• 한국지반공학회논문집
• /
• 제20권2호
• /
• pp.87-96
• /
• 2004

쏘일네일링 공법은 도심지 지하굴착 공사에 있어, 지중매설물이 인접하여 존재하거나 대지경계선 등의 준수 등 시공조건에 따라서 설치네일의 길이가 제한되는 경우 및 연약한 지반조건으로 구성된 사면을 보강할 경우 등과 같은 벽체변위 및 지표침하 억제와 안정성 증대 등을 위하여, 지반앵커공법(ground anchor system)과 유사한 프리텐션 방식의 도입이 필요한 실정이다. 지반앵커공법과 유사한 프리텐션(pretension) 방식의 쏘일네일링 공법을 도입하게 될 경우, 프리텐션 하중에 의해 네일 두부에 부착된 지압판 등은 전면벽체에 수동토압을 유발시키게 되므로, 일반 보일네일링 벽체에서 발생하는 주동토압을 어느 정도 경감시킬 수 있을 것으로 기대되며, 아울러 단계별 굴착시 발생하는 변위를 최소화할 수 있을 것으로 예상된다. 따라서, 본 연구에서는 단계별 굴착시 유발되는 벽체변위 및 침하량 등을 억제하기 위한 노력의 일환으로, 프리텐션 보일네일링 시스템을 개발하였다. 또한 본 연구에서는 실내모형실험을 토대로 프리텐션 쏘일네일링 벽체의 거동특성 및 발휘되는 토압 등을 정량적으로 분석하여 프리텐션 효과에 따른 쏘일네일링 벽체의 파괴유형을 규명하였다. 아울러, 프리텐션 효과가 쏘일네일링 벽체 안정성에 미치는 영향을 검토하여, 향후 예상되는 프리텐션 효과에 따른 수평토압 감소 및 주면마찰력 증가등의 지반-네일 상호작용을 고려한 해석기법개발에 필요한 기초적인 자료를 제시하고자 한다.

• Korean Chemical Engineering Research
• /
• 제50권1호
• /
• pp.106-111
• /
• 2012

5 kg/hr 벤치규모 기류건조기를 이용한 고수분 석탄의 건조 특성을 알아보았다. 도착시료 기준으로 원료 석탄의 수분 함량 및 발열량은 각각 29.74 wt%, 4,270 kcal/kg이다. 가스유입온도 및 가스유입속도는 각각 $400{\sim}600^{\circ}C$ 및 10~20 m/sec이다. 원료 석탄의 입자크기는 $100{\sim}2,000{\mu}m$로 분쇄 및 분급하였다. 원료석탄의 수분제거율은 가스유입온도는 증가하고 가스유입속도는 감소할수록 급격하게 증가하였다. 건조석탄의 발열량은 5,100~5,900 kcal/kg으로 증가하였다. 기류건조를 통한 고수분 석탄 표면에서의 발생하는 화학적인 변화를 알아보기 위하여 FT-IR 스펙트럼 분석을 실시하였다. 그 결과 하이드록실, 카르복실 및 카보닐 피크에서 주요한 변화가 일어나는 것을 확인할 수 있었다.

• 한국통신학회논문지
• /
• 제35권11B호
• /
• pp.1715-1724
• /
• 2010

본 논문은 미군의 국방정보체계에 대한 상호운용성 평가모델로 개발된 LISI(Level of Information System Interoperability) 모델을 기반으로 국방과학연구소에서 한국군 환경에 적합하도록 개선시킨 한국군의 LISI 모델의 제한사항을 분석하고 대안을 제시한다. 한국군의 LISI 모델은 국방 상호운용성의 유일한 평가기관인 국군지휘통신사령부(이하 "국통사") 예하의 "합동 상호운용성 기술센터"에서 획득규정에서 정의한 모든 체계(정보체계, 무기체계, 비무기체계)의 상호운용성 평가시 적용하고 있다. 그러나, LISI 모델은 기본적으로 정보체계간 상호운용성을 평가하는 모델로 개발되었으므로 NCW 환경에서 요구되는 정보체계와 무기 및 비무기체계를 포함하는 복합체계 상호운용성 평가에 미흡하기 때문에 최근 미군은 SOSI(System of Systems Interoperability) 모델을 연구개발하고 있다. 따라서 미군의 LISI 모델을 벤치마킹하여 개선시킨 한국군의 LISI 모델은 국방정보체계는 물론 우기 및 비무기체계의 상호운용성을 평가하는 도구로 사용하기에는 근본적인 제한사항을 가질 수밖에 없으며, 이러한 제한사항을 보완하기 위해 국방부와 관련기관에서 연구를 통하여 개선대책을 제안하고 있다. 본 논문은 LISI 모델의 응용(P), 기반(I), 데이터(D) 분야 평가기준 및 평가가 완료된 단위체제간의 비교평가 절차에 대한 제한사항을 분석하고, 이를 극복하기 위한 정책적 대안을 제시한다.

