The fabrication methods and requirements of the fiber, interphase, and matrix of nuclear grade $SiC_f/SiC$ composites are briefly reviewed. A CVI-processed $SiC_f/SiC$ composite with a PyC or $(PyC-SiC)_n$ interphase utilizing Hi-Nicalon Type S or Tyranno SA3 fiber is currently the best combination in terms of the irradiation performance. We also describe important material issues for the application of SiC composites to LWR fuel cladding. The kinetics of the SiC corrosion under LWR conditions needs to be clarified to confirm the possibility of a burn-up extension and the cost-benefit effect of the SiC composite cladding. In addition, the development of end-plug joining technology and fission products retention capability of the ceramic composite tube would be key challenges for the successful application of SiC composite cladding.
Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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v.35D
no.11
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pp.70-77
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1998
Ni/SiC Schottky diodes have been fabricated using epitaxial 4H-SiC and 6H-SiC wafers. The epitaxial n-type layers were grown on $n^{+}$ substrates, with a doping density of 4.0$\times$10$^{16}$ c $m^{-3}$ and a thickness of 10${\mu}{\textrm}{m}$. Oxide-termination has been adopted in order to obtain high breakdown voltage and low leakage current. The fabricated Ni/4H-SiC and Ni/6H-SiC Schottky barrier diodes show excellent rectifying characteristics up to the measured temperature range of 55$0^{\circ}C$. In case of oxide-terminated Schottky barrier diodes, breakdown voltage of 973V(Ni/4H-SiC) and 920V(Ni/6H-SiC), and a very low leakage current of less than 1nA at -800V has been observed at room temperature. On non-terminated Schottky barrier diodes, breakdown voltages were 430V(Ni/4H-SiC) and 160v(Ni/6H-SiC). At room temperature, SBH(Schottky Barrier Height), ideality factor and specific on-resistance were 1.55eV, 1.3, 3.6$\times$10$^{-2}$$\Omega$.$\textrm{cm}^2$ for Ni/4H-SiC Schottky barrier diodes, and 1.24eV, 1.2, 2.6$\times$10$^{-2}$$\Omega$.$\textrm{cm}^2$/ for Ni/SH-SiC Schottky barrier diodes, respectively. These results show that both Ni/4H-SiC and Ni/6H-SiC Schottky barrier diodes are very promising for high-temperature and high power applications.s..
This paper describes the electrical characteristics of polycrystalline (poly) 3C-SiC thin film diodes, in which poly 3C-SiC thin films on n-type and p-type Si wafers, respectively, were deposited by APCVD using HMDS, $H_{2}$, and Ar gas at $1150^{\circ}C$ for 3 hr. The schottky diode with Au/poly 3C-SiC/Si (n-type) structure was fabricated. Its threshold voltage ($V_{bi}$), breakdown voltage, thickness of depletion layer, and doping concentration ($N_{D}$) value were measured as 0.84 V, over 140 V, 61 nm, and $2.7{\times}10^{19}cm^{-3}$, respectively. Moreover, for the good ohmic contact, Al/poly 3C-SiC/Si (n-type) structure was annealed at 300, 400, and $500^{\circ}C$, respectively for 30 min under the vacuum condition of $5.0{\times}10^{-6}$ Torr. Finally, the p-n junction diodes fabricated on the poly 3C-Si/Si (p-type) were obtained like characteristics of single 3CSiC p-n junction diode. Therefore, poly 3C-SiC thin film diodes will be suitable for microsensors in conjunction with Si fabrication technology.
In this study, the electrochemical properties of dopamine coated silicon/silicon carbide/carbon(Si/SiC/C) composite materials were investigated to improve cycle stability and rate performance of silicon-based anode active material for lithium-ion batteries. After synthesizing CTAB/SiO2 using the Stöber method, the Si/SiC composites were prepared through the magnesium thermal reduction method with NaCl as heat absorbent. Then, carbon coated Si/SiC anode materials were synthesized through polymerization of dopamine. The physical properties of the prepared Si/SiC/C anode materials were analyzed by SEM, TEM, XRD and BET. Also the electrochemical performance were investigated by cycle stability, rate performance, cyclic voltammetry and EIS test of lithium-ion batteries in 1 M LiPF6 (EC: DEC = 1:1 vol%) electrolyte. The prepared 1-Si/SiC showed a discharge capacity of 633 mAh/g and 1-Si/SiC/C had a discharge capacity of 877 mAh/g at 0.1 C after 100 cycles. Therefore, it was confirmed that cycle stability was improved through dopamine coating. In addition, the anode materials were obtain a high capacity of 576 mAh/g at 5 C and a capacity recovery of 99.9% at 0.1 C/0.1 C.
