고성오광대는 1950년대 말부터 학술조사가 시작되어 1964년 국가무형문화재로 지정되었다. 지정 당시까지는 종이탈을 사용하였으나 1965년에는 이미 나무탈로 바뀌었으며 이후 탈의 변화 양상이 매우 크다. 1960년에는 9개의 탈을 사용하였는데 문둥이, 초란이, 말뚝이, 청보양반, 젓양반, 할미, 제밀주 탈을 기본으로 하였으며 여기에 소무는 제밀주와, 청보양반과 비비양반은 영감과 탈을 겸용하기도 하였다. 황봉사와 상주는 탈을 쓰지 않고 맨얼굴로 등장했다. 1965년부터 고성오광대 연희용 탈은 전체가 나무탈로 바뀌었다. 상주, 마당쇠, 상두꾼을 제외한 전 배역이 탈을 쓰고 있는데 비비, 홍백양반, 봉사 탈은 1964년까지는 등장한 적이 없는 탈이다. 초라니는 종가도령으로 바뀌었고 청보양반은 원양반으로 대체되었다. 1969년을 기점으로 연희용 탈은 종류가 현재와 같아지는 안정기에 들어선다. 비비양반과 소무를 제외한 모든 등장인물들이 개별탈을 사용하여 총18점의 탈을 사용한다. 양반들은 적제양반까지 확실하게 분화되어 총 7명의 양반이 등장한다. 이렇게 탈의 종류와 재질 및 표현법에 변화가 큰 것은 1세대 탈 제작자가 사망하면서 탈 제작의 전승이 끊어진 이유도 있겠으나 지정 이후 연희자들이 맞닥뜨려야 했던 연희환경의 극심한 변화에도 그 원인이 있다. 연희자들의 자족적인 놀이였기 때문에 세부 사항에서는 엄격한 규칙이 적용되지 않는 유동적인 놀이였으나 민속예술경연대회에 참가하면서 점차 공연을 위한 준비로 바뀌었다. 춤이나 의상, 소품들도 점차 화려해졌고 시각적인 효과와 짜임새 있는 연출을 시도하면서 연희 전반의 변화와 함께 탈의 변화를 가져왔고 이를 보존회 내부에서도 수용하게 되었다.
Despite the laryngeal mask airway (LMA) has been widely used in anesthesia, its use is rare in the field of dentistry. Placing LMA in the oral cavity may interrupt dental treatment. However, there are some circumstances in which LMA is more advantageous than tracheal intubation for managing the airway. Especially, the reinforced LMA has a flexible tube shaft, rendering it more accessible for dental treatment. We report a case of dental treatment of a 3-year-old patient with hypoplastic left heart syndrome combined with pulmonary hypertension using reinforced LMA for airway management under general anesthesia. We also discuss the considerations of utilizing the reinforced LMA for dental treatment.
Persona means the mask of personality where the internal ego exposes itself to the outside. The complicated structure and diversity of contemporary society has provided men with a more variegated and diversified persona; in addition, advancements in internet and information communications creates the possibility for the emergence of more variegated and new persona. This study probes the persona of virtual space expressed in fashion designs; subsequently, this study reviews the concept and various characteristics of persona and examines the type of persona in the virtual space from the perspective of the manifestation of identity. The type of persona in the virtual space canbe categorized into flexible identity and falsified identity; subsequently, the characteristics and meanings of virtual space persona in fashion designs are analyzed. Flexible identity-oriented personas expressed in fashion designs are revealed through the images of animals or dolls. This is a childlike persona expression that expresses ego through other substances in an effort to express infantile substances such as dreams and fantasy cherished in childhood. Falsified identity-oriented personas are expanded as a realm of expression of the body and the realities are camouflaged as transformed persona. Negating existence itself by covering the eyes or face as well as the concealment of the body with masks or veils is an expression of a self-denying persona.
