JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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v.7
no.3
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pp.166-176
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2007
Radio frequency (RF) microelectromechanical systems (MEMS) have been pursued for more than a decade as a solution of high-performance on-chip fixed, tunable and reconfigurable circuits. This paper reviews our research work on RF MEMS switches and switching circuits in the past five years. The research work first concentrates on the development of lateral DC-contact switches and capacitive shunt switches. Low insertion loss, high isolation and wide frequency band have been achieved for the two types of switches; then the switches have been integrated with transmission lines to achieve different switching circuits, such as single-pole-multi-throw (SPMT) switching circuits, tunable band-pass filter, tunable band-stop filter and reconfigurable filter circuits. Substrate transfer process and surface planarization process are used to fabricate the above mentioned devices and circuits. The advantages of these two fabrication processes provide great flexibility in developing different types of RF MEMS switches and circuits. The ultimate target is to produce more powerful and sophisticated wireless appliances operating in handsets, base stations, and satellites with low power consumption and cost.
The Journal of the Korea institute of electronic communication sciences
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v.12
no.6
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pp.1003-1008
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2017
In this paper, we studied the design and fabrication of double T Structure with CPW antenna at around 5 GHz band.. To improve of frequency properties of antenna, Double T Structure with CPW antenna was simulated by HFSS(: High Frequency Structure Simulator). A double T Structure with CPW antenna was designed and fabricated by photolithograph on an FR4 substrate (dielectric constant of 4.4 and thickness of 1.6 mm). The fabricated A double T Structure with CPW antenna showed a center frequency, the minimum return loss and impedance were 5.29GHz, -34dB, and 390MHz, $49.6{\Omega}$ respectively.
The Pt/copper oxide/n-Si electrodes were fabricated by depositing copper oxide thin film of 500${\AA}$ and very thin Pt layer on the n-type (100) Si substrate. hotoelectrochemical properties and stability profiles of the electrodes were investigated as a function of deposition time of Pt layer. As the deposition time of Pt layer increased up to 10 seconds, the photocurrent and quantum efficiency were increased and then decreased with further depositing time. The better cell stability was observed for the electrode with longer deposition time. The improvements in above photoelectrochemical properties indicate that Pt layer acts as a catalyst layer at electrode/electrolyte interface as well as a protective layer. The decreasing tendency of the photocurrent and efficiency for the electrode with Pt layer deposited above 20 seconds was explained as an increases in probbility of electron-hole pair recombination and also the absorbing photon loss at electrode surface due to the excessive thickness of Pt layer. The results were confirmed by impedance spectroscopy, mutiple cycle voltammograms and microstructural analyses.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.22
no.9
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pp.724-727
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2009
We have fabricated (Ba,Sr)TiO3$TiO_3$ thick films doped with various amount of ZnBO dopants (1, 3, and 5 wt%) by screen printing method on the alumina substrates, which were sintered at the temperature below $1200^{\circ}C$. With increasing the amount of ZnBO dopants, the relative dielectric permittivity of ZnBO doped (Ba,Sr)$TiO_3$ was decreased, while loss tangent was increased. 1 wt% ZnBO doped (Ba,Sr)$TiO_3$ thick film has relative dielectric permittivity of 759 at 1 MHz, while 3 and 5 wt% of ZnBO doped (Ba,Sr)$TiO_3$ thick films have 624 and 554, respectively. By introducing ZnBO dopants to the (Ba,Sr)$TiO_3$ thick films, leakage current densities were decreased. The decreased leakage current with increasing ZnBO dopants can be explained by increased density and grain size of thick film on alumina substrate. We believe this decreased leakage current density probably come from the increased grain size and increased density.
Kim, GunKyun;Rhee, Seung-Yeop;Yeo, Junho;Lee, Jong-Ig;Kang, NyoungHak
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2017.05a
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pp.61-62
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2017
In this study, a circular polarization patch antenna operates at the wide bandwidth of 1.5GHz~1.7GHz was designed. To obtain the wide bandwidth and high gain, the high air substrate was applied. The impedance bandwidth is improved by adjusting the sizes of patch, the distance between main patch and ground plate, the length of internal slots, the position of feeding point, the length of external stub, etc. The antenna is designed by simulation for an operation in the frequency range of 1.5GHz~1.7GHz band, and the antenna characteristics such as return loss, gain, radiation patterns are examined.
