The restorations of the severely damaged teeth by post core have been increased with the developement of endodontic procedures. But high failure rates of these procedures being reported, various restorative modifications were induced for successful treatments. Cast post-core and prefabricated post with core buildups are choice of treatment. The main causes of failure of the restorations are the fracture of post and core, root fracture, and recurrent caries due to microleakage. Recently, the acid etching technique and the use of dentin bonding agent at tooth surface to reduce the possible microleakage at the tooth-restoration interfaces were introduced. The object of this study was to measure and compare the microleakage by the types and cementation methods of post-core. For this study, forty extracted human anterior teeth were selected for specimen. After cleansing and routine endodontic procedures, anatomic crowns of each specimen were removed at the level of 2mm above the cementoenamel junction. Canals were preparated for post insertion and specimens were divided into four groups randomly. Post-cores were fabricated according to method for each group. Microleakage was measured by length of dye penetration at the tooth-restoration interfaces with measuring microscope at 50 magnification. Oneway ANOVA and t-test were performed for statistical analysis of resulting data. The following results were obtained from this study. 1. There wert significant statistical differences in degree of microleakage between each group (p<0.01). 2. Cast post-core cemented with ZPC (Group I) showed the most severe microleakage pattern$(1.5547{\pm}0.0872mm)$, and cast post-core cemented with adhesive resin cement after tooth surface treatment with dentin bonding agent (Group II) showed the least microleakage $(0.1497{\pm}0.0872mm)$. 3. Group IV revealed less dye penetrations than group III, but no statistical significance was seen between two groups.
The anodic oxidation behavior of Si-containing aluminum alloy for diecasting was investigated. Especially, the property changes during anodization both on aluminum 1050 and 9 weight percentage silicon containing aluminum (Al-9Si) alloys were analyzed by the static current test. In order to fabricate a uniform anodic oxidation film by effect of Al-Si compound, nitric acid containing hydrofluoric acid had been used as a desmutter for aluminum alloy after alkaline etching. It was found that the level of voltage of Al-9Si alloy during the static current test was almost as double as higher than aluminum 1050 through anodization. By adding hydrofluoric acid in the nitric acid electrolyte, the silicon compound on the surface was removed, and the optimum amount of added hydrofluoric acid could be derived. It was also observed that the size of silicon compound formed on the surface could be refined by heat treatment at $500^{\circ}C$ and followed water quenching.
본 논문에서는 보호용 실리콘 산화층과 Al 층을 이용한 $Al_2O_3$ 예비층의 형성을 제안하였다. 실리콘 기판 위의 보호용 산화막 위에 알루미늄을 증착하고 이를 $800^{\circ}C$에서 열처리함으로써 에피텍시 $Al_2O_3$ 예비층 형성시킬 수 있었다. 그리고 형성된 $Al_2O_3$ 예비층위에 ${\gamma}-Al_2O_3$ 층을 형성하였다. ${\gamma}-Al_2O_3$막 성장시 공정의 초기 상태에서 발생하는 $N_2O$ 가스에 의한 Si 기판의 식각을 $Al_2O_3$ 예비층을 이용함으로써 방지할 수 있었다. $Al_2O_3$ 예비층이 초박막 ${\gamma}-Al_2O_3$의 표면의 형태를 개선하는데 많은 효과가 있었다.
CdS-$TiO_2$ nano-composite sol was prepared by the sol-gel method in organic solvents at room temperature and further hydrothermal treatment at various temperatures to control the physical properties of the primary particles. Again, CdS-$TiO_2$ composite particulate films were made by casting CdS-$TiO_2$ sols onto $F:SnO_2$ conducting glass and then heat-treatment at $400^{\circ}C$. Physical properties of these 61ms were further controlled by the surface treatment with $TiCl_4$, aqueous solution. The photo currents and hydrogen production rates measured under the experimental conditions varied according to the $CdS/[CdS+TiO_2]$ mole ratio and the mixed-sol preparation method. For $CdS-TiO_2$ composite sols prepared in IPA, CdS particles were homogeneously surrounded by $TiO_2$ particles. Also, the surface treatment with $TiCl_4$ aqueous solution caused a considerable improvement in the photocatalytic activity, probably as a result of close contacts between the primary particles by the etching effect of $TiCl_4$. It was found that the photoelectrochemical performance of these particulate films could be effectively enhanced by this approach.
