Flash증착법으로 Si단결정 (111)면위 에 ZnSe박막을 성장시켜 Si-ZnSe n-n heterojunction을 만들었다. 이 heterojunction의 광기전력 특성을 규명하여 가시광 영역에 감도를 갖는 frequency meter로 사용할 수 있음을 제시했다.
p형과 n형 Si wafer의 111면위에 5x10-5mmHg의 진공내에서 SnO2-x박막을 Flash증착법으로 성장시킨 다음 산소분위기 속에서 열처리하여 Si-SnO2 heterojunction을 만들고 물성측정으로 부터 Energy bnad profile을 구하였다. 이 heterojunction은 양호한 정류성 Junction이며 400nm부터 1200nm까지 분광감도를 갖고 시정수가 -10-18sec로 고속광소자로 적합하며 Si p-n homojunction solar cell에 비하여 특성이 우수하고 제작이 간단하기 때문에 태양전지로 사용해도 손색이 없다. Si-SnO2 heterojunction was prepared by oxidzing at oxygen atmosphere SnO2-x Which made by Flith evaporation of SnO2 powder on III surface of p and n type Si single crystals. The energy band Profile of Si·SnO2 heterojunction was depicted from its physical properties. This heterojunction was very good rectifying junction, very sensitive in spectral response of Photovoltage at from 400nm to 1200nm, and -10-8sec of time contant. From above properties, this heterojunction was found ps good high speed photovoltaic device and solar cell.
High-efficient transparent conductive oxide (TCO) film-embedding Si heterojunction solar cells were fabricated. An additional doping was not applied for heterojunction solar cells due to the spontaneous junction formation between TCO films and an n-type Si substrate. Three different TCO coatings were formed by sputtering method for an Al-doped ZnO (AZO) film, an indium-tin-oxide (ITO) film and double stacks of ITO/AZO films. An improved crystalline ITO film was grown on an AZO template upon hetero-epitaxial growth. This double TCO films-embedding Si heterojunction solar cell provided significantly enhanced efficiency of 9.23% as compared to the single TCO/Si devices. The effective arrangement of TCO films (ITO/AZO) provides benefits of a lower front contact resistance and a smaller band offset to Si leading enhanced photovoltaic performances. This demonstrates a potential scheme of the effective TCO film-embedding heterojunction Si solar cells.
We investigated the effects of annealing on the electrical and thermal properties of ZTO/4H-SiC heterojunction diodes. A ZTO thin film layer was grown on p-type 4H-SiC substrate by using solution process. The ZTO/SiC heterojunction structures annealed at $500^{\circ}C$ show that $I_{on}/I_{off}$ increases from ${\sim}5.13{\times}10^7$ to ${\sim}1.11{\times}10^9$ owing to the increased electron concentration of ZTO layer as confirmed by capacitance-voltage characteristics. In addition, the electrical characterization of ZTO/SiC heterojunction has been carried out in the temperature range of 300~500 K. When the measurement temperature increased from 300 K to 500 K, the reverse current variation of annealed device is higher than as-grown device, which is related to barrier height in the ZTO/SiC interface. It is shown that annealing process is possible to control the electrical characteristics of ZTO/SiC heterojunction diode.
Du, Yonggang;Qiao, Liangxin;Xue, Dingyuan;Jia, Yulei
Current Optics and Photonics
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제6권4호
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pp.367-374
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2022
A photodetector based on a reduced graphene oxide (RGO)/n-Si heterojunction with high responsivity, detectivity and fast response speed is presented. Here, we put forward a simple vacuum filtration method to prepare RGO film and transfer it onto an n-Si substrate to form an RGO/n-Si heterojunction. The experimental results show that the heterojunction has good rectification characteristics, and the response and recovery time are less than 0.31 s and 0.25 s, respectively. Under 470 nm light conditions at -2 V applied voltage, the responsivity and detectivity of the device are 65 mA/W and 4.02 × 1010 cmHz1/2W-1, respectively. The simple preparation process and good performance of the RGO/n-Si heterojunction make it a promising material for photoelectric detection, especially in the near-ultraviolet band.
