rf 플라즈마 소스가 장착된 분자선 에피택시 장비를 이용하여 Si(111) 기판위에 GaN 나노로드를 성장할 때, N2의 흐름양을 조절하여 나노로드의 구조 및 광학적인 특성을 조사하였다. $N_2$의 양이 1.1sccm에서 2.0sccm으로 변할 때 육각형 모양의 나노로드가 성장되었으며, 평균 직경이 80nm에서 190nm 까지 변화 하였다. 그러나 나노로드와 compact한 영역의 길이 (두께)비는 $N_2$의 양이 1.7sccm 까지는 증가하지만 그 이상에서는 변화지 않았다. PL 측정으로부터, $N_2$의 양이 적은 나노로드에서 자유 엑시톤의 피이크가 더욱 뚜렷하게 관측되었고, 모든 PL 피이크의 위치는 직경이 적을수록 나노로드의 크기 효과에 의해서 고에너지 쪽으로 이동하였다. $N_2$의 양이 1.7sccm 인 시료에서는 온도에 따른 PL의 피이크의 위치가 온도가 증가함에 따라서 "S-형"의 거동을 나타내었다.
이 논문은 온도차에 따라 변화되는 이온성 액체와 낮은 밴드갭을 갖는 고분자인 poly(2-heptadecyl-4-vinylthieno[3,4-d]thiazole)(PHVTT) 간의 상호작용 및 고분자의 거동을 조사하였다. 이온성 액체는 methyl imidazolium chloride([MIM]Cl), butyl methyl imidazolium chloride([BMIM]Cl), tri-butyl methyl ammonium methyl sulfate([TBMA][ $MeSO_4$])를 사용하였으며, 21, 28, 32, $37^{\circ}C$로 온도를 변화시키며 상호작용의 변화를 UV-vis spectroscopy, FT-IR spectroscopy, photoluminescence spectroscopy를 통해 확인한 결과 이온성 액체인 [MIM]Cl, [TBMA][$MeSO_4$]와 PHVTT의 상호작용은 점차 약해짐을 확인할 수 있었지만, [BMIM]Cl은 온도 변화에 따른 상호작용의 변화를 보이지 않았다.
Kim, Jin-Soo;Lee, Jin-Hong;Hong, Sung-Ui;Kwack, Ho-Sang;Lee, Chul-Wook;Oh, Dae-Kon
ETRI Journal
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제26권5호
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pp.475-480
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2004
Self-assembled InAs quantum dots (QDs) embedded in an InAlGaAs matrix were grown on an InP (001) using a solid-source molecular beam epitaxy and investigated using transmission electron microscopy (TEM) and photoluminescence (PL) spectroscopy. TEM images indicated that the QD formation was strongly dependent on the growth behaviors of group III elements during the deposition of InAlGaAs barriers. We achieved a lasing operation of around 1.5 ${\mu}m$ at room temperature from uncoated QD lasers based on the InAlGaAs-InAlAs material system on the InP (001). The lasing wavelengths of the ridge-waveguide QD lasers were also dependent upon the cavity lengths due mainly to the gain required for the lasing operation.
펄스레이저 증착법으로 박막의 결함 생성을 최소화하여 우수한 발광 특성을 가지는 ZnO 박막 성장에 대한 연구를 수행하였다. 이를 위하여 기판 온도를 $400^{\circ}C$에서 $850^{\circ}C$까지 변화시켜 박막을 증착한 후 엑스선 회절법, 원자힘 현미경, photoluminescence (PL) 등을 사용하여 박막의 특성 변화를 분석하였다. 그 결과 ZnO 박막은 기판 온도에 관계없이 (0001) 사파이어 기판에 c-축 배향성을 가지며 성장하였음을 확인하였고 기판온도 $600^{\circ}C$에서 가장 조밀한 박막이 형성되면서 박막에 응력이 거의 걸리지 않고 결정성도 우수함을 확인하였다. PL 분석 결과 역시 $600^{\circ}C$에서 증착된 ZnO 박막이 UV 발광 피크의 반치폭 및 결함에 의한 가시영역에서의 발광 등을 고려했을 때 가장 뛰어난 특성을 보여주었다. 이와 같은 결과는 ZnO 박막의 발광 특성이 박막의 구조적 특성과 매우 밀접한 관계가 있음을 나타내며 또한 기판 온도가 매우 중요한 역할을 함을 나타낸다. 결론적으로 기판 온도 $600^{\circ}C$에서 우수한 UV 발광 특성을 가지면서 결함에 의한 가시영역 발광이 거의 나타나지 않는 ZnO 박막을 성장시킬 수 있었고 이러한 박막은 UV 광소자에 응용될 수 있을 것으로 생각된다.
Details of carrier dynamics in self-assembled quantum dots (QDs) with a particular attention to nonradiative processes are not only interesting for fundamental physics, but it is also relevant to performance of optoelectronic devices and the exploitation of nanocrystals in practical applications. In general, the possible processes in such systems can be considered as radiative relaxation, carrier transfer between dots of different dimensions, Auger nonradiactive scattering, thermal escape from the dot, and trapping in surface and/or defects states. Authors of recent studies have proposed a mechanism for the carrier dynamics of time-resolved photoluminescence CdTe (a type II-VI QDs) systems. This mechanism involves the activation of phonons mediated by electron-phonon interactions. Confinement of both electrons and holes is strongly dependent on the thermal escape process, which can include multi-longitudinal optical phonon absorption resulting from carriers trapped in QD surface defects. Furthermore, the discrete quantized energies in the QD density of states (1S, 2S, 1P, etc.) arise mainly from ${\delta}$-functions in the QDs, which are related to different orbitals. Multiple discrete transitions between well separated energy states may play a critical role in carrier dynamics at low temperature when the thermal escape processes is not available. The decay time in QD structures slightly increases with temperature due to the redistribution of the QDs into discrete levels. Among II-VI QDs, wide-gap CdZnTe QD structures characterized by large excitonic binding energies are of great interest because of their potential use in optoelectronic devices that operate in the green spectral range. Furthermore, CdZnTe layers have emerged as excellent candidates for possible fabrication of ferroelectric non-volatile flash memory. In this study, we investigated the optical properties of CdZnTe/ZnTe QDs on Si substrate grown using molecular beam epitaxy. Time-resolved and temperature-dependent PL measurements were carried out in order to investigate the temperature-dependent carrier dynamics and the activation energy of CdZnTe/ZnTe QDs on Si substrate.
Park, Seong-Ju;Ro, Jeong-Rae;Sim, Jae-Ki;Lee, El-Hang
ETRI Journal
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제16권3호
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pp.1-10
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1994
Undoped GaAs has been successfully grown by chemical beam epitaxy (CBE) via surface decomposition process using arsine $(AsH_3)$ and trimethylgallium (TMG). Three distinct regions of temperature-dependent growth rates were identified in the range of temperatures from 570 to $690^{\circ}C$. The growth rates were found strongly dependent on the V/III ratio between 5 and 30. The growth rate at low V/III ratio seems to be determined by arsenic produced on the surface, whereas at high V/III ratio it shows dependence on the adsorption of TMG. Hall measurement and photoluminescence (PL) analysis show that the films are all p-type and that carbon impurities are primarily responsible for the background doping. Carbon concentrations have been found to be reduced by two orders of magnitude as compared to those of epilayers grown by CBE which employs TMG and arsenic obtained from precracked $AsH_3$ in a high temperature cell. It was also found that hydrogen atoms dissociated from unprecracked $AsH_3$ play an important role in removing hydrocarbon-containing species resulting in a significant reduction of car-bon impurities.