Proceedings of the Korean Institute of Information and Commucation Sciences Conference
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2016.05a
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pp.77-78
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2016
In this paper, small WLAN antenna was designed and investigated. Proposed antenna was configured for meandered type patch antenna ($20mm{\times}20mm$) that was mounted on RF4 dielectric substrate (relative permittivity 4.4, thick 1.6mm, tangent loss 0.025) size of $20mm{\times}60mm$. Antenna parameters was calculated by using the OpenFDTD simulator. As a result, frequency bandwidth satisfying the condition of VSWR(2:1) was 1.82-3.05GHz (1.23GHz, 44.6%) for considering WLAN.
The Journal of Korean Institute of Communications and Information Sciences
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v.19
no.12
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pp.2468-2478
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1994
A hybrid finite element method is presented for a characterization of scattering an radiation properties of microstrip patch and arrays residing in a cavity recessed in a ground plane. The technique combines the finite element and boundary integral methods to formulate a system for the solution of fields at the aperture and the scattering field and radar cross sections at free space. By virture of the finite element method, the proposed technique is applicable to patch antennas and arrays residing on or embeded in a layered dielectric loss/lossless substrate and is also capable of treating various feed configuration. Several numerical results are presented demonstrating the validity, efficiency and capability of the technique.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.15
no.9
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pp.764-769
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2002
The effect of excess Bi contents on the ferroelectric properties of B $i_{3.25}$ L $a_{0.75}$$Ti_3$$O_{12}$ (BLT) thin films has been investigated. Bismuth lanthanum titanate thin films with excess Bi contents were prepared onto Pt/Ti/ $SiO_2$/Si substrate by metalorganic decomposition (MOD) technique. The structure and morphology of the films were analyzed using X-ray diffraction (XRD) and atomic force microscopy (AFM), respectively. From the XRD analysis, BLT thin films show polycrystalline structure and the layered-perovskite phase was obtained over 10% excess of Bi contents. As a result of ferroelectric characteristics related to the Bi content of the BLT thin film, the remanent polarization and dielectric constant decreased with increasing over Bi content of 10% excess. The BLT film with Bi content of 10% excess was measured to have a dielectric constant of 326 and dielectric loss of 0.024. The BLT thin films showed little polarization fatigue test up to 3.5$\times$10$^{9}$ bipolar switching cycling.
Journal of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers
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v.11
no.10
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pp.866-870
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1998
PLZT thin films were fabricated with different Zr/Ti ratios by pulsed laser deposition. PLZT films deposited on Pt/Ti/SiO$_2$/Si substrate. This PLZT thin films of 5000$\AA$ thickness were crystallized at $600^{\circ}C$, $O_2$ pressure 200m Torr. 2/55/45 PLZT thin film showed a maximum dielectric constant value of $\varepsilon$\ulcorner=1550 and dielectric loss was 0.03 at 10kHz. At 2/70/30 PLZT thin film, coercive field and remnant polarization was respectively 19[kV/cm], 8[$\mu$C/$\textrm{cm}^2$]. Raman spectroscopy results showed that the bands of spectra became broader as the amount of Zr mol% increased and two crystal phase coexisted at 2/55/45 PLZT film. Raman spectroscopy was useful for crystal structure analysis of PLZT thin films.
Kim, Kyoung-Tae;Kim, Gwan-Ha;Woo, Jong-Changb;Kim, Jong-Gyu;Kang, Chan-Min;Kim, Chang-II
Proceedings of the KIEE Conference
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2006.10a
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pp.115-116
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2006
Dielectric PST (20/80) / PST (80/20) heterolayered thin films structures were created by a consequent deposition of the PST (20/80) and PST (80/20) thin films on the $Pt/Ti/SiO_2/Si$ substrate using alkoxide-based sol-gel method. Both structural and dielectric properties of heterolayered PST thin films were investigated for the tunable microwave device applications. As the number of coating increases, the lattice distortion decreased. It can be assumed that the lower PST layer affects a nucleation site or a seeding layer for the formation of the upper PST layer. The dielectric constant, dielectric loss and tunability of the PST-6 heterolayered structure measured at 100 kHz were 399, 0.022 and 57.9%, respectively. All these parameters showed an increase with increasing number of coatings due to the decrease in lattice distortion.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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