Journal of Korean Ophthalmic Optics Society (한국안광학회지)
- Volume 13 Issue 2
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- Pages.17-22
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- 2008
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- 1226-5012(pISSN)
Development of the Imaging Optical System for the 545 nm Fluorescent Plate of X-ray
X선용 545 nm 형광판 결상광학계 개발
- Lee, Dong-Hee (Department of Optometry, College of Health Sciences, Eulji University)
- 이동희 (을지대학교 보건과학대학 안경광학과)
- Received : 2008.04.05
- Accepted : 2008.06.10
- Published : 2008.06.30
Abstract
To develop an imaging optical system for the 545 nm fluorescent plate of X-ray. Methods: We designed and manufactured a new imaging optical system for the 545 nm fluorescent plate of X-ray by Sigma 2000 program after deciding the design comparison standards referred to Canon CX2-70 model. Results: The characteristics of the new imaging optical system for the 545 nm fluorescent plate of X-ray have the magnification of -0.225x, the image field size of
목적: X선용 545 nm 형광판을 위한 결상광학계 개발. 방법: 캐논(Canon)사 CX2-70 모델을 참조하여 설계 기준을 정한 다음 Sigma 2000 광학 설계 프로그램으로 X선용 545 nm 형광판을 위한 결상광학계를 설계 제작하였다. 결과: 새로 설계 제작되어진 X선용 545 nm 형광판 결상광학계의 배율은 -0.225배이고, 이미지 크기는 90 mm