Ji, Hyung Yong;Parida, Bhaskar;Park, Seungil;Kim, MyeongJun;Peck, Jong Hyeon;Kim, Keunjoo
Current Photovoltaic Research
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제1권1호
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pp.63-68
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2013
We investigated the effects of Au eutectic reaction on Si thin film growth by hot wire chemical vapor deposition. Small SiC and Si nano-particles fabricated through a wet etching process were coated and biased at 50 V on micro-textured Si p-n junction solar cells. Au thin film of 10 nm and a Si thin film of 100 nm were then deposited by an electron beam evaporator and hot wire chemical vapor deposition, respectively. The Si and SiC nano-particles and the Au thin film were structurally embedded in Si thin films. However, the Au thin film grew and eventually protruded from the Si thin film in the form of Au silicide nano-balls. This is attributed to the low eutectic bonding temperature ($363^{\circ}C$) of Au with Si, and the process was performed with a substrate that was pre-heated at a temperature of $450^{\circ}C$ during HWCVD. The nano-balls and structures showed various formations depending on the deposited metals and Si surface. Furthermore, the samples of Au nano-balls showed low reflectance due to surface plasmon and quantum confinement effects in a spectra range of short wavelength spectra range.
Radio-frequency (rf) 마그네트론 스퍼터링법을 이용하여 $SiO_2(2000{\AA})/Si$ 기판위에 TiN 박막이 증착되었다. $N_2/Ar$ 혼합가스에서 $N_2$ 가스의 농도, rf power, 공정압력 등을 변화시켜서 TiN 박막이 증착되었고 증착된 박막의 증착속도, 전기저항도 및 표면의 거칠기 등이 조사되었다. $N_2$ 가스의 농도가 증가함에 따라서 증착속도는 감소하였고 저항도는 증가하였으며 표면의 거칠기는 감소하였다. rf power가 증가함에 따라서 증착속도는 증가하였지만 저항도는 감소하였다. 증착압력의 증가에 따라서 증착속도는 큰 변화가 없었지만 저항도가 급격히 증가하였으며, 1 mTorr의 압력에서 $2.46{\times}10^{-4}{\Omega}cm$의 저항도를 갖는 TiN 박막이 얻어졌다. 박막의 증착속도와 저항도는 상관관계가 있는 것이 관찰되었고 특히 증착압력이 박막의 저항도에 가장 큰 영향을 미치는 것을 알 수 있었다.
The magneto-transport properties of an individual single crystalline Bi nanowire grown by a spontaneous growth method are reported. A four-terminal device based on an individual 400-nm-diameter nanowire was successfully fabricated using a plasma etching technique that removed an oxide layer that had formed on the surface of the nanowire. Large transverse ordinary magnetoresistance (1401%) and negative longitudinal ordinary magnetoresistance (-38%) were measured at 2 K. It was observed that the period of Shubnikov-de Haas oscillations in transverse geometry was $0.074^{T-1}$, $0.16^{T-1}$ and $0.77^{T-1}$, which is in good agreement with those of bulk Bi. However, it was found that the period of SdH oscillation in longitudinal geometry is $0.24^{T-1}$, which is larger than the value of $0.16^{T-1}$ reported for bulk Bi. The deviation is attributable to the spatial confinement arising from scattering at the nanowire surface boundary.
이 연구는 다이몬드 포인트와 카바이드 버 및 SiC paper로 삭제한 상아질에 대한 자가부식 프라이머 접착제의 결합강도를 비교하고, 실험실에서 사용하는 SiC paper와 유사한 결합강도를 나타내는 회전용 삭제기구를 알아보기 위하여 시행하였다. 56개의 발거된 대구치 치관의 교합면 상아질을 노출시켜 1.2 mm의 두께의 시편을 제작한 후 8개의 군으로 분류하였다. 1군은 standard diamond point (TF-12), 2군은 fine diamond point (TF-12F). 3군은 extrafine diamond point (TF-12EF), 4군은 cross-cut carbide bur (no. 557), 5군은 plain-cut carbide bur (no. 245), 6군은 P 120-grade SiC paper, 7군은 P 220-grade SiC paper, 8군은 P 800-grade SiC paper를 사용하여 각 시편의 상아질 표면을 약 0.2 mm정도 삭제하였다. 상아질 표면에 Clearfil SE Primer와 Bond를 적용하고 Tygon tube를 이용하여 Clearfil AP-X를 충전하고 40초간 광조사 하였다. 제작된 시편은 만능시험기를 이용하여 를 미세전단 결합강도는 측정한 후, 각 군의 결합강도를 one-way ANOVA와 Tukey검정을 이용하여 분석하여 다음과 같은 결과를 얻었다. 자가부식 프라이머 접착제 사용 시 상아질에 대한 개선된 접착을 위해서는 초미세입자 다이아몬드 포인트의 사용이 추천되며, 실험실적인 연구에서 P 220-grade SiC paper의 사용은 미세입자 다이아몬드 포인트나 카바이드 버로 삭제한 상아질 면과 유사한 결합강도를 나타내었다.
시판 중인 에너지음료의 법랑질 부식능을 알아보기 위하여 판매량이 높은 3종의 에너지음료와 대조군으로 생수를 선정하였다. 각 음료의 pH와 적정산도를 측정하고, 우치시편을 제작하여 음료에 각각 1, 3, 5, 10, 15, 30분을 침지한 후 나타나는 양상을 표면미세경도계를 이용하여 측정한 결과, 다음과 같은 결론을 얻었다. 대조군을 제외한 모든 음료에 구연산이 첨가되어 있었다. 에너지음료의 평균 pH는 $3.01{\pm}0.44$로 번인텐스에서 $2.51{\pm}0.01$로 가장 낮았다. 적정 산도의 평균은 pH 5.5에서 2.98 ml로 번인텐스에서 3.59 ml로 가장 높았다. 모든 에너지음료가 침지시간이 증가함에 따라 표면경도가 감소하였으며 음료 30분 처리 후 표면 경도값은 레드불에서 $119.72{\pm}15.16$ VHN으로 가장 낮은 경도값을 보였고, 핫식스 $208.75{\pm}10.99$, 번인텐스 $210.47{\pm}8.01$ 순이었다. 실험에 사용된 모든 에너지음료는 치아 법랑질에 부식을 유발하였으며, 음료처리 전과 후에 레드불이 가장 낮은 법랑질 표면 경도 값을 보여 실험에 사용한 에너지 음료 중 가장 많은 법랑질 부식을 유발하였다. 이로써 구연산을 함유하고, pH가 낮은 에너지 음료의 섭취는 치아표면경도를 감소시켜 부식을 유발하는 것으로 생각된다.
탄소섬유강화플라스틱(CFRP)의 홀 가공 시 chip이 발생된다. 이때 발생되는 chip은 단순 폐기용 차원이 아닌 미세탄소섬유와 에폭시의 조성으로 이루어져 있다. Chip을 강화재로 활용하기 위해서는 탄소섬유만의 조성을 이루어야 고분자 기지와 계면접착력이 증가될 수 있다. Chip 내 탄소섬유의 길이를 일정하게 하기 위해 막자 사발을 이용한 절단 과정 후 $H_2O_2$를 이용한 표면처리를 하여 탄소섬유에 붙어있는 에폭시를 제거하였다. Chip을 이용하여 페놀수지를 기지로 한 페놀복합재료를 제조하였으며, 내열성 및 난연성 재료로 활용 가능성을 평가하였다. 기존의 페놀보다 표면처리를 한 chip복합재료가 기계적, 열적 물성이 향상됨을 확인하였으며, 젖음성 평가를 이용하여 표면물성에 따른 재료의 물성을 평가하였다. 불균질한 표면 조성에 의해 표면 거칠기가 달라지기 때문에 페놀복합재료의 접촉각이 증가되었다. 난연성 평가는 ASTM D635-06 방법으로 수행하였다. 평가결과, chip의 첨가 및 표면처리의 영향에 의해 난연성이 향상되었다.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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