급속열처리에 의한 TiN/$TiSi_2$ 이중구조막을 이용한 submicron contact에서의 전기적 특성
(The Electrical Roperties of TiN/$TiSi_2$ Bilayer Formed by Rapid Thermal Anneal at Submicron Contact)
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- 전자공학회논문지A
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- 제31A권9호
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- pp.78-88
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- 1994