• 제목/요약/키워드: a-C:Ti

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근전도를 이용한 손목방향인식 모듈에 관한 연구 (A Study of a Module of Wrist Direction Recognition using EMG Signals)

  • 이충헌;강성인;배성호;권장우;이동훈
    • 재활복지공학회논문지
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    • 제7권1호
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    • pp.51-58
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    • 2013
  • 고령화 시대로 변화해 가면서 재활 복지 산업, 스포츠 산업 시장이 빠르게 성장하고 있다. 특히, 근전도, 뇌전도, 안전도등 생체신호를 이용하여 휠체어 등 복지기기, 의수 및 의족을 제어할 수 있는 재활기기 및 일상의 전자기기 등을 제어할 수 생체 인터페이스 분야는 새로운 미래 신기술영역이며, 또한 사회적 약자인 장애인, 노약자, 재활환자에게 많은 도움을 줄 수 있을 뿐만 아니라 일반인에게도 다양한 응용분야에서 활용될 것이다. 상용화된 생체신호계측 장비 및 인터페이스의 경우 부피가 크고 복잡하며, 고가 제품으로 실생활에 이용하기에는 많은 제약을 갖고 있다. 본 논문에서는 휴대가 가능한 형태의 소형 근전도 신호계측 장치를 구현하였으며, 무선 전송이 가능한 형태의 인터페이스 시스템을 통하여 근전도 신호를 통한 하드웨어 장치 제어가 가능한 제어모듈 개발에 관한 연구를 수행하였다. 손목의 움직임을 통해 발생된 근전도 신호를 입력받아 불필요한 잡음을 제거하고, 신호를 증폭하는 휴대형 하드웨어 모듈을 설계 하였다. 획득된 근전도 신호를 디지털 신호로 변환과 함께 디지털 필터링을 위해 TI사의 TMS320F2808 DSP칩을 사용하여 구현하였다. 또한 획득된 근전도 신호로부터 주성분 분석 기법을 이용하여 상, 하, 좌, 우의 4 동작신호로 분류하였으며 분류된 데이터는 PC 터미널로 무선 전송하여 표시하도록 하였다. 최종적으로 4가지 동작에 대해 85%의 인식률을 얻었으며, 지금보다 높은 인식률을 얻게 된다면 근전도를 이용한 손목동작을 통하여 다양한 하드웨어 시스템을 제어하는 제어신호로 활용이 가능하리라 본다.

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Fracture resistance of implant- supported monolithic crowns cemented to zirconia hybrid-abutments: zirconia-based crowns vs. lithium disilicate crowns

  • Elshiyab, Shareen H;Nawafleh, Noor;Ochsner, Andreas;George, Roy
    • The Journal of Advanced Prosthodontics
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    • 제10권1호
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    • pp.65-72
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    • 2018
  • PURPOSE. The aim of this in vitro study was to investigate the fracture resistance under chewing simulation of implant-supported posterior restorations (crowns cemented to hybrid-abutments) made of different all-ceramic materials. MATERIALS AND METHODS. Monolithic zirconia (MZr) and monolithic lithium disilicate (MLD) crowns for mandibular first molar were fabricated using computer-aided design/computer-aided manufacturing technology and then cemented to zirconia hybrid-abutments (Ti-based). Each group was divided into two subgroups (n=10): (A) control group, crowns were subjected to single load to fracture; (B) test group, crowns underwent chewing simulation using multiple loads for 1.2 million cycles at 1.2 Hz with simultaneous thermocycling between $5^{\circ}C$ and $55^{\circ}C$. Data was statistically analyzed with one-way ANOVA and a Post-Hoc test. RESULTS. All tested crowns survived chewing simulation resulting in 100% survival rate. However, wear facets were observed on all the crowns at the occlusal contact point. Fracture load of monolithic lithium disilicate crowns was statistically significantly lower than that of monolithic zirconia crowns. Also, fracture load was significantly reduced in both of the all-ceramic materials after exposure to chewing simulation and thermocycling. Crowns of all test groups exhibited cohesive fracture within the monolithic crown structure only, and no abutment fractures or screw loosening were observed. CONCLUSION. When supported by implants, monolithic zirconia restorations cemented to hybrid abutments withstand masticatory forces. Also, fatigue loading accompanied by simultaneous thermocycling significantly reduces the strength of both of the all-ceramic materials. Moreover, further research is needed to define potentials, limits, and long-term serviceability of the materials and hybrid abutments.

이산화티탄 나노입자로부터 고굴절 하드코팅 도막의 제조 (Preparation of Hard Coating Films with High Refractive Index from Titania Nanoparticles)

  • 김남우;안치용;송기창
    • Korean Chemical Engineering Research
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    • 제53권6호
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    • pp.762-769
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    • 2015
  • 직경 2~3 nm 크기를 갖는 이산화티탄 나노입자가 산성 용액에서 titanium tetraisopropoxide(TTIP)의 가수분해 반응을 조절함에 의해 합성되었다. 생성된 이산화티탄 나노입자를 졸-겔법에 의해 3-glycidoxypropyl trimethoxysilane(GPTMS)과 반응시킴에 의해 유-무기 혼성 코팅 용액이 제조되었다. 그 후 코팅 용액을 기재인 polycarbonate(PC) 시트 위에 스핀 코팅시키고, $120^{\circ}C$에서 열경화 시켜 고굴절률 하드코팅 도막이 제조되었다. 코팅 도막은 가시광선 영역에서 90%의 높은 광학적 투과율을 보였으며 2H의 연필경도를 나타내었다. 또한 코팅 용액 내의 이산화티탄 나노입자의 함량이 4%에서 25%로 증가됨에 따라 코팅 필름의 굴절률은 633 nm 파장에서 1.502로부터 1.584로 향상되었다.

압영제조된 $Tl_{0.8}$$Pb_{0.2}$$Bi_{0.2}$$Sr_{1.8}$$Ba_{0.2}$$Ca_{2.2}$$Cu_{3}$$O_{x}$/Ag 선재에서의 높은 $J_{c}$ (High $J_{c}$'s in just-rolled $Tl_{0.8}$$Pb_{0.2}$$Bi_{0.2}$$Sr_{1.8}$$Ba_{0.2}$$Ca_{2.2}$$Cu_{3}$$O_{x}$/Ag tapes)

  • 정대영;김희권;이해연;허홍수;오상수;이준호;김봉준;김영철
    • 한국초전도저온공학회:학술대회논문집
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    • 한국초전도저온공학회 1999년도 제1회 학술대회논문집(KIASC 1st conference 99)
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    • pp.3-9
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    • 1999
  • The grain morphology, the changes in morphology and Jc with the thermo-mechanical treatment (TMT) history, the field dependence of Jc and the nature of intergranular bonding were studied in $T_{10.8}$$Pb_{.2}$$Bi_{0.2}$$Sr_{1.8}$$Ba_{0.2}$$Ca_{2.2}$$Cu_{3}$$O_{z}$/Ag tapes. As a result, incorporation of intermediate rolling during the final heat-treatment resulted in of plate-like TI-1223 grains, and thus enhanced Jc. Jc's near 2.5$\times$104 A/cm2 at 77 K and 0 T were obtained in just rolled tapes with an excellent reproducibility. The high Jc's seem to grain-connectivity easy recovery of excellent grain-connectivity during final heat-treatment after inter -mediate rolling, probably due to retarded T1 evaporation and excessive Ca content in the present composition. The strong field dependence of Jc even in low fields, however, indicated that there still existed significant weak-links and the degree of directional grain-alignment was far from the desired one. The intergranular binding in the tapes seemed to be mainly dominated by SIS junctions.

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Ag2O 첨가에 따른 0.98(Na0.5K0.5)NbO3-0.02Li(Sb0.17Ta0.83)O3 세라믹스의 압전특성 (Piezoelectric Properties of Ag2O-doped 0.98(Na0.5K0.5)NbO3-0.02Li(Sb0.17Ta0.83)O3 Ceramics)

  • 김현주;이승환;이성갑;이영희
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제25권1호
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    • pp.29-32
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    • 2012
  • Lead-free $0.98(Na_{0.5},K_{0.5})NbO_3-0.02Li(Sb_{0.17}Ti_{0.83})O_3$ (hereafter 0.98NKN-0.02LST) ceramics doped with $Ag_2O$ were prepared using a conventional mixed oxide method. The specimen showed superior structural and electrical properties when 1 mol% $Ag_2O$ was doped. For the 0.98NKN-0.02LST+1.0mol%$Ag_2O$ ceramics sintered at $1,100^{\circ}C$, piezoelectric constant ($d_{33}$) of sample showed the optimum values of 207 pC/N. The 0.98NKN-0.02LST+1.0 mol%$Ag_2O$ ceramics are a promising candidate for lead-free piezoelectric materials.