Cao, Peng;Cui, Di;Ming, Yanzhen;Vardhanabhuti, Varut;Lee, Elaine;Hui, Edward
Investigative Magnetic Resonance Imaging
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제25권4호
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pp.293-299
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2021
Purpose: To accelerate magnetic resonance fingerprinting (MRF) by developing a flexible deep learning reconstruction method. Materials and Methods: Synthetic data were used to train a deep learning model. The trained model was then applied to MRF for different organs and diseases. Iterative reconstruction was performed outside the deep learning model, allowing a changeable encoding matrix, i.e., with flexibility of choice for image resolution, radiofrequency coil, k-space trajectory, and undersampling mask. In vivo experiments were performed on normal brain and prostate cancer volunteers to demonstrate the model performance and generalizability. Results: In 400-dynamics brain MRF, direct nonuniform Fourier transform caused a slight increase of random fluctuations on the T2 map. These fluctuations were reduced with the proposed method. In prostate MRF, the proposed method suppressed fluctuations on both T1 and T2 maps. Conclusion: The deep learning and iterative MRF reconstruction method described in this study was flexible with different acquisition settings such as radiofrequency coils. It is generalizable for different in vivo applications.
The technologies of laser micromachining are changed toward more complex-micropatterning, from the micro circle-shaped hole drilling to the micro arbitrary-shaped hole drilling. In this paper, the fundamental experiments by using DPSS 3rd harmonic $Nd:YVO_4\;laser({\lambda}=355nm)$ were carried out in order to obtain the feasibility of flexible micropatterning by various fixed masks. Fixed masks and Galvano scanners were investigatde to make micro patterns. from these experimental results, micropatterns on PEN film were rapidly manufactured in large area.
This letter reports the fabrication of polycrystalline silicon thin-film transistors (poly-Si TFT) on flexible plastic substrates using amorphous silicon (a-Si) precursor films by sputter deposition. The a-Si films were deposited with mixture gas of argon and helium to minimize the argon incorporation into the film. The precursor films were then laser crystallized using XeCl excimer laser irradiation and a four-mask-processed poly-Si TFTs were fabricated with fully self-aligned top gate structure.
This letter reports the fabrication of polycrystalline silicon thin-film transistors (poly-Si TFT) on flexible plastic substrates using amorphous silicon (a-Si) precursor films by sputter deposition. The a-Si films were deposited with mixture gas of argon and helium to minimize the argon incorporation into the film. The precursor films were then laser crystallized using XeCl excimer laser irradiation and a four-mask-processed poly-Si TFTs were fabricated with fully self-aligned top gate structure.
본 논문에서는 연성 광 인쇄회로기판(printed circuit board, PCB) 개발을 위한 핵심 부품인 연성 광도파로를 자외선 임프린트(ultra violet imprint, UV-imprint) 공정에 의해 제작하고 도파손실, 굴곡손실, 반사손실 및 반복굴곡에 대한 내구성을 측정하였다. 먼저, 초정밀 기계가공에 의해 광도파로 패턴과 $45^{\circ}$ 미러 구조를 포함하는 니켈 마스터를 제작 후 폴리디메틸실록산(polydimethylsiloxane, PDMS)를 이용하여 탄성체 몰드를 역상 복제 하였다. 역상 복제된 PDMS 몰드를 이용해 UV-imprint 공정에 의한 광도파로의 코어패턴과 $45^{\circ}$ 미러면을 동시 형성하여, $45^{\circ}$ 미러가 내장된 광도파로를 제작하였다. 또한, 광도파로의 끝단을 통상적 방법인 V-sawing 공정으로 $45^{\circ}$ 미러 구조를 가공하여 미러 내장형 광도파로와 미러 특성을 비교하였다. 제작된 연성 광도파로는 단위 길이당 0.035 dB/cm의 도파손실을 나타내었으며, 반경 1 mm의 $180^{\circ}$ 굴곡 조건에서 0.77 dB의 굴곡손실을 나타내었다. 또한, 굴곡각도 $135^{\circ}$, 굴곡반경 2.5 mm의 반복굴곡 실험에서 10 만회 이상의 반복굴곡에 대한 우수한 내구성을 확인하였다. 내장된 $45^{\circ}$ 미러의 반사효율을 향상시키기 위해 미러면에 Ni-Au 이중 박막을 증착하여 2.18 dB의 반사손실을 가진 미러내장형 연성 광도파로를 제작하였다.
