본 연구에서는 PVDF의 부식방지 특성을 향상시키고자 사불화탄소(CF4) 가스를 이용하여 플라즈마 불소화를 수행하였고, 유량에 따른 불소 함량 및 소수성 변화를 고찰하고 부식방지 특성을 확인하였다. PVDF 막 표면의 불소 함량은 사불화탄소 유량이 증가함에 따라 46.70%로 증가하였으나 그 표면자유에너지는 불소함량의 증가와 일치하지 않았다. 한편, PVDF 표면의 표면 거칠기는 불소화 유량에 따라 최대 150% 증가하다가 다시 감소하는 경향을 보였다. 이는 플라즈마 불소화는 불소화 기능기 도입 및 표면식각으로 인하여 표면자유에너지에 영향을 주는 것으로 판단된다. 또한, PVDF 코팅된 철판의 부식 정도는 미처리 철판에 비하여 표면 산소 함량이 49.2%에서 19.0% 이하로 크게 개선되었으며, 특히, 불소화 처리된 PVDF의 산소함량은 13.6%으로 불소화 처리되지 않은 PVDF보다 28.4 % 정도 낮아져 우수한 부식방지 특성을 보이는 것으로 관찰되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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