PNN 치환에 따른 PMW-PNN-PZT-BF 세라믹스의 미세구조와 압전 특성 (Microstructure and Piezoelectric Properties of Low Temperature Sintering PMW-PNN-PZT-BF Ceramics According to PNN Substitution)

  • 신상훈;류주현
    • 한국전기전자재료학회논문지
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    • 제29권2호
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    • pp.90-94
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    • 2016
  • In this work, [$Pb(Mg_{1/2}W_{1/2})_{0.03}(Ni_{1/3}Nb_{2/3})_x(Zr_{0.5}Ti_{0.5})_{0.97-x}O_3-BiFeO_3$] (x=0.02 to 0.12) composition ceramics were fabricated by the conventional soild state reaction method and their microstructure and piezoelectric properties were investigated according to PNN substitution. The addition of small amount of $BiFeO_3$, $Li_2CO_3$, and $CaCO_3$ were used in order to decrease the sintering temperature of the ceramics. The XRD (x-ray diffraction patterns) of all ceramics exhibited a perovskite structure. The sinterability of PMW-PNN-PZT-BF ceramics was remarkably improved using liquid phase sintering of $CaCO_3$, $Li_2CO_3$. However, it was identified from of the X-ray diffraction patterns that the secondary phase formed in grain boundaries decreased the piezoelectric properties. According to the substitution of PNN, the crystal structure of ceramics is transformed gradually from a tetragonal to rhombohedral phase. The x=0.10 mol PNN-substituted PMW-PNN-PZT-BF ceramics sintered at $920^{\circ}C$ showed the optimum values of piezoelectric constant($d_{33}$), piezoelectric figure of merit($d_{33{\cdot}}g_{33}$), planar piezoelectric coupling coefficient($k_p$) and density : $d_{33}=566$ [pC/N], $g_{33}=29.28[10^{-3}mV/N]$, $d_{33{\cdot}}g_{33}=16.57[pm^2/N]$, $k_p=0.61$, density=7.82 [$g/cm^3$], suitable for duplex ultrasonic sensor application.

필름 스피커 적용을 위한 PZT/polymer 복합체의 후막 제조 및 압전 특성 평가

  • 손용호;어순철;김성진;권성열;권순용
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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    • 한국전기전자재료학회 2007년도 추계학술대회 논문집
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    • pp.346-346
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    • 2007
  • 압전세라믹 재료는 현재 압전 변압기, actuator, transducer, sensor, speaker 등에 광범위하게 이용이 되고 있다. 이 중에서 압전세라믹 소결체를 이용한 스피커의 제조는 가공이 까다롭고, 대형의 크기로 제작 시 소자가 깨지는 등의 많은 제약을 받고 있으며, 저음 특성이 떨어져 응용 범위가 한정되어 있다. 따라서 최근에는 이러한 단점을 극복하기 위하여 세라믹/고분자 복합체를 이용한 필름 스피커를 제작하고자 시도하고 있다. 이러한 세라믹/고분자 0-3형 압전 복합체를 이용할 경우, 제품의 경량화를 실현할 수 있고, 크기나 환경의 영향을 거의 받지 않으므로, 고기능성 스피커로의 응용에 적합할 것으로 보인다. 따라서 본 연구에서는 PZT계의 세라믹와 PVDF, PVDF-TrFE, Polyester, acrylic resin 등의 여러 고분자 물질과의 복합체를 제조하여 압전특성을 평가하였다. 본 실험은 먼저 $(Pb_{1-a-b}Ba_aCd_b)(Zr_xTi_{1-x})_{1-c-d}(Ni_{1/3}Nb_{2/3})_c(Zn_{1/3}Nb_{2/3})_dO_3$ (이하 PZT라 표기)의 최적화 조성을 선택하여, $1050^{\circ}C$에서 소결된 분말을 48시간 ball milling방법 로 약 $1{\mu}m$ 크기로 분쇄하였다. 고분자 물질들은 알맞은 용제들을 선택하여 녹였다. 그 다음 소결된 PZT분말과 고분자를 50:50, 60:40, 65:35, 70:30등의 무게 분율로 혼합하고, 분산제, 소포제 등을 첨가하여 3단 roll mill을 이용하여 충분히 분산시켜 페이스트 (Paste)를 제조하였다. 제조된 페이스트를 ITO가 코팅된 PET필름 위에 스크린 프린팅 법을 사용하여 인쇄하여 $120^{\circ}C$에서 5분간 건조하였다. 코팅된 복합체의 두께는 약 $80{\mu}m$ 정도로 측정되었다. Ag 페이스트를 이용한 상부 전극 형성에도 스크린 프린팅 법을 적용하였다. 이를 $120^{\circ}C$에서 4 kV/mm의 DC 전계로 분극 공정을 수행한 후 전기적 특성을 평가하였다. 유전특성을 조사하기 위해서 LCR meter (EDC-1620)를 사용하였고, 시편의 결정구조는 XRD (Rigaku; D/MAX-2500H)을 통해 분석하였으며, 전자현미경(SEM)을 이용하여 미세구조를 분석하였다. 압전 전하상수$(d_{33})$ 값은 APC 8000 모델을 이용하여 측정하였다. PZT의 혼합비가 증가할수록 비유전율 및 압전 전하 상수 등의 전기적 특성이 증가되었다. 또 여러 고분자 물질 중에서 PVDF-TrFE 수지가 가장 우수한 특성을 보였다. 이는 PVDF-TrFE 수지가 압전성을 나타내기 때문인 것으로 판단되었다.