A new analytical model for the base current of Si/SiGe/Si heterojunction bipolar transistors(HBTs) has been developed. This model includes the hole injection current from the base to the emitter, and the recombination components in the space charge region(SCR) and the neutral base. Distinctly different from other models, this model includes the following effects on each base current component by using the boundary condition of the excess minority carrier concentration at SCR boundaries: the first is the effect of the parasitic potential barrier which is formed at the Si/SiGe collector-base heterojunction due to the dopant outdiffusion from the SiGe base to the adjacent Si collector, and the second is the Ge composition grading effect. The effectiveness of this model is confirmed by comparing the calculated result with the measured plot of the base current vs. the collector-base bias voltage for the ungraded HBT. The decreasing base current with the increasing the collector-base reverse bias voltage is successfully explained by this model without assuming the short-lifetime region close to the SiGe/Si collector-base junction, where a complete absence of dislocations is confirmed by transmission electron microscopy (TEM)[1].The recombination component in the neutral base region is shown to dominate other components even for HBTs with a thin base, due to the increased carrier storage in the vicinity of the parasitic potential barrier at collector-base heterojunction.
Newly-developed fabrication of a p-n heterojunction diode constructed with a p-Si nanowire (NW) and an n-ZnO nanoparticle (NP) thin-film by the dielectrophoresis (DEP) technique is demonstrated in this study. With the bias of 20 Vp-p at the input frequency of 1 MHz, the most efficient assembly of the n-ZnO NPs is shown for the fabrication of the p-n heterojunction diode with a p-Si NW. The p-n heterojunction diode fabricated in this study represents current rectifying characteristics with the turn on voltage of 1.1 V. The diode can be applied to the fabrication of optoelectrical devices such as photodetectors, light-emitting diodes (LEDs), or solar cells based on the high conductivity of the NW and the high surface to volume ratio of the NP thin film.
JSTS:Journal of Semiconductor Technology and Science
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제6권2호
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pp.119-123
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2006
This work presents the fabrication and characteristics of $Bi_2O_3/Si$ heterojunction prepared by rapid thermal oxidation technique without any postdeposition annealing condition. The bismuth trioxide film was deposited onto monocrystalline Si and glass substrates by rapid thermal oxidation of bismuth film with aid of halogen lamp at $500^{\circ}C/\;45$ s in static air. The structural, optical and electrical properties of $Bi_2O_3$ film were investigated and compared with other published results. The structural investigation showed that the grown films are polycrystalline and multiphase (${\alpha}-Bi_2O_3$ and ${\beta}-Bi_2O_3$). Optical properties revealed that these films having direct optical band gap of 2.55 eV at 300 K with high transparency in visible and NIR regions. Dark and illuminated I-V, CV, and spectral responsivity of $Bi_2O_3/Si$ heterojunction were investigated and discussed.
High-efficient transparent conductive oxide (TCO) film-embedding Si heterojunction solar cells were fabricated. An improved crystalline indium-tin-oxide (ITO) film was grown on an Al-doped ZnO (AZO) template upon hetero-epitaxial growth. This double TCO-layered Si solar cell provided significantly enhanced efficiency of 9.23 % as compared to the single TCO/Si devices. The effective arrangement of TCO films (ITO/AZO) provides a good interface, resulting in the enhanced photovoltaic performances. It discusses TCO film arrangement scheme for efficient TCO-layered heterojunction solar cells.
Generally, silicon heterojunction solar cell has intrinsic and n-type of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) as passivation layer and BSF layer. In this study, antimony, novel material, deposited on back side of the heterojunction solar cell as passivation and BSF layer to substitute the a-Si:H and the characteristics of the solar cell such electrical properties and optical properties were analyzed. And SIMS analysis was carried out to obtain the depth profile of the BSF layer which was deposited by laser annealing process.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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