• 디지털콘텐츠학회 논문지
• /
• 제12권1호
• /
• pp.85-94
• /
• 2011

QoS(Quality of Service)는 ITU-T Rec. E.800에 의해 서비스를 사용하는 형태, 특성 그리고 요구 수준에 따라 사용자의 요구에 부응하여 제공할 수 있는 네트워크 서비스의 성능지표로 표현된다. VoIP(Voice Over Internet Protocol) 서비스가 광범위하게 사용되고 있지만 QoS관련 문제점은 해결해야 할 현안 과제로 인식되고 있다. 본 연구는 NGN(Next Generation Network) 기반 환경에서 VoIP QoS 보증을 위해 어떤 체계하에서 품질이 관리 되어야 하는지를 도출하기 위해 VoIP 품질측정과 시험체계 모델을 제시 한다. 프레임워크는 VoIP 기술동향, 프로토콜 분석, 품질관리 항목 도출, 품질측정 기능개발, 프레임워크 설계, 프레임워크 검증 순서로 연구를 진행 한다. 이를 위해 QoS 측정 메트릭스, 측정구간과 측정계위, 측정도구와 측정장비, 측정방법 및 측정결과분석에 대한 일련의 프로세스와 관리체계를 모델화 하여 향후 VoIP QoS 보증활동에 응용토록 한다. 통신서비스 품질은 스스로 보장되지 않으며 끊임없이 측정되고 관리될 때 에만 목표 수준의 품질 확보가 가능하다. 특히 네트워크기술 패러다임 대 전환이 전개되고 있는 이 시기적인 중요성을 볼 때 VoIP QoS 관리에 대한 연구는 앞으로 활발하게 추진되어야 할 핵심 소재 이다. 본 연구를 통해 VoIP 품질관리 프레임워크를 적용 할 경우 품질관리가 가능함을 보여주고 있다.

• 청정기술
• /
• 제19권4호
• /
• pp.393-400
• /
• 2013

본 연구에서는 고밀도 폴리에틸렌 제조 공정에서의 부산물인 폴리에틸렌 왁스를 대상으로 무수말레인산(MAH)을 도입하여 솔루션 그라프트 반응을 수행 하였고, 반응 효율에 영향을 끼치는 반응 인자들과 MAH 기능기의 가수분해의 영향에 대해서 조사하였다. 측정 결과, MAH 단량체의 농도가 증가 할수록 그라프트 율은 증가하지만, 전환율은 감소하여 MAH 단량체의 농도가 15 wt% 정도에서 최대 효율을 나타냄을 알 수 있었다. DCP (dicumyl peroxide)와 DTBP (di-tert-butyl peroxide)를 개시제로 사용하여 농도에 따라 그라프트 반응한 결과, 약 0.5 wt%에서 그라프트 율이 최대값에 도달함을 볼 수 있었고, 가교반응은 2% 이하의 낮은 수치를 보임을 확인하였다. 반응온도에 따른 그라프트 율은 반응온도가 높아짐에 따라 증가하는 경향을 보이며, 최대 반응시간은 2 h 내외가 됨을 알 수 있었다. 폴리에틸렌 왁스에 그라프트 된 MAH 기능기는 주로 고리열린 상태로 존재하지만 그라프트 율이 5%이상에서는 고리가 닫힌 상태가 생성되었고, 이에 대한 가수분해 측정결과, 언하이드라이드(anhydride)기가 카르복실(carboxylic acid)기로 전환되는 율이 약 10% 정도로 측정되어, 저분자량 폴리에틸렌 왁스(polyethylene wax, PEW)-g-MAH 물성에 영향을 주는 인자로 여겨졌다.