High purity $\beta$-SiC powders were synthesized using sol-gel processing. TEOS and phenol resin were used as the starting material for the silicon source and carbon source, respectively. The process turned out to be capable of producing high purity SiC powder purity degree with 99.98 %. However, it was difficult to control the shape and size of $\beta$-SiC powders synthesized by sol-gel process. In this study, $\beta$-SiC powder with size of $1{\sim}5$ um an 30 nm were used as the seeds for $\beta$-SiC to control the $\beta$-SiC powder morphology. It was found that $\beta$-SiC powder seeds was effective to increase the powder average size of synthesized $\beta$-SiC using sol-gel process by acting as the preferred growing sites for $\beta$-SiC.
Novel fabrication technique was developed for high strength Reaction-Bonded SiC (RBSC) hot gas filter for use in IGCC (Integrated Gasification Combined Cycle) system. The room and high temperature fracture strengths for Si-melt infiltrated reaction-bonded SiC were 50-123, and 60-66 MPa, respectively. The average pore size was 60-70 $\mu\textrm{m}$ and the porosity was about 34 vol%. RBSC infiltrated with molten silicon showed improved fracture strength at high temperature, as compared to that of clay-bonded SiC, due to SiC/Si phase present within SiC phase. The thickness for SiC/Si phase was increased with increasing powder particle size of SiC from 10 to 34 $\mu\textrm{m}$. Pressure drop with dust particles showed similar response as compared to that for Schumacher type 20 filter. The filter fabricated in the present study showed good performance in that the filtered powder size was reduced drastically to below 1 $\mu\textrm{m}$ within 4 min.
Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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2002.07a
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pp.164-167
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2002
SiC direct bonding technology is very attractive for both SiCOI(SiC-on-insulator) electric devices and SiC-MEMS applications because of its application possibility in harsh environments. This paper presents on pre-bonding according to HF pre-treatment conditions in SiC wafer direct bonding using PECVD oxide. The characteristics of bonded sample were measured under different bonding conditions of HF concentration, and applied pressure. The 3C-SiC epitaxial films grown on Si(100) were characterized by AFM and XPS, respectively. The bonding strength was evaluated by tensile strength method. Components existed in the interlayer were analyzed by using FT-IR. The bond strength depends on the HF pre-treatment condition before pre-bonding (Min : 5.3 kgf/$\textrm{cm}^2$∼Max : 15.5 kgf/$\textrm{cm}^2$).
This paper describes the mechanical characteristics of poly 3C-SiC thin films grown on Si wafers with thermal oxide. In this work, the poly 3C-SiC thin film was deposited by APCVD method using only Ar carrier gas and single precursor HMDS at $1100^{\circ}C$. The elastic modulus and hardness of poly 3C-SiC thin films were measured using nanoindentation. Also, the roughness of surface was investigated by AFM. The resulting values of elastic modulus E, hardness H and the roughness of the poly 3C-SiC film are 305 GPa, 26 GPa and 49.35 nm respectively. The mechanical properties of the grown poly 3C-SiC film are better than bulk Si wafers. Therefore, the poly 3C-SiC thin film is suitable for abrasion, high frequency and MEMS applications.
SiC nanotubes were synthesized by CNT-confined reaction. Evaporated SiO gas reacted with carbon nanotubes by VS growth mechanism. By confineded reaction, carbon nanotube was changed to SiC nanotube, and synthesized SiC nanotube was filled partly by the gas reaction in the nanotubes. SiC nanotube's mean diameters were not changed than carbon nanotubes because of means ratio of $CO_2$ and SiO gas was maintained evenly during the process. This result was same of data of simulation. By TEM observastion, SiC nanotube was filled by reaction of inner wall of CNT and SiO gas through the VS reactions. Converted SiC nanotube's compositions were revealed Si and C of 1: 1 ratios at all sites of nanotube by EDS.
Most of heteroepitaxial $\beta$-SiC thin films have been successfully grown on Si(100) adapting a carburizing process, by which a few atomic layers of substrate surface is chemically converted to very thin SiC layer using hydrocarbon gas sources. Using an organo-silicon precursor, bis-trimethylsilymethane (BTMSM, [$C_7H_{20}Si_2$]), heteropitaxial $\beta$-SiC thin films were successfully grown directy on Si substrate without a carburized buffer layer. The defect density of the $\beta$-SiC thin films deposited without a carburized layer was as low as that of $\beta$-SiC films deposited on carburized buffer layer. In addition, void density was also reduced by the formation of self-buffer layer using BTMSM instead of carburized buffer layer. It seems to be mainly due to the characteristic bonding structure of BTMSM, in which Si-C was bonded alternately and tetrahedrally (SiC$_4$).
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[게시일 2004년 10월 1일]
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