비정질 실리론 게이트 구조를 이용한 게이트 산화막내의 붕소이온 침투 억제에 관한 연구
(Suppression of Boron Penetration into Gate Oxide using Amorphous Si on $p^+$ Si Gated Structure)
-
- 한국재료학회지
- /
- 제1권3호
- /
- pp.125-131
- /
- 1991