4-ethynylaniline(4-EA) 혹은 4-phenylethynyl phthalic anhydride(4-PEPA)을 end-capper로 사용하여 분자량이 2500 g/mol 혹은 5000 g/mol로 조절되고, 반응성 ethynyl 기를 갖는 4,4'-diamino diphenyl ether(4,4'-ODA)/3,3',4,4'-benzophenone tetracarboxylic acid dianhydride(BTDA), 4,4'-ODA/4,4'-oxydiphthalic anhydride(ODPA)계 폴리아이소이미드 올리고머를 합성하여 이들의 중합 및 경화거동을 연구하였다. FTIR 분광분석을 통하여 이들 폴리아이소이미드 올리고머 말단에 반응성 ethynyl 기가 포함되어 있음을 확인할 수 있었다. 이미드화 반응은 폴리아이소이미드 올리고머의 화학구조에도 영향을 받을 뿐 아니라 올리고머의 분자량에도 영향을 받아 분자량 2500 g/mol 올리고머가 5000 g/mol 올리고머보다 대략 $10^{\circ}C$ 정도 낮은 온도에서 이미드화 반응이 일어났다. Ethynyl기의 가교반응은 이미드화 반응보다 높은 온도에서 일어났으며 4-EA로 end-cap된 폴리아이소이미드 올리고머에 대해서는 이 두 반응이 DSC 그래프에서 겹쳐서 나타났다. 4-PEPA로 end-cap된 4,4'-ODA/ODPA 폴리아이소이미드 올리고머에 대해 등 속도 가열 DSC 실험을 통해 이미드화 반응 및 가교반응에 대한 활성화 에너지와 지수앞인자를 구하였다. 이미드화 반응에 대한 활성화 에너지는 141 kJ/mol, 지수앞인자 값은 $1.45{\times}10^{13}min^{-1}$, 가교반응에 대한 활성화 에너지는 177 kJ/mol, 지수앞인자 값은 $2.90{\times}10^{13}min^{-1}$이 얻어졌다.
To investigate in influence of photosensitizer used with benzophenone(BP) in the curing rate and physical properties of UV curable hard coating on plastic, we prepared UV curable clear and pigmented coatings with DEA, DMA, NPM and TEA as photosensitizer, respectively. The curing rate calculated from the decrease of the absorbance of acrylic double bond measured by FT-IR spectroscopy increased s follows; DEA>DMA>NPM>TEA. this order could be explained by the reactivity of diethylamino group of DEA and the ease of formation of activated complex between BP and photosensitizer during the curing process. In UV curable pigmented coatings, the order of curing rate increased as follows; DEA>DMA>TEA>NPM. It was found that the curing rate of the pigmented coating can be increased by light scattering of TiO$_2$. The hardness of coating film cured by photosensitization of DEA and DMA is higher than other photosensitizers due to the crosslinking reaction of DEA and DMA radical bound to polymer backbone.
The purpose of this study is in development of effective filter-type polymer adsorbent for removal of pollutants from wastewater by UV irradiation graft polymerization. Photografting of acrylic acid (AA) on polypropylene (PP) nonwoven fabric using benzophenone (BP) as a photosensitizer was investigated. Inhibition of homopolymerization was achieved by adding various concentrations of $FeSO_4{\cdot}7H_2O$, $CuSO_4{\cdot}5H_2O$ and Mohr's salt. As AA concentration was increased, the degree of grafting was increased as to a specific value and then decreased, and the effect of BP concentration showed the same tendency. It was also found that the degree of grafting increased with reaction time and reaction temperature. Addition of the polyfunctional monomers and $H_2SO_4$ to the grafting system accelerated the photografting. The melting temperature, molecular weight and breaking stress and breaking strain were decreased with the increase in the degree of grafting.
A study has been made about some correlations in the chemical cyclization of precursors, poly(ether-amide-amic acid)s by treating in solution a mixture of acetic anhydride and pyridine in the presence of 4,4-dimethyl formamide, with the poly(ether-amic acid)s being respectively reacted between trimellitic anhydride chloride and 3 kinds of diamines, i.e., 4,4'-bis(m-aminophenoxy) benzophenone, 2,2'-bis[4-(m-aminophenoxy) phenyl] propane and 4,4'-bis(m-aminophenoxy) diphenyl sulfone. The cyclization of imide ring in the poly(ether-amide-amic acid)s may be regarded as an intramolecular acylation of amide group by o-carboxyl group. As a result of this reseach, the effects on the conversion to poly(ether-amide-imide)s have been found by changing the ratio of cosolvents in the cyclization mixture.
We have prepared and investigated the properties of photoinitiator-free photosensitive polyimide gate insulatos for organic thin-film transistors (OTFTs). The precursor was prepared from a dianhydride, 3,3',4,4'-Benzophenone tetracarboxylic dianhydride (BTDA) and novel aromatic diamine, 7-(3,5-diaminobenzoyloxy) coumarine (DA-CM). Photo-patternability of the polyimide precursor film and surface morphology of the films before and after photo-patterning process were investigated and negative pattern with a resolution of 50 ${\mu}m$ was obtained nicely. In addition, we have fabricated OTFTs with pentacene and photosensitive polyimide as a semiconductor and a gate insulator; respectively. According to the device geometry, the ${\mu}$, current modulation ratio and subthreshold swing of the devices were around 0.2${\sim}$0.4 $cm^2$/Vs, more than $10^5$ and around 3${\sim}$5 V/dec, respectively.
감광성 orthonaphthoquinonediazide-sulfonyl 유도체를 합성하고, 그 감광특성에 대해 검토한 결과, UV에 의해 광변환 되어, 알칼리 가용성의 분해화합물이 생성됨을 확인하였다. 이 유도체를 PAC로, m-cresol novolac을 matrix resin으로 photoresist를 제조하고 감광 특성을 고찰하여, 미세 패턴용 photoresist로의 타당성을 확인하였다. 3, 4, 5-Trihydroxybenzophenone 의 벌키한 공명 구조는 노광부의 감도와 가용성을 향상시켰으며, PAC 와 matrix resin의 혼합 무게비가 3:8 일 때 가장 적절한 dissolution rate를 나타냈으므로, 이 photoresist가 정해진 조건 하에서 감도, 해상력이 가장 우수하였다.
In recent years, the safety of sunscreens has been challenged based on the reports of their adverse effect on users; dermatitis, allergic contact dermatitis and photo allergic contact dermatitis. The unscientific idea that higher SPF sunsreen is good for health mealeads many users to tend to prefer higher SPF sunscreen. In the toxicological aspect, the need to investigate the safety of sunscreens is steadily increasing. However, there were few studies on the correlation between sun protection factor (SPF) and the safety of sunscreens. The objective of this study was to assess whether there was a correlation between SPF and the safety of sunscreens. We measured in vitro SPF index using homosalate as a standard and examined the toxicity tests such as primary skin irritation tests, ocular irritation test and skin sensitization test. Homosalate (HS), octyl methoxycinnamate (OMC), octyl salicylate (OS), octocrylene (OC) as UVB organic filter and benzophenone-3 (BP3), butyl methoxy dibenzoil methane (BMDM) as UVA organic filter, and titanium dioxide (TD), zinc oxide (ZO) as inorganic filters were used. The skin irritation indexes in rabbits treated with HS, OMC, OS, BP3, and BMDM were significantly increased as SPF indices were increased. Neither ocular irritation in rabbits nor skin sensitization in guinea pigs were increased. It suggests that there might be a good correlation between SPF and the skin irritation indices of organic UV filters and skin irritation might be one of most sensitive index to assess the safety of sunscreens.
The ultraviolet blocking agents used to skincare are largely classified ultraviolet scattering agent and ultraviolet absorbent agents. There are UVC, UVB, and UBA in ultraviolet ray(UV) showing shorter wavelength than visible light. Both visible light and UVA give rise to 1st dark-skinned phenomena. On exposure of the skin to UV, phenomena of skin variation are termed sunburn or suntan. There are chronic and acute adverse reactions in skin response to UV. The latter is caused by UVB, which has mainly effects on the skin. But lately due to destruction of ozone layer, UVA has more serious irritation on the skin than UVB. In this paper spectrometric properties of UV absorbent agents such as PABA, octyl-PABA, Urocanic acid, and 2-hydroxy-4-methoxy benzophenone in vitro have been investigate. As results, it was found that the three fomer were more suitable than the last. UV scattering measurements on the sample used inorganic pigments showed that pigments containing titanium dioxide had a better scattering effects than the inorganic pigments such as $Fe_2O_3$, $Al_2O_3$, etc.
This study investigated the proper dyeing conditions, color fastness and functionality of wool fabrics dyed with Zizania latifolia Turcz. We also tried to improve light fastness through treatment with benzophenone ultraviolet absorber. The dyeing of wool fabrics using Zizania latifolia Turcz was good even without pretreatment or mordanting treatment. Optimal wool fabric dyeing conditions were colorant concentration of 200% (o.w.f.), dyeing temperature of $100^{\circ}C$, dyeing time of 80 minutes and a dye bath pH of 3. Color fastness of dyed wool fabrics to washing, rubbing, perspiration and light was 4-5, 5, 4-4-5 (acidic), 4-5 (alkaline) and 2 respectively. The results after treatment with ultraviolet absorber for improving the fastness of daylight were improved to 3-4 grade. The UV protection rate were increased after dyeing and the deodorization of ammonia gas improved to 98%. Bacterial reduction rate (Staphylococcus aureus) of wool fabrics was excellent at 99.9%. All dye fastness (except for light fastness) was excellent; in addition, the functionality of wool fabrics dyed with Zizania latifolia Turcz also improved. The results are expected to be applied to various fields because they indicate excellent results after treatment with ultraviolet absorber for improving the fastness of daylight.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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