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$SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$$Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4$ 터널 장벽을 사용한 금속 실리사이드 나노입자 비휘발성 메모리소자의 열적 안정성에 관한 연구

  • 이동욱;김선필;한동석;이효준;김은규;유희욱;조원주
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2009년도 제38회 동계학술대회 초록집
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    • pp.139-139
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    • 2010
  • 금속 실리사이드 나노입자는 열적 및 화학적 안정성이 뛰어나고, 절연막내에 일함수 차이에 따라 깊은 양자 우물구조가 형성되어 비휘발성 메모리 소자를 제작할 수 있다. 그러나 단일 $SiO_2$ 절연막을 사용하였을 경우 저장된 전하의 정보 저장능력 및 쓰기/지우기 시간을 향상시키는 데 물리적 두께에 따른 제한이 따른다. 본 연구에서는 터널장벽 엔지니어링을 통하여 물리적인 두께는 단일 $SiO_2$ 보다는 두꺼우나 쓰기/지우기 동작을 위하여 인가되는 전기장에 의하여 상대적으로 전자가 느끼는 상대적인 터널 절연막 두께를 감소시키는 방법으로 동작속도를 향상 시킨 $SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$$Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4$ 터널 절연막을 사용한 금속 실리사이드 나노입자 비휘발성 메모리를 제조하였다. 제조방법은 우선 p-type 실리콘 웨이퍼 위에 100 nm 두께로 증착된 Poly-Si 층을 형성 한 이후 소스와 드레인 영역을 리소그래피 방법으로 형성시켜 트랜지스터의 채널을 형성한 이후 그 상부에 $SiO_2/Si_3N_4/SiO_2$ (2 nm/ 2 nm/ 3 nm) 및 $Si_3N_4/SiO_2/Si_3N_4$ (2 nm/ 3 nm/ 3 nm)를 화학적 증기 증착(chemical vapor deposition)방법으로 형성 시킨 이후, direct current magnetron sputtering 방법을 이용하여 2~5 nm 두께의 $WSi_2$$TiSi_2$ 박막을 증착하였으며, 나노입자 형성을 위하여 rapid thermal annealing(RTA) system을 이용하여 $800{\sim}1000^{\circ}C$에서 질소($N_2$) 분위기로 1~5분 동안 열처리를 하였다. 이후 radio frequency magnetron sputtering을 이용하여 $SiO_2$ control oxide layer를 30 nm로 증착한 후, RTA system을 이용하여 $900^{\circ}C$에서 30초 동안 $N_2$ 분위기에서 후 열처리를 하였다. 마지막으로 thermal evaporator system을 이용하여 Al 전극을 200 nm 증착한 이후 리소그래피와 식각 공정을 통하여 채널 폭/길이 $2{\sim}5{\mu}m$인 비휘발성 메모리 소자를 제작하였다. 제작된 비휘발성 메모리 소자는 HP 4156A semiconductor parameter analyzer와 Agilent 81101A pulse generator를 이용하여 전기적 특성을 확인 하였으며, 측정 온도를 $25^{\circ}C$, $85^{\circ}C$, $125^{\circ}C$로 변화시켜가며 제작된 비휘발성 메모리 소자의 열적 안정성에 관하여 연구하였다.

