• 한국진공학회:학술대회논문집
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• 한국진공학회 2013년도 제44회 동계 정기학술대회 초록집
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• pp.639-639
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• 2013

In this research we report the significant contribution of the as-spun multi-walled carbon nanotube (MWCNT) on the x-ray images formation using a low tube voltage x-ray source. The MWCNT, which was used for the fabrication of the spun CNT, was grown using a microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition machine. Electrical-optics simulation software was utilized to determine the electron field emission trajectory of the triode-structure-as-spun CNT-based x-ray source. It was shown that a significant amount of converging electrons hit the target anode producing a clear x-ray image. These x-ray images where produced at a small amount of anode current of 0.67 mA at a tube voltage of 5 kV with the gate voltage of 0 V. Also, comparisons of the radiographs at various exposure times of the sample where analyzed with and without an x-ray dose filter. Results showed that spatially-resolved images were formed using the as-spun CNT at a low tube voltage with a $54-{\mu}m$ Al x-ray filter. This study can be used for low-voltage medical applications.

• 한국안광학회지
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• 제19권4호
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• pp.487-492
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• 2014

목적: 대물부의 구성이 더블렛+메니스커스 렌즈를 가지는 3X 스코프 개발에 관한 것이다. 방법: 더블렛(doublet) + 단일렌즈(singlet)의 구성을 가지는 대물부를 초기조건으로 하여 대물부의 유한광선 수차와 스코프 전체 광학계의 유한광선 수차를 최소화하도록 스코프 광학계를 최적화하여 새로운 형태의 3X 스코프를 개발하였다. 결과: 대물부의 구성을 더블렛+단일렌즈로 두고 유한광선 수차를 최소화하도록 스코프 광학계를 최적화를 하였을 때 우리는 단일렌즈는 더블렛 방향으로 오목한 메니스커스 형태의 렌즈가 되며, 더블렛과 메니스커스 렌즈 사이의 거리가 멀수록 유한광선 수차는 더욱 최소화됨을 확인할 수 있었다. 결론: 본 연구에서 우리는 3X 스코프의 대물부를 더블렛+메니스커스 렌즈 방식의 3매의 렌즈를 채택함으로서 기존의 스코프보다 유한광선 수차를 약 1/14로 줄일 수 있는 새로운 형태의 3X 스코프를 개발할 수 있었다. 이러한 수차량의 감소는 기존 스코프 보다 유효 구경을 크게 할 수 있으며 광학계의 길이를 짧게 할 수 있는 수단이 됨을 확인할 수 있었다.

• 한국광학회지
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• 제19권4호
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• pp.249-254
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• 2008

새 구조의 액정 엑스선 감지기를 만들었다. 이것은 액정판을 만들고 유리판을 얇게 식각한 다음, 그 유리판 위에 반사막과 광전도층을 연속하여 입힌 구조이다. 새 구조의 액정엑스선 감지기는 공정의 안정성, 대면적화, 감도 등에서 이미 상품화된 엑스선 감지기와도 충분히 경쟁할 수 있으며, 따라서 성공적으로 상용화 할 수 있음을 확인했다.

• 한국안광학회지
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• 제13권2호
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• pp.17-22
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• 2008

목적: X선용 545 nm 형광판을 위한 결상광학계 개발. 방법: 캐논(Canon)사 CX2-70 모델을 참조하여 설계 기준을 정한 다음 Sigma 2000 광학 설계 프로그램으로 X선용 545 nm 형광판을 위한 결상광학계를 설계 제작하였다. 결과: 새로 설계 제작되어진 X선용 545 nm 형광판 결상광학계의 배율은 -0.225배이고, 이미지 크기는 90 mm${\times}$90 mm이며, 분해선폭은 30% MTF 값 기준으로 0.033 mm인 특성을 보여준다. 이는 캐논 CX2-70 모델보다 큰 화면으로 판독을 할 수 있고, 판독의 분해능도 우수함을 의미한다. 또한 이미지 측 NA값이 -0.196으로 캐논 CX2-70 모 델 -0.139보다 약$\sqrt{2}$배 크게 하였고, 물체 측 NA값도 0.044로 캐논 CX2-70 모델 0.022보다 약 2배 크게 하였다. 이는 필름의 감도를 4배 증가 시킬 수 있는 것을 의미하며 X선의 피폭시간을 1/4로 줄일 수 있음을 뜻한다. 결론: 이미지 크기가 90 mm${\times}$90 mm이고, 15 lines/mm에서 MTF 30% 이상인 특성을 가지며, 캐논 CX2-70 모델에 비해 X선 피폭시간을 1/4로 줄일 수 있는 새로운 X선용 545 nm 형광판 결상광학계를 설계 제작하였다.

