• 대한전자공학회논문지
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• 제24권5호
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• pp.786-793
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• 1987

This paper describes the design and fabrication of the polysilicon selfaligned bipolar transistor with 1.6\ulcorner epitaxy and SWAMI isolation technologies. This transistor has two levels of polysilicon. Also emitter and adjacent edge of polysilicon base contact of this PSA device are defined by the same mask, and emitter feature size is 2x4 \ulcorner. DC characteristic of the fabricated transistor was evaluated and analyzed for the SPICE input parameters. The minimum propagation delay time per gate of 330 ps at 1mW was obtained with 41 stage CML ring oscillator.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2000년도 하계학술대회 논문집
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• pp.759-762
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• 2000

Present transistors which have vertical structure show increased parasitic capacitance characteristics in accordance with the increase of non-active base area and collector area, consequently have disadvantage for high speed switching performance. In this paper, a horizontal structure transistor which has minimized parasitic capacitance in virtue of SDB(Silicon Direct Bonding) wafer and oxide sidewall isolation utilizing silicon trench technology is presented. Its structural characteristics were designed by ATHENA(SUPREM4), the process simulator from SILVACO International, and its performance was proven by ATLAS, the device simulator from SILVACO International. The performance of the proposed horizontal structure transistor was certified through the VCE-lC characteristics curve, $h_{FE}$ -IC characteristics, and GP-plot.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6
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• pp.504-505
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• 2005

In this report, we demonstrate a high performance polymer thin-film transistor fabricated on a paper substrate. As a water barrier layer, parylene was coated on the paper substrate by using vacuum deposition process. Using poly (3-hexylthiophene) as an active layer, a polymer thin-film transistor with field-effect of up to 0.086 $cm^2/V{\cdot}s$ and on/off ratio of $10^4$ was achieved. The fabrication of polymer thin-film transistor built on a cheap paper substrate is expected to open a channel for future applications in flexible and disposable electronics with extremely low-cost.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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• 한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8
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• pp.167-168
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• 2007

Design Rule이 작아짐에 따라 Transistor performance 향상을 위한 여러 방안중 SEG 공정이 적용되고 있으며 이에 따른 Transistor 특성 연구 결과이다. SEG공정 적용시 SEG Profile에 따라 Transistor의 Short Channel Effect 열화가 발생하였고 그 원인은 Sidewall Facet발생으로 추정되며 이를 개선시 Tr 특성이 개선됨을 확인하였다.

• 대한전자공학회논문지
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• 제23권6호
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• pp.741-746
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• 1986

A novel n-p-n bipolar transistor of which emitter is self-aligned with base contact by polyilicon is developed for using in high speed and high packing density LSI circuits. The emitter of this transistor is separated less than 0.4 \ulcorner with base contact by self-aligh technology, and the emitter feature size is less than 3x5 \ulcorner\ulcorner Because the active region of this transistor is not damaged through all the process, it has excellent electric properties. Using the n-p-n transistors by 3.0\ulcorner design rules, a NTL ring oscillator has 380 ps, a CML ring oscillator has 390ps, and a I\ulcorner ring oscillator has 5.6ns of per-gate minimum propagation delay time.

• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2010년도 춘계학술대회 논문집
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• pp.707-708
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• 2010

• 한국재료학회:학술대회논문집
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• 한국재료학회 2007년도 추계학술발표대회 및
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• pp.17.1-17.1
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• 2007

• 한국정보통신학회논문지
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• 제18권5호
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• pp.1149-1154
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• 2014

본 연구는 산화물반도체트랜지스터의 터널링 현상을 살펴보기 위해서 게이트 절연막으로서 SiOC 박막을 사용하고 채널층으로 IGZO를 이용하여 트랜지스터를 제작 하였다. SiOC 박막은 분극이 작아질수록 비정질특성이 우수해지면서 절연특성이 좋아진다. SiOC 게이트 절연막과 채널 층 사이의 계면에 존재하는 접합특성은 SiOC의 분극특성에 따라서 달려졌다. 드레인소스 전류($I_{DS}$)와 게이트소스 전압($V_{GS}$)의 전달특성은 분극이 낮은 SiOC를 사용할 경우 양방향성 전달특성이 나타나고 분극이 높은 SiOC 게이트 절연막을 사용할 경우 단방향성 전달 특성이 나타났다. 터널링에 의한 양방향성 트랜지스터의 경우 바이어스 인가 전압이 낮은 ${\pm}1V$의 영역에서 쇼키접합을 나타냈었지만 트래핑효과에 의한 단방향성 트랜지스터의 경우 오믹접합 특성을 나타내었다. 특히 양방향성 트랜지스터의 경우 터널링 현상에 의하여 on/off 스위칭 특성이 개선되었다.

• 정보처리학회논문지A
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• 제17A권3호
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• pp.121-126
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• 2010

본 논문에서는 저 전압 스윙 기술을 적용하여 저 전력 회로를 구현하고, 슬립 트랜지스터 (sleep-transistor)를 이용하여 누설전류를 최소화하는 새로운 저 전력 MOS 전류모드 논리회로 (MOS current-mode logic circuit)를 제안하였다. 제안한 회로는 저 전압 스윙 기술을 적용하여 저 전력 특성을 갖도록 설계하였고 고 문턱전압 PMOS 트랜지스터 (high-threshold voltage PMOS transistor)를 슬립 트랜지스터로 사용하여 누설전류를 최소화하였다. 제안한 회로는 $16\;{\times}\;16$ 비트 병렬 곱셈기에 적용하여 타당성을 입증하였다. 이 회로는 슬립모드에서 기존 MOS 전류 모드 논리회로 구조에 비해 대기전력소모가 1/104로 감소하였으며, 정상 동작모드에서 11.7 %의 전력소모 감소효과가 있었으며 전력소모와 지연시간의 곱에서 15.1 %의 성능향상이 있었다. 이 회로는 삼성 $0.18\;{\mu}m$ CMOS 공정을 이용하여 설계하였으며, HSPICE를 통하여 검증하였다.

• 한국정보통신학회논문지
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• 제19권12호
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• pp.2892-2898
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• 2015

양극성 이중 독립 게이트 실리콘 나노와이어 전계 효과 트랜지스터를 새롭게 제안한다. 제안한 트랜지스터는 극성 게이트와 제어 게이트를 가지고 있다. 극성게이트의 바이어스에 따라서 N형과 P형 트랜지스터의 동작을 결정할 수 있고 제어 게이트의 전압에 따라 트랜지스터의 전류 특성을 제어할 수 있다. 2차원 소자 시뮬레이터를 이용해서 양극성 전류-전압 특성이 동작하도록 두 개의 게이트들과 소스 및 드레인의 일함수를 조사했다. 극성게이트 4.75 eV, 제어게이트 4.5 eV, 소스 및 드레인 4.8 eV일 때 명확한 양극성 특성을 보였다.