In the present study, the effect of oxyfluorination treatment on multi-walled nanotubes (MWNTs) supports was investigated by analyzing surface functional groups. The surface characteristics were determined by Fourier transformed-infrared (FT-IR) and X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). After the deposition of platinum nanoparticles on the above treated carbon supports, a crystalline size and a loading level had been investigated. Electrochemical properties of the treated MWNTs-supported Pt (Pt/MWNTs) catalysts were analyzed by current-voltage curve measurements. From the results of surface analysis, an oxygen and fluorine-containing functional group had been introduced to the surface of carbon supports. The oxygen and fluorine contents were the highest value at the treatment of 100 temperature. The Pt/100-MWNTs showed the smallest particle crystalline size of 3.5 nm and the highest loading level of 9.4% at the treatment of 100 temperature. However, the sample treated at the higher temperature showed the larger crystalline size and the lower loading level. This indicated that the crystalline size and the loading level could be controlled by changing the temperature of oxyfluorination treatment. Accordingly, an electrochemical activity was enhanced by increasing the temperature of treatment upto 100, and then decreased in the case of 200 and 300. The highest specific current density of 120 mA/mg had been obtained in the case of Pt/100-MWNTs.
Journal of the Korean Crystal Growth and Crystal Technology
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v.26
no.5
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pp.181-187
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2016
In this study, new composition of orange color pigment was developed by replacing formerly used lead and chromium with environment-friendly elements. $TiO_2-SnO-ZnO$ composite was synthesized using the solid state reaction under the reducing atmosphere with the LPG and air mixture gas. The synthesized pigments were characterized by spectrophotometer, X-ray Diffraction (XRD), Scanning Electron Microscopy (SEM) and X-ray Photoelectron Spectroscopy (XPS). The colorimetric analysis of pigments exhibited color values ranging from yellow to orange-red. Five different crystalline phases were formed after the heat treatment for 4 and 6 hours. The color of pigments was strongly influenced by the crystalline structure of $SnO_2$, having either cubic or tetragonal structure. The oxidation state study of elements revealed that the color of pigment is getting close to rYR with the increase of $Sn^{4+}$ ratio.
Park, Jae-Han;Lim, Ki-Jung;Kim, Sang-Mok;Kim, Byung-Ock;Han, Kyung-Yoon
Journal of Periodontal and Implant Science
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v.30
no.1
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pp.187-203
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2000
The precipitation of calcium phosphate on implant surface has been known to accelerate osseointegration and to enhance osseous adaptation. The present study was performed to examine whether the precipitation of calcium phosphate on Ti-6Al-4V alloy could be affected by the immersion in NaOH solution and heat treatment. Ti-6Al-4V alloy plates of $15{\times}3.5{\times}1mm$ in dimension were polished sequentially from #240 to #2,000 emery paper and one surface of each specimen was additionally polished with $0.1{\mu}m$ alumina paste. Polished specimens were soaked in various concentrations of NaOH solution(0.1, 1.0, 3.0, 5.0, 7.0, 10.0 M) at $60^{\circ}C$ for 24 hours for alkali treatment, and 5.0 M NaOH treated specimens were heated for 1 hour at each temperature of 400, 500, 600, 700, $800^{\circ}C$. After the alkali and heat treatments, specimens were soaked in the Hank's solution with pH 7.4 at $36.5^{\circ}C$ for 30days.The surface ingredient change of Ti-6Al-4V alloy was evaluated by thin-film X-ray diffractometer(TF-XRD) and the surface microstructure was observed by scanning electron microscope(SEM), and the elements of surface were analyzed by X-ray photoelectron spectroscopy(XPS). The results were obtained as follows ; 1. The precipitation of calcium phosphate on Ti-6Al-4V alloy was accelerated by the immersion in NaOH solution and heat treatment. 2. In Alkali treatment for the precipitation of calcium phosphate on Ti-6Al-4V alloy, the optimal concentration of NaOH solution was 5.0 M. 3. In heat treatment after alkali treatment in 5.0 M NaOH solution, the crystal formation on alloy surface was enhanced by increasing temperature. In heat treated alloys at $600^{\circ}C$, latticed structure and prominences of calcium phosphate layer were most dense. On heat treated alloy surface at the higher temperature(${\geq}700^{\circ}C$), main crystal form was titanium oxide rather than apatite. The above results suggested that the precipitation of calcium phosphate on the surface of Ti-6Al-4V alloy could be induced by alkali treatment in 5.0 M-NaOH solution and by heat treatment at $600^{\circ}C$.
In this work, Ag3PO4/In2S3 nanocomposites with low loading of In2S3 (5-15 wt %) are fabricated by two step chemical precipitation approach. The microstructure, composition and improved photoelectrochemical properties of the as-prepared composites are studied by X-ray diffraction pattern (XRD), field emission scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM), X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), photocurrent density, EIS and amperometric i-t curve analysis. It is found that most of In2S3 nanoparticles are deposited on the surfaces of Ag3PO4. The as-prepared Ag3PO4/In2S3 composite (10 wt%) is selected and investigated by SEM and TEM, which exhibits special morphology consisting of lager size substrate (Ag3PO4), particles and some nanosheets (In2S3). The introduction of In2S3 is effective at improving the charge separation and transfer efficiency of Ag3PO4/In2S3, resulting in an enhancement of photoelectric behavior. The origin of the enhanced photoelectrochemical activity of the In2S3-modified Ag3PO4 may be due to the improved charge separation, photocurrent stability and oriented electrons transport pathways in environment and energy applications.
A polyurethane (PU) surface enabling in vivo endothelialization via endothelial progenitor cell (EPC) capture was prepared for cardiovascular applications. To introduce CD34 monoclonal antibody (mAb) inducing EPC adhesion onto a surface, poly (poly (ethylene glycol) acrylate-co-butyl methacrylate) and poly (PEGA-co-BMA) were synthesized and then coated on a surface of PU, followed by immobilizing CD34 mAb. $^1H$-NMR analysis demonstrated that poly(PEGA-co-BMA) copolymers with a desired composition were synthesized. Poly(PEGA-co-BMA)-coated PU was much more effective for the immobilization of CD34 mAb, comparing with PEG-grafted PU prepared in our previous study, as demonstrated by that surface density and activity of CD34 mAb increased over 32 times. Physico-chemical properties of modified PU surfaces were characterized by X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), water contact angle, and atomic force microscopy (AFM). The results demonstrated that the poly(PEGA-co-BMA) coating was effective for CD34 mAb immobilization and feasible for applying to cardiovascular biomaterials.
In this work, the anodic oxidation of carbon fibers was carried out to enhance the mechanical interfacial properties of carbon fibers-reinforced epoxy matrix composites. The surface characteristics of the carbon fibers were studied by FTIR, X-ray photoelectron spectroscopy (XPS), and scanning electron microscopy (SEM). Also, the mechanical interfacial properties of the composites were studied with interlaminar shear strength (ILSS), critical stress intensity factor ($K_{IC}$), and critical strain energy release rate ($G_{IC}$). The anodic oxidation led to a significant change in the surface characteristics of the carbon fibers. The anodic oxidation of carbon fiber improved the mechanical interfacial properties, such as ILSS, $K_{IC}$, and $G_{IC}$ of the composites. The mechanical interfacial properties of the composites anodized at 20% sulfuric/nitric (3/1) were the highest values among the anodized carbon fibers. These results were attributed to the increase of the degree of adhesion at interfaces between the carbon fibers and the matrix resins in the composite systems.