본 연구는 PC(polycarbonate) 기판 위에 소스(source)/드레인(drain) 전극으로 Ag 페이스트를 스크린 인쇄하여 OTFT(organic thin film transistor)를 제작하였다. 또한 이렇게 제작된 OTFT를 적용하여 OTFT-OLED(organic light emitting diode) 어레이를 제작하였으며 OTFT의 소스 및 드레인 전극과 더불어 데이터 배선전극을 Ag 페이스트를 이용하여 형성하였다. Ag 페이스트는 스크린 마스크의 mesh에 따라 325 mesh용과 500 mesh용을 사용하였으며, 325 mesh용 페이스트는 선폭 60 ${\mu}m$, 500 mesh용 페이스트는 선폭 40 ${\mu}m$까지 인쇄가 가능하였다. 그리고 면저항은 각각 $60m{\Omega}/\square,\;133.1m{\Omega}/\square$이었다. 제작된 OTFT의 성능은 이동도가 자각 0.35 $cm^2/V{\cdot}sec$와 0.12 $cm^2/V{\cdot}sec$, 문턱전압 -4.7 V와 0.9 V이었으며, 전류 점멸비는 ${\sim}10^5$이었다. OTFT-OLED 어레이는 인쇄성이 우수한 500 mesh용 Ag 페이스트를 사용하였으며 OTFT의 채널길이를 50 ${\mu}m$로 설계하여 제작하였다. OTFT-OLED 어레이의 화소는 2개의 OTFT, 1개의 캐패시터 그리고 1개의 OLED로 구성하였고, 크기는 $2mm{\times}2mm$이며, 해상도는 $16{\times}16$ 이다. 제작된 어레이는 일부 불량 화소를 포함하고 있지만 능동형 모드로 동작함을 확인할 수 있었다.
최근에 메모리의 초고속화, 고집적화 및 초절전화가 요구되면서 resistive random access memory (ReRAM), ferroelectric RAM (FeRAM), phase change RAM (PRAM)등과 같은 차세대 메모리 기술이 활발히 연구되고 있다. 다양한 메모리 중에서 특히 resistive random access memory (ReRAM)는 빠른 동작 속도, 낮은 동작 전압, 대용량화와 비휘발성 등의 장점을 가진다. ReRAM 소자는 절연막의 저항 스위칭(resistance switching) 현상을 이용하여 동작하기 때문에 SiOx, AlOx, TaOx, ZrOx, NiOx, TiOx, 그리고 HfOx 등과 같은 금속 산화물에 대한 연구들이 활발하게 이루어지고 있다. 이와 같이 다양한 산화물 중에서 AlOx는 ReRAM의 절연막으로 적용되었을 때, 우수한 저항변화특성과 안정성을 가진다. 하지만, AlOx 박막을 형성하기 위하여 기존에 많이 사용되어지던 PVD (physical vapour deposition) 또는 CVD (chemical vapour deposition) 방법에서는 두께가 균일하고 막질이 우수한 박막을 얻을 수 있지만 고가의 진공장비 사용 및 대면적 공정이 곤란하다는 문제점이 있다. 한편, 용액 공정 방법은 공정과정이 간단하여 경제적이고 대면적화가 가능하며 저온에서 공정이 이루어지는 장점으로 많은 관심을 받고 있다. 본 연구에서는 sputtering 방법과 용액 공정 방법으로 형성한 AlOx 기반의 ReRAM에서 메모리 특성을 비교 및 평가하였다. 먼저, p-type Si 기판 위에 습식산화를 통하여 SiO2 300 nm를 성장시킨 후, electron beam evaporation으로 하부 전극을 형성하기 위하여 Ti와 Pt를 각각 10 nm와 100 nm의 두께로 증착하였다. 이후, 제작된 AlOx 용액을 spin coating 방법으로 1000 rpm 10 초, 6000 rpm 30 초의 조건으로 증착하였다. Solvent 및 불순물 제거를 위하여 $180^{\circ}C$의 온도에서 10 분 동안 열처리를 진행하였고, 상부 전극을 형성하기 위해 shadow mask를 이용하여 각각 50 nm, 100 nm 두께의 Ti와 Al을 electron beam evaporation 방법으로 증착하였다. 측정 결과, 용액 공정 방법으로 형성한 AlOx 기반의 ReRAM에서는 기존의 sputtering 방법으로 제작된 ReRAM에 비해서 저항 분포가 균일하지는 않았지만, 103 cycle 이상의 우수한 endurance 특성을 나타냈다. 또한, 1 V 내외로 동작 전압이 낮았으며 104 초 동안의 retention 측정에서도 메모리 특성이 일정하게 유지되었다. 결론적으로, 간단한 용액 공정 방법은 ReRAM 소자 제작에 많이 이용될 것으로 기대된다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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