• Title/Summary/Keyword: PLASMA SURFACE TREATMENT

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Improvement of AgNW of Electrical Properties and Environmental Stability Using Plasma Treatment and Overlayer on AgNW (실버나노와이어 전극의 플라즈마 처리 및 보호막 형성을 통한 전기적 특성 및 안정성 향상 연구)

  • An, Won-Min;Jeong, Seong-Hun;Kim, Do-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2017.05a
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    • pp.112-112
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    • 2017
  • 광학적 전기적 특성이 우수한 Indium Tin Oxide (ITO)는 대표적인 투명전극으로 사용되어지고 있다. 하지만 Brittle한 성질로 인해서 플렉서블한 디바이스에 적용하기에는 어려움이 있다. 이러한 문제를 해결하기 위해 본 연구에서는 용액 공정으로 제조 단가가 비교적 저렴하며, 높은 투과도와 전기전도 특성을 가지는 투명전극으로 주목받고 있는 차세대 투명전극인 AgNW에 관한 연구를 수행하였다. AgNW는 나노와이어가 네트워크를 형성하고 있어 높은 전도성과 광 투과도를 가지지만 용액 제조시에 분산에 용이하기 위해서 흡습성의 고분자 물질로 둘러싸여 있기 때문에 환경 안정성이 좋지 않다는 단점이 있다. 또한 나노와이어 간의 높은 접촉저항으로 인해서 접촉저항을 감소시키기 위한 후처리 공정이 요구되어진다. 이를 해결하기 위해 본 연구에서는 AgNW 전극에 플라즈마 처리를 통해서 나노와이어간의 접촉저항을 감소시켜 전기적특성이 약 12% 향상됨을 확인하였다. 고온, 고습 장시간 안정성테스트 결과, 기존 AgNW 전극에 비해서 플라즈마 처리와 보호막을 형성한 AgNW는 저항증가율이 3배 이상 감소하여 환경안정성이 향상된 것을 확인하였다. 이는 흡습성 고분자 물질이 플라즈마 처리에 의해 제거되었고 보호막을 형성하여 산소와의 반응을 감소시켰기 때문으로 판단된다. 플라즈마 처리와 보호막을 형성한 AgNW 전극을 적용하여 투명히터, Polymer Dispersed Liquid Crystal(PDLC)등 다양한 디바이스에 적용한다면 기존의 AgNW 전극보다 높은 효율을 기대할 수 있을 것이라 예상된다.

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Changing PEO coating formation on Mg alloys by particle additions to the treatment electrolyte

  • Blawert, Carsten;Srinivasan, