A series of hydroxyl-derivatized quaternized polymers were successfully synthesized by atom transfer radical polymerization (ATRP) and Cu(I)-catalyzed 1,3-dipolar cycloaddition of azide and alkynes (click chemistry), followed by quaternization reactions. ATRP was employed to synthesize poly(2-hydroxyethyl methacrylate) (PHEMA), followed by introduction of alkyne groups using pentynoic acid, leading to HEMA-Alkyne. 2-Azido-1-ethanol and 3-azido-1-propanol were combined with the HEMA-Alkyne backbone via click reaction, resulting in triazole-ring containing hydroxyl-derivatized polymers. Quaternization reactions with methyl iodide were conducted on the triazole ring of each polymer. Molecular weight, molecular weight distribution, and the degree of quaternization (DQ) were determined by gel permeation chromatography (GPC) and $^1H$ NMR spectroscopy. The average molecular weight ($M_n$) of the resulting polymers ranged from $5.9{\times}10^4$ to $1.05{\times}10^5g/mol$ depending on the molecular architecture. The molecular weight distribution was low ($M_w/M_n$ = 1.26-1.38). The transmission spectra of the 0.1 wt % aqueous solutions of the resulting quaternized polymers at 650 nm were measured as a function of temperature. Results showed that the upper critical solution temperature (UCST) could be finely controlled by the level of DQ.
Optical transparency and high diffraction efficiency are two essential factors for high performance of the photopolymer. Optical transparency mainly depends on the miscibility between polymer binder and photopolymerized polymer, while diffraction efficiency depends on the refractive index modulation between polymer binder and photopolymerized polymer. For most of organic materials, the large refractive index difference between two polymers accompanies large structural difference that leads to the poor miscibility and thus poor optical quality via light scattering. Therefore, it is difficult to design a high-performance photopolymer satisfying both requirements. In this work, first, we prepared a new phase-stable photopolymer (PMMA) with large refractive index modulation and investigated the optical properties. Our photopolymer is based on modified poly (methyl methacrylate) as a polymer binder, acryl amide as a photopolymerizable monomer, triethanolamine as initiator, and yellow eosin as a photosensitizer at 532 nm. Diffraction efficiency over 85% and optical transmittance over 90% were obtained for the photopolymer. Second, Organic-inorganic nanocomposite films were prepared by dispersing an aromatic methacrylic monomer and a photo- initiator in organic-inorganic hybrid sol-gel matrices. The film properties could be controlled by optimizing the content of an organically modified silica precursor (TSPEG) in the sol-gel matrices. The photopolymer film modified with the organic chain (TSPEG) showed high diffraction efficiency (> 90%) under an optimized condition. High diffraction efficiency could be ascribed to the fast diffusion and efficient polymerization of monomers under interference light to generate refractive index modulation. The TSPEG modified photopolymer film could be successfully used for holographic memory.
Yoon Bo Kyung;Hwang Wonseok;Park Youn Jung;Hwang Jiyoung;Park Cheolmin;Chang Joonyeon
Macromolecular Research
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v.13
no.5
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pp.435-440
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2005
This study describes a method where the match of two different length scales, i.e., the patterns from self-assembled block copolymer (<50 nm) and electron beam writing (>50 nm), allow the nanometer scale pattern mask. The method is based on using block copolymers containing a poly(methyl methacrylate) (PMMA) block, which is subject to be decomposed under an electron beam, as a pattern resist for electron beam lithography. Electron beam on self assembled block copolymer thin film selectively etches PMMA microdomains, giving rise to a polymeric nano-pattern mask on which subsequent evaporation of chromium produces the arrays of Cr nanoparticles followed by lifting off the mask. Furthermore, electron beam lithography was performed on the micropatterned block copolymer film fabricated by micro-imprinting, leading to a hierarchical self assembled pattern where a broad range of length scales was effectively assembled, ranging from several tens of nanometers, through submicrons, to a few microns.
In this work, poly(methyl methacrylate) (PMMA) was grafted onto amine treated graphite nanosheets ($NH_2$-GNs) and the surface characteristics and physical properties of the $NH_2$-GNs-g-PMMA films were investigated. The graft reaction of $NH_2$-GNs and PMMA was confirmed from the shift of the $N_{1S}$ peak, including amine oxygen and amide oxygen, by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). The surface characteristics of the $NH_2$-GNs-g-PMMA films were measured as a function of the $NH_2$-GN content using the contact angle method. It was revealed that the specific component of the surface free energy (${\gamma}s$) of the films was slightly increased as the $NH_2$-GN content increased. Also, the thermal and mechanical properties of the $NH_2$-GNs-g-PMMA films were enhanced with the addition of $NH_2$-GNs. This can be attributed to the chemical bonding caused by the graft reaction between the $NH_2$-GNs and the PMMA matrix.
