기상레이다에 수신되는 도플러 스펙트럼의 약 25%는 비대칭 스펙트럼, 즉 skewed spectrum 인 것으로 알려지고 있다. 그러나 기상정보의 추출을 위하여 가장 널리 쓰이고 있으며 효율적인 것으로 알려진 기존의 펄스페어 추정방법은 도플러 스펙트럼이 대칭형 또는 매우 좁은 주파수 대역을 갖는다는 가정을 전제로 하고 있다. 따라서 본 논문에서는 이와 같은 가정이 만족되지 않을 경우 기상레이다에서의 스펙트럼 모멘트들의 추정치에 상당한 편향오차가 발생할 수 있음을 정량적으로 분석하였다. 또한 이러한 편향오차가 상대적으로 심각한 평균 도플러 주파수 추정치의 정확도를 향상시키기 위하여 다중 펄스페어 추정기법을 제안하였다. 제안한 방법을 적용할 경우 편향오차가 현저히 줄어들을 확인할 수 있었다.
In this work, back bias effects in the program of the silicon-oxide-nitride-oxide-silicon (SONOS) cell using two-step pulse sequence, are investigated. Two-step pulse sequence is composed of the forward biases for collecting the electrons at the substrate terminal and back bias for injecting the hot electrons into the nitride layer. With an aid of the back bias for electron injection, we obtain a program time as short as 600 ns and an ultra low-voltage operation with a substrate voltage of -3 V.
We examine experimentally the dependence of output width on DC bias, RF power, and RF frequency in a gain-switched semiconductor laser. The optimum short pulses are obtained around threshold DC bias. The DC bias to generatoe shorter pulses decreases the RF power increases, whereas it increases to above threshold as the RF freqnecy increases. The pulse width becomes less sensitive to the variations of the DC bias, as the RF bias, or frquency increases.
We investigate the effect of rise time of a pulse bias voltage on atmospheric plasma generation. With the faster rise time of the pulse bias, the glow discharge appears to be more uniformly generated along the electrodes. I-V measurement confirms that higher loading power can be obtained using the faster rise time. A new understanding for atmospheric plasma generation at a micro-gap electrode is suggested.
MgO thin films were deposited by internal ICP-assisted reactive-magnetron sputtering with bipolar pulse bias on a substrate to suppress random arcs. Mg is reactively sputtered by a bipolar pulsed DC power of 100 kHz into ICP generated by a dielectrically shielded internal antenna. At a mass flow ratio of $Ar/O_2$ = 10 : 2 and an ICP/sputter power ratio of 1 : 1, optimal film properties were obtained (a powder-like crystal orientation distribution and a RMS surface roughness of approximately 0.42 nm). A bipolar pulse substrate bias at a proper frequency (~a few kHz) prevented random arc events. The crystalline preferred orientations varied between the (111), (200) and (220) orientations. By optimizing the plasma conditions, films having similar bulk crystallinity characteristics (JCPDS data) were successfully obtained.
Numerical analysis is done to investigate the effects of pulse bias on the plasma processing characteristics like ion doping and ion nitriding by using fluid dynamic code with a 2D axi-symmetric model. For 10 mTorr of Ar plasma, -1 kV of pulse bias was simulated. Maximum sheath thickness was around 20 mm based on the electric potential profile. The peak electron temperature was about 20 eV, but did not affect the averaged plasma characteristics of the whole chamber. Maximum ion current density incident on the substrate was 200 $A/m^2$ at the center, but was decreased down to 1/10th at radius 100 mm, giving poor radial uniformity.
We report on the relationship between output current for quadrant photodetector (QPD) and bias voltage in silicon-based p-i-n (positive-intrinsic-negative) QPD examined using millisecond pulse laser (ms pulse laser) irradiation. The mechanism governing the relationship was further studied experimentally. The output current curves were obtained by carrying out QPD under different bias voltages (0-40 V) irradiated by ms pulse laser. Compared to other photodetectors, the relaxation was created in the output current for QPD which is never present in other photodetectors, such as PIN and avalanche photodetector (APD), and the maximum value of relaxation was from 6.8 to 38.0 ㎂, the amplitude of relaxation increases with bias value. The mechanism behind this relaxation phenomenon can be ascribed to the bias voltage induced Joule heating effect. With bias voltage increasing, the temperature in a QPD device will increase accordingly, which makes carriers in a QPD move more dramatically, and thus leads to the formation of such relaxation.
We numerically demonstrate that the inherent spiking behavior in the quasi-continuous-wave (QCW) operation of an Nd:YAG laser can be suppressed by adopting bias pumping. After spiking suppression, the output QCW pulses from a bias-pumped Nd:YAG laser are very stable, and they can maintain nearly the same temporal shape as that of pump pulse under different pump repetition rates and peak powers. Our study implies that bias pumping is an alternative method of spiking suppression in solid-state lasers, and the application areas of an Nd:YAG laser may be extended by bias pumping.
In this study, a substrate-bias assisted 2-step pulse programming method is proposed for realizing 4-bit/1-cell operation of the SONOS memory. The programming voltage and time are considerably reduced by this programming method than a gate-bias assisted 2-step pulse programming method and CHEI method. It is confirmed that the difference of 4-states in the threshold voltage is maintained to more than 0.5 V at least for 10-year for the multi-level characteristics.
The chirping characteristics of InGaAsP electroabsorption modulatiors have been analyzed. The effective .alpha. parameters for large signal modulation were estimated by comparing the pulse shape after fiber transmission with constant chirping assumption.We investigated the structure and the operating condition of the modulator to improve the chirping characteristics. The .alpha. parameters were calculated as the function of wavelength detuning and the bias voltage. To minimize the chirping performance, high bias voltage and a small wavelength detuning and the bias voltage. To minimize the chirping performance, high bias voltage and a small wavelength detuning were preferred. An negative .alpha. value is achieved at the wavelength detuning below 30meV with a proper bias voltage so that pulse compression effect was expected.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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