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수산단백질(水産蛋白質) 소화화(消化華)에 미치는 가열처리(加熱處理)의 영향(影響) (Effect of Heat Treatment on the In Vitro Protein Digestibility and Trypsin Indigestible Substrate (TIS) Contents in Some Seafoods)

  • 류홍수;이강호
    • 한국식품영양과학회지
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    • 제14권1호
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    • pp.1-12
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    • 1985
  • 가열 및 동결저장이 오징어, 굴, 새우 및 명태의 in vitro 소화율과 trypsin indigestible substrate (TIS) 함량 변화에 미치는 영향을 실험한 결과는 다음과 같다. Boiling 했을 때 최고의 운 in vitro 소화율을 나타내는 시간은 오징어 1분, 내장을 제거한 굴 0.5분, 내장을 제거하지 않은 굴은 1분이었고, 명태는 5분 이었으며, 오징어와 굴은 부위에 따라 소화율은 다르게 나타났다. 최고의 in vitro 소화율을 나타내는 steaming 조건은 오징어는 $100^{\circ}C$에서 1분, 굴은 $88^{\circ}C$에서 1분이었으며, 명태는 $100^{\circ}C$에서 $1{\sim}2.5$분이었다. TIS는 진시료에서 in vitro 소화율과 역상관관계를 가지며 변화하였다. 동결건조한 시료가 다른 건조품보다 현저하게 높은 in vitro 소화율을 보였으나, 내장을 제거했거나 지방함량이 낮은 시료를 천일건조했을 때도 동결건조시료에 버금가는 in vitro 소화율을 나타내었다. 동결저장은 지방함량이 낮은 시료의 in vitro 소화율의 저하 및 TIS함량 증가에 효과적이었으나, 지방함량이 높아 산패가 심하게 진행된 시료에는 현저한 효과를 볼 수 없었다. 지방함량은 수산식품단백질을 가열처리했거나 저장했을 때의 소화율 변화에 결정적인 영향을 미침을 알 수 있었으며, 4가지의 효소를 이용한 multi-enzyme digestion technique은 수산식품단백질의 소화율 변화를 측정함에 있어 아주 민감하고 유용한 방법으로 판명되었다.

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Copper Interconnection and Flip Chip Packaging Laboratory Activity for Microelectronics Manufacturing Engineers

  • Moon, Dae-Ho;Ha, Tae-Min;Kim, Boom-Soo;Han, Seung-Soo;Hong, Sang-Jeen
    • 한국진공학회:학술대회논문집
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    • 한국진공학회 2012년도 제42회 동계 정기 학술대회 초록집
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    • pp.431-432
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    • 2012
  • In the era of 20 nm scaled semiconductor volume manufacturing, Microelectronics Manufacturing Engineering Education is presented in this paper. The purpose of microelectronic engineering education is to educate engineers to work in the semiconductor industry; it is therefore should be considered even before than technology development. Three Microelectronics Manufacturing Engineering related courses are introduced, and how undergraduate students acquired hands-on experience on Microelectronics fabrication and manufacturing. Conventionally employed wire bonding was recognized as not only an additional parasitic source in high-frequency mobile applications due to the increased inductance caused from the wiring loop, but also a huddle for minimizing IC packaging footprint. To alleviate the concerns, chip bumping technologies such as flip chip bumping and pillar bumping have been suggested as promising chip assembly methods to provide high-density interconnects and lower signal propagation delay [1,2]. Aluminum as metal interconnecting material over the decades in integrated circuits (ICs) manufacturing has been rapidly replaced with copper in majority IC products. A single copper metal layer with various test patterns of lines and vias and $400{\mu}m$ by $400{\mu}m$ interconnected pads are formed. Mask M1 allows metal interconnection patterns on 4" wafers with AZ1512 positive tone photoresist, and Cu/TiN/Ti layers are wet etched in two steps. We employed WPR, a thick patternable negative photoresist, manufactured by JSR Corp., which is specifically developed as dielectric material for multi- chip packaging (MCP) and package-on-package (PoP). Spin-coating at 1,000 rpm, i-line UV exposure, and 1 hour curing at $110^{\circ}C$ allows about $25{\mu}m$ thick passivation layer before performing wafer level soldering. Conventional Si3N4 passivation between Cu and WPR layer using plasma CVD can be an optional. To practice the board level flip chip assembly, individual students draw their own fan-outs of 40 rectangle pads using Eagle CAD, a free PCB artwork EDA. Individuals then transfer the test circuitry on a blank CCFL board followed by Cu etching and solder mask processes. Negative dry film resist (DFR), Accimage$^{(R)}$, manufactured by Kolon Industries, Inc., was used for solder resist for ball grid array (BGA). We demonstrated how Microelectronics Manufacturing Engineering education has been performed by presenting brief intermediate by-product from undergraduate and graduate students. Microelectronics Manufacturing Engineering, once again, is to educating engineers to actively work in the area of semiconductor manufacturing. Through one semester senior level hands-on laboratory course, participating students will have clearer understanding on microelectronics manufacturing and realized the importance of manufacturing yield in practice.

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