Jo, Dong Hyun;Park, Cheonggi;Jung, Hyunchul;Kim, Sung Hyun
Korean Chemical Engineering Research
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v.53
no.3
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pp.382-390
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2015
Poly(methyl methacrylate) (PMMA) supports and amine additives were investigated to adsorb $CO_2$. PMMA supports were fabricated by using different ratio of pore forming agents (porogen) to control the BET specific surface area, pore volume and distribution. Toluene and xylene are used for porogens. Supported amine sorbents were prepared by wet impregnation of tetraethylenepentamine (TEPA) on PMMA supports. So we could identify the effect of the pore structure of supports and the quantity of impregnated TEPA on the adsorption capacity. The increased amount of toluene as pore foaming agent resulted in the decreased average pore diameter and the increased BET surface area. Polymer supports with huge different pore distribution could be fabricated by controlling the ratio of porogen. After impregnation, the support with micropore structure is supposed the pore blocking and filling effect so that it has low $CO_2$ capacity and kinetics due to the difficulty of diffusing. Macropore structure indicates fast adsorption capacity and low influence of amine loading. In case of support with mesopore, it has high performance of adsorption capacity and kinetics. So high surface area and meso-/macro- pore structure is suitable for $CO_2$ capture.
Journal of the Korean Society of Manufacturing Process Engineers
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v.13
no.4
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pp.7-12
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2014
A transparent poly methyl methacrylate (PMMA) optical micro-pyramid array-pattern is designed and fabricated using an injection modeling technique. The device's optical characteristics are tested and analyzed theoretically. In the optical pattern generated using the fabricated PMMA pattern, the components, due to not only refraction but also diffraction, are observed simultaneously. Wave optic modeling and analysis reveals that the energy ratio between the diffraction and refraction in the optical pattern are dependent on the critical dimension of the optical pattern such that the refraction and diffraction tend to be directly and inversely proportional to the pattern dimension, respectively.
The fabrication of a thin-film transistor backplane and a liquid-crystal display using printing processes can eliminate the need for photolithography and offers the potential to reduce the manufacturing costs. In this study, we prepare contact via structures through a poly(methyl methacrylate) polymer insulator layer using inkjet printing. When droplets of silver ink composed of a polymer solvent are placed onto the polymer insulator and annealed at high temperatures, the silver ink penetrates the interior of the polymer and generates conducting paths between the top and bottom metal lines through the partial dissolution and swelling of the polymer. The electrical property of various contact via-hole interconnections is investigated using a semiconductor characterization system.
Ahmed, Hind A.;Walshe, James;Kennedy, Manus;Confrey, Thomas;Doran, John;McCormack, Sarah.J.
Advances in Energy Research
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v.1
no.2
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pp.117-126
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2013
In this paper, core-shell semiconductor quantum dots (QDs) CdSeS/ZnS with emission at 490 nm and 450 nm were investigated for their use in luminescent down-shifting (LDS) layers. Luminescent quantum yield (LQY) of the QDs measurements in solution proposed that they were suitable candidates for inclusion in LDS layers. QDs were encapsulated in poly(methyl,methacrylate) (PMMA) polymer matrix and films were fabricated of $134{\pm}0.05$ microns. Selections of organic dyes from BASF Lumogen F range were also investigated for their use as LDS layers; Violet 570 and Yellow 083. The addition of LDS layers containing Violet 570 dye demonstrated a unity LQY when encapsulated within a PMMA matrix. A PV device of an LDS layer of Lumogen Violet 570 deposited on top of a crystalline silicon cell was fabricated where it was demonstrated to increase the efficiency of the cell by 34.5% relative.
The Transactions of the Korean Institute of Electrical Engineers C
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v.55
no.1
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pp.30-33
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2006
Transparent indium tin oxide (ITO) anode surface was modified using $O_3$ Plasma and organic ultrathin buffer layers were deposited on the ITO surface using 13.56 MHz RF plasma polymerization technique. The EL efficiency, operating voltage and lifetime of the organic light-emitting device (OLED) were investigated in order to study the effect of the plasma surface treatment and role of plasma polymerized organic ultrathin buffer layer. Poly methylmethacrylate (PMMA) layers were plasma polymerized on the ITO anode as buffer layer between anode and hole transport layer (HTL). The plasma polymerization of the organic ultrathin layer were carried out at a homemade capacitive-coupled RF plasma equipment. N,N'-diphenyl-N,N'(3- methylphenyl)-1,1'-diphenyl-4,4'-diamine (TPD) as HTL, Tris(8-hydroxyquinolinato) Aluminum $(Alq_3)$ as both emitting layer (EML)/electron transport layer (ETL), and aluminum layer as cathode were deposited using thermal evaporation technique. Effects of the plasma surface treatment of ITO and plasma polymerized buffer layers on the OLED performance were discussed.
In this research, an organic thin 13 passivation layer was newly adopted to prefect the organic layer from ambient moisture and oxygen. As the organic thin film passivation layer, poly methyl methacrylate thin films (ppMMA) were deposited using a plasma polymerization technique. In order to their passivation performance for OLEDs, water vapor transmission rate (WVTR) of the ppMMAs were analyzed and luminance-current-voltage (L-I-V)/luminance-time (L-T) characteristics of the OLEDs with and without ppMMA passivation layer were investigated. The OLEDs had a structure of ITO/TPD (HTL)/Alq3(EML&ETL)/Al. The OLED with ppMMA passivation layer showed improved L-T performance than that of without ppMMA passivation layer.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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