Hydrophilic Surface modification of Polysarene (PS) was performed by Atmospheric Pressure Plasma (APP). Air or 0, gases were used for carrier gases and RF power was changed from 150 to 350 W. We controlled the treatment time as 1 time to 4 time passing through the plasma region. when the carrier gas was air, the water contact angle on the PS surface was decreased from $91^{\circ}$ to $20^{\circ}$. And the surface energy increased from 45.74 dyne/cm to 68.48 dyne/cm. In case of the $O_2$ plasma treatment, at 300 W of RF power and 4 times treatment, the water contact angle on the PS. Surface was decreased from $91^{\circ}$ to $17^{\circ}$ and the surface energy was increased from 45.74 dyne/cm to 69.73 dyne/cm. The surface energy was increased by polar force not by dispersion force. Improvement of surface properties can be explained by the formation of new hydrophilic groups which is identified as C-O, C=O by XPS analysis. The contact angle of APP treated PS surface kept in air was increased with time elapse, but maintained same value when it was kept in water. We treated the PS surface by APP and deposited Cu as $4,000\;{\AA}$ and $8,000\;{\AA}$ by thermal evaporation. The adhesion between sample and Cu thin film improvement of treated PS surface against untreated sample. could be verifiable by Tape test (ASTM D3359)
Uniform silicon tip arrays were fabricated using the reactive ion etching followed by the reoxidation sharpening, and the effect of Pd-coated layer on electron emission characteristics was studied. The electron emission from Si field emitter arrays(FEAs) was a little, but improved by removing surface oxide on the FEA, but pronounced drastically by coating a $100-{\AA}-thick$ Pd metal layer. The turn-on voltage in the Pd-coated Si FEAs was reduced by 30 V in comparison with that in uncoated ones. This results from the increase of surface roughness at the tip apex by the Pd coating on Si FEA, via the decrease of the apex radius at which electrons are emitting. The Pd-coated emitters showed superior operating stability over a wide current range to that of the uncoated ones. This suggests that Pd coating enhances the high temperature stability and the surface inertness Si FEA.
Lee Won-Jun;Lee Joo-Hyeon;Han Chang-Hee;Kim Un-Jung;Lee Youn-Seung;Rha Sa-Kyun
Korean Journal of Materials Research
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v.14
no.2
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pp.90-93
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2004
Silicon dioxide thin films were deposited on p-type Si (100) substrates by atomic layer deposition (ALD) method using alternating exposures of $SiH_2$$Cl_2$ and $O_3$ at $300^{\circ}C$. $O_3$ was generated by corona discharge inside the delivery line of $O_2$. The oxide film was deposited mainly from $O_3$ not from $O_2$, because the deposited film was not observed without corona discharge under the same process conditions. The growth rate of the deposited films increased linearly with increasing the exposures of $SiH_2$$Cl_2$ and $O_3$ simultaneously, and was saturated at approximately 0.35 nm/cycle with the reactant exposures over $3.6 ${\times}$ 10^{9}$ /L. At a fixed $SiH_2$$Cl_2$ exposure of $1.2 ${\times}$ 10^{9}$L, growth rate increased with $O_3$ exposure and was saturated at approximately 0.28 nm/cycle with $O_3$ exposures over$ 2.4 ${\times}$ 10^{9}$ L. The composition of the deposited film also varied with the exposure of $O_3$. The [O]/[Si] ratio gradually increased up to 2 with increasing the exposure of $O_3$. Finally, the characteristics of ALD films were compared with those of the silicon oxide films deposited by conventional chemical vapor deposition (CVD) methods. The silicon oxide film prepared by ALD at $300^{\circ}C$ showed better stoichiometry and wet etch rate than those of the silicon oxide films deposited by low-pressure CVD (LPCVD) and atmospheric-pressure CVD (APCVD) at the deposition temperatures ranging from 400 to $800^{\circ}C$.
Journal of the Microelectronics and Packaging Society
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v.9
no.4
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pp.11-16
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2002
In this study, the dry etching characteristics of $SrBi_2Ta_2O_9$ (SBT) thin films were investigated by using ICP-RIE (inductively coupled plasma-reactive ion etching). The etching damage and degradation were analyzed with XPS (X-ray photoelectron spectroscopy) and C-V (Capacitance-Voltage) measurement. The etching rate increased with increasing the ICP power and the capacitively coupled plasma (CCP) power. The etch rate of 900$\AA$/min was obtained with 700 W of ICP power and 200 W of CCP power. The main problem of dry etching is the degradation of the ferroelectric material. The damage-free etching characteristics were obtained with the $Ar/C1_2/CHF_3$ gas mixture of 20/14/2 when the ICP power and CCP power were biased at 700 W and 200 W, respectively. The experimental results show that the dry etching process with ICP-RIE is applicable to the fabrication of the single transistor type ferroelectric memory device.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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