• 한국콘텐츠학회논문지
• /
• 제18권1호
• /
• pp.336-344
• /
• 2018

본 논문은 디지털 전시를 효과적으로 분석하기 위해서 디지털 전시에 적합한 분류와 분석 기준을 제시하고자 한다. 디지털 전시 분류와 분석에 대한 선행 연구를 통해 새로운 기준의 필요성을 제시하여, 새롭게 등장하는 디지털 전시의 개념과 형식의 변화에 쉽게 적용할 수 있는 분석 기준을 정립한다. 디지털 전시는 상호작용적인 스토리텔링을 활용한 전시 기획과 형식에 의해서 자연 발생하는 관객 참여에 대한 요소를 고려해야 한다. 기존 디지털 전시 공간에 대한 분류와 분석은 키워드 중심의 개념적 분류를 하고 있다. 이는 전시와 작품을 분류하는 과정에서 전통적인 방법론이 적용되었기 때문이다. 하지만 디지털 전시에서 전시공간, 작품, 관람객 간의 상호작용적 관계는 매우 중요하다. 따라서 디지털 전시에서 작품과 관객 간에 이루어지는 수행적인 분류가 필요하다. 그래서 관객이 느낀 것을 토대로 전시 분류에 직간접적으로 참여하는 방식이 고려되어야 한다. 본 논문에서는 전시의 분류와 구성에 대한 해석을 위해서 벤야민의 주장에 따라 관객과의 상호작용성과 밀접한 관객의 감각체험 분류와 현재화를 참조하고, 채트먼의 서사구조에 기반을 둔 미술 전시 내러티브 구조에 따라 디지털 전시에 대한 분석 기준을 제시한다. 이러한 분류 방법론이 전시정보를 관람객에게 쉽게 이해할 수 있는 방식으로 제공하고, 나아가서는 디지털 전시의 확장성과 접근성을 확보하는 선행 연구가 될 것이다.

• 만화애니메이션 연구
• /
• 통권41호
• /
• pp.153-168
• /
• 2015

영상을 통한 콘텐츠 유통 활성화는 안성지역 활성화 콘텐츠 산업에서 선순환 구조 구축의 필수조건이다. 2015년 국책 사업을 통해 안성지역 지자체에서 제작되고 있는 특수 영상 콘텐츠 제작의 애니메이션은 지역경제를 활성화시키기 위해 시에서 추진되고 있는 핵심 사업이다. 이 연구는 영상 콘텐츠 개발의 과정에서의 기획고찰과 디자인 작품 제작을 통해 시각적 제안을 하고자 한다. 캐릭터 개발 과정의 창의성 및 독창성을 비롯하여 심미적인 평가와 작품의 타당성, 비평성의 연구는 매우 중요하기에, 점차 활성화되고 있는 특수 영상(3D,4D)에서의 지방자치단체의 일반 기존 제작되어진 캐릭터와는 다른 방향의 캐릭터 개발 발전 방향을 위해서 실질적 개발의 비쥬얼이 제시되어져야 할 연구 과제일 것이다, 아울러 개발 진행 단계와 각 단계별로 평가 기준과 실질적 분석의 기획단계의 과정을 통해 제안된 작품이 주요 결과로서 제시되었다. 각 캐릭터 시안의 대한 기획과정의 연구들이 본론에서 제시되고, 결론부분에서 작품 완성 디자인이 중요하게 다루어 졌으며, 개발 사례에 대한 기획방향과 제시된 특수영상의 캐릭터의 특징들을 자세히 제시하였다. 실질 개발 과정에서의 선택과 평가가 객관적이고 결과 지향적이어야 하기에 특수영상의 실질적 캐릭터 작품을 기획과 결과 과정을 제시하며 발표하는 논문은 중요한 요청을 가지며, 제시된 디자인 결과물로서 실질적 가치 개발 창출에 의미를 가짐으로서 가시적 성과에 기여할 것으로 기대한다.

• 대한전자공학회논문지SD
• /
• 제43권5호
• /
• pp.54-63
• /
• 2006

본 논문에서는 4세대 이동 통신 시스템에서 요구되는 사양을 위해, 해상도, 동작속도, 칩 면적 및 소모 전력을 최적화한 14b 100MS/s 0.18um CMOS ADC를 제안한다. 제안하는 ADC는 동작 모델 시뮬레이션을 통해 최적화된 구조를 분석 및 검증하여 3단 파이프라인 구조로 설계하였으며, Nyquist 입력에서도 14 비트 수준의 유효비트 수를 가지는 광대역 저잡음 SHA 회로를 기반으로 하고, MDAC에 사용되는 커패시터의 소자 부정합에 의한 영향을 최소화하기 위하여 3차원 완전 대칭 구조를 갖는 레이아웃 기법을 적용하였다. 또한, 100MS/s의 동작 속도에서 6 비트의 해상도와 소면적을 필요로 하는 최종단의 flash ADC는 오픈 루프 오프셋 샘플링 및 인터폴레이션 기법을 사용하였다. 제안하는 시제품 ADC는 SMIC 0.18um CMOS 공정으로 제작되었으며, 측정된 DNL과 INL은 14비트 해상도에서 각각 1.03LSB, 5.47LSB 수준을 보이며, 100MS/s의 샘플링 속도에서 SNDR 및 SFDR이 각각 59dB, 72dB의 동적 성능을 보여준다. 시제품 ADC의 칩 면적은 $3.4mm^2$이며 소모 전력은 1.8V 전원전압에서 145mW이다.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
• /
• pp.66-66
• /
• 2008

Most of the properties of ITO films depend on their substrate nature, deposition techniques and ITO film composition. For the display panel application, it is normally deposited on the glass substrate which has high strain point (>575 degree) and must be deposited at a temperature higher than $250^{\circ}C$ and then annealed at a temperature higher than $300^{\circ}C$ in order to high optical transmittance in the visible region, low reactivity and chemical duration. But the high strain point glass (HSPG) used as FPDs is blocking popularization of large sizes FPDs because it is more expensive than a soda lime glass (SLG). If the SLG could be used as substrate for FPDs, then diffusion of Na ion from the substrate occurs into the ITO films during annealing or heat treatment on manufacturing process and it affects the properties. Therefore proper care should be followed to minimize Na ion diffusion. In this study, we investigate the electrical, optical and structural properties of ITO films deposited on the SLG and the Asahi glass(PD200) substrate by rf magnetron sputtering using a ceramic target ($In_2O_3:SnO_2$, 90:10wt.%). These films were annealed in $N_2$ and air atmosphere at $400^{\circ}C$ for 20min, 1hr, and 2hrs. ITO films deposited on the SLG show a high electrical resistivity and structural defect as compared with those deposited on the PD200 due to the Na ion from the SLG on diffuse to the ITO film by annealing. However these properties can be improved by introducing a barrier layer of $SiO_2$ or $Al_2O_3$ between ITO film and the SLG substrate. The characteristics of films were examined by the 4-point probe, FE-SEM, UV-VIS spectrometer, and X-ray diffraction. SIMS analysis confirmed that barrier layer inhibited Na ion diffusion from the SLG.

• 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
• /
• 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
• /
• pp.169-169
• /
• 2008

To keep pace with scaling trends of CMOS technologies, high-k metal oxides are to be introduced. Due to their high permittivity, high-k materials can achieve the required capacitance with stacks of higher physical thickness to reduce the leakage current through the scaled gate oxide, which make it become much more promising materials to instead of $SiO_2$. As further studying on high-k, an understanding of the relation between the etch characteristics of high-k dielectric materials and plasma properties is required for the low damaged removal process to match standard processing procedure. There are some reports on the dry etching of different high-k materials in ICP and ECR plasma with various plasma parameters, such as different gas combinations ($Cl_2$, $Cl_2/BCl_3$, $Cl_2$/Ar, $SF_6$/Ar, and $CH_4/H_2$/Ar etc). Understanding of the complex behavior of particles at surfaces requires detailed knowledge of both macroscopic and microscopic processes that take place; also certain processes depend critically on temperature and gas pressure. The choice of $BCl_3$ as the chemically active gas results from the fact that it is widely used for the etching o the materials covered by the native oxides due to the effective extraction of oxygen in the form of $BCl_xO_y$ compounds. In this study, the surface reactions and the etch rate of $Al_2O_3$ films in $BCl_3/Cl_2$/Ar plasma were investigated in an inductively coupled plasma(ICP) reactor in terms of the gas mixing ratio, RF power, DC bias and chamber pressure. The variations of relative volume densities for the particles were measured with optical emission spectroscopy (OES). The surface imagination was measured by AFM and SEM. The chemical states of film was investigated using X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), which confirmed the existence of nonvolatile etch byproducts.