Excitons are the most prominent features of the optical properties of monolayer transition-metal dichalcogenides(TMDC). In view of optoelectronics it is very important to understand the decay mechanisms of the excitons of these materials. Auger recombination of excitons are regarded as one of the dominant decay processes. In this paper the Auger constant of recombination is computed based on the approach proposed by Kavoulakis and Baym. We obtain both temperature dependent (from type A, A' processes) and temperature independent (from type B, B' processes) contributions, and a numerical estimate of theoretical result yields the value of constant in the order of $10^{-2}cm^2s^{-1}$, being consistent with existing experimental data. This implies that Auger decay processes severely limit the photoluminescence yield of TMDC-based optoelectronic devices.
Trivalent rare-earth ($RE^{3+}=Eu^{3+}\;and\;Tb^{3+}$) ions activated $CaGd_4O_7$ phosphors were synthesized by a sol-gel process. After annealing at $1,500^{\circ}C$, the XRD patterns of the phosphor confirmed their monoclinic structure. The photoluminescence excitation spectra of $Eu^{3+}$ and $Tb^{3+}$ doped $CaGd_4O_7$ phosphor shows the broad-band excitations in the shorter wavelength region due to charge transfer band of completely filled $O^{2-}$ to the partially filled $Eu^{3+}$ ions and f-d transitions of $Tb^{3+}$ ions, respectively. The photoluminescence spectra show that the reddish-orange ions and green emission for $Eu^{3+}$ and $Tb^{3+}$ ions, respectively. Owing to the importance of thermal quenching property in the technological parameters, the temperature-dependent luminescence properties of these phosphors were measured for examing the suitability of their applications in the development of light emitting diodes (LEDs). In addition to those measurements, the cathodoluminescence properties were examined by changing the acceleration voltage and filament current. The calculated chromaticity coordinates of these phosphors were close proximity to those of commercially available phosphors for LED and field emission display devices.
$Y_2O_3:Eu^{3+}$ and Li-doped $Y_2O_3:Eu^{3+}$ thin films have been grown on sapphire substrates using a pulsed laser deposition technique. The thin film phosphors were deposited at a substrate temperature of $600^{\circ}C$ under the oxygen pressure of 100, 200 and 300 mTorr. The films grown under different deposition conditions have been characterized using microstructural and luminescent measurements. The crystallinity and photoluminescence (PL) of the films are highly dependent on the oxygen pressure. The PL brightness data obtained from $Y_2O_3:Eu^{3+}$ films grown under optimized conditions have indicated that sapphire is one of the most promising substrate for the growth of high quality $Y_2O_3:Eu^{3+}$ thin film red phosphor. In particular, the incorporation of $Li^{+}$ ions into $Y_2O_3$ lattice could induce a remarkable increase of PL. The highest emission intensity was observed with LiF-doped $Y_{1.84}Li_{0.08}Eu_{0.08}O_3(Y_2O_3LiEu)$, whose brightness was increased by a factor of 2.7 in comparison with that of $Y_2O_3:Eu^{3+}$ films. This phosphor may promise for application to the flat panel displays.
The photoluminescence (PT) properties of Al-doped ZnO thin films grown by the sol-gel dip-coating method have been investigated. At 12 K, nine distinct PL peaks were observed at 2.037, 2.592, 2.832, 3.027, 3.177, 3.216, 3.260, 3.303, and 3.354 eV. The deep-level emissions (2.037, 2.592, 2.832, and 3.027 eV) were attributed to native defects. The near-band-edge (NBE) emission peaks at 3.354, 3.303, 3.260, 3.216, and 3.177 eV were attributed to the emission of the neutral-donor-bound excitons (D0X), two-electron satellite (TES), free-to-neutral-acceptors (e,A0), donor-acceptor pairs (DAP), and second-order longitudinal optical (2LO) phonon replicas of the TES (TES-2LO), respectively. According to Haynes' empirical rule, we calculated the energy of a free exciton (FX) to be 3.374 eV. The thermal activation energy for D0X in the nanocrystalline ZnO thin film was found to be ~25 meV, corresponding to the thermal dissociation energy required for D0X transitions.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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