• 한국안광학회지
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• 제9권1호
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• pp.69-73
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• 2004

${\alpha}-Al_2O_3$ 단결정의 TSEE와 TSL을 $2{\pi}$비례계수기를 사용하여 측정하였다. ${\alpha}-Al_2O_3$ 단결정을 실온에서 500K 온도범위에서 X선과 자외선(UV)을 조사하였다. X선 조사 후에 3개의 TSEE와 3개의 TSL 봉우리가 관찰되었다. ${\alpha}-Al_2O_3$ 단결정의 TSEE와 TSL 그로우곡선은 여기 원의 종류에 관계없이 잘 대용되고 있음을 보여 주었다. 이 연구에서 우리는 $2{\pi}$ 비례계수기가 ${\alpha}$-입자의 에너지 스펙트럼 분석장치 뿐만 아니라 TSEE와 TSL의 측정에도 유익함을 알 수 있었다.

• International Journal of Precision Engineering and Manufacturing
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• 제7권3호
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• pp.60-65
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• 2006

This paper proposes a new type of six degree-of-freedom fine positioner that can be used to align the condenser in X-ray microscopy precisely. The new concept was based on the requirements for an X-ray microscope. A proposed modeling method was used to obtain an optimal design, which was verified with a finite element analysis. The fine positioner was then constructed and an experiment was used to validate its performance.

• 한국광학회지
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• 제3권2호
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• pp.86-91
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• 1992

Synchrotron 방사광으로 부터 soft X-ray, 광에너지 300-1200eV, 영역의 특정 파장을 선택할 수 있는 단색화 장치의 설계에 대하여 알아보았다. C.T.Chenㅡ이 새로운 제안에 의해 건설되어 그 성능이 기존의 여러 단색화 장치보다 우수하다고 알려진 Brookhaven National Laboratory의 CEM(cylindrical element monochromator) 형태인 Dragon beam line을 모델로 하여 PLS(Pohang Light Source) 방사광 가속기의 구조에 맞게 광학적 설계시 고려해야할 조건을 조사하였다.

• 대한의용생체공학회:학술대회논문집
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• 대한의용생체공학회 1996년도 춘계학술대회
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• pp.41-44
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• 1996

There are studied for filmness methods due to disadvantage of conventional X-ray system. Have high DQE, high SNR, amorphous selenium was investigated with image plate. In this point, characteristics of all amorphous selenium image plate was investigated to understand the relationship between the amount of the X-ray exposure and the superficial charge potential in this study. Specially, changes in charge at the surface of the amorphous selenium plate with respect to change of X-ray energy(KeV) was investigated. It was found that the surface charge potential at the amorphous selenium inclosed with respect to the increse in X-ray exposure and that the changed surface potential was a semilinearity in 12.5KeV - 22.5KeV range. Therefore, which suggests that these results call be applied to the development of X-ray image plate.

• 한국안광학회지
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• 제3권1호
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• pp.115-120
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• 1998

RF(radio-frequency) magnetron 스퍼터링 장치에 질소가스와 아르곤가스를 동시에 주입하면서 Ti 타켓을 스퍼터링하여 $TiN_x$ 박막을 유리기판위에 제작하였다. 박막제작시 RF power supply 출력을 240W로, 증착기 내부의 온도는 $200^{\circ}C$를 유지하였다. $TiN_x$ 박막은 알곤 가스를 20sccm으로 고정시킨 상태에서 질소를 3sccm부터 9sccm까지 변화시켜가며 증착시켰다. 이때 박막의 화학적 조성과 성분비를 분석하기 위하여 XPS를 사용하였다.

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2000년도 제11회 정기총회 및 00년 동계학술발표회 논문집
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• pp.68-68
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• 2000

In this paper a very brief review of historical development of optical science and technology in China is presented. More attention has been pain on Modem Optics, which developed since 1950s. The recent development of optical science and technology in following fields are introduced. 1. Optical engineering and instrumentation (tracking theodolites, high speed cameras, satellite laser ranging systems, satellite flying attitude control, cameras for remote sensing, astronomical optical instrument) 2. Applied optics (adaptive optics, optical metrology, infrared optics, optical processing, optical holography) 3. Laser science and technology (ultrashort pulse lasers, UV-X ray lasers, high power laser facilities and laser fusion, laser isotope separation) 4. Laser and nonlinear materials (rare earth elements doped laser glasses and crystals, tunable laser crystals, borate series and organic nonlinear crystals) 5. Optoelectronic science and technology (Optical communication, optical data storage, optical computing) The current situation and developing prospect of optical and optoelectronic industry in China are presented. Furthermore it points out that the optical industry could be developed vigorously only if products development capacity is enhanced and new products industrialization is heightened. The main research and education institutions in the optics field in China, as well as the Chinese Optical Society (COS) are introduced.