A study of profiles and annaealing behavior of As and Sb by MeV implantation in silicon (실리콘에 MeV로 이온주입된 AS 와 Sb의 profile과 열처리에 의한 이온의 거동에 관한 연구)
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- Journal of the Korean Institute of Telematics and Electronics D
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- v.35D no.3
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- pp.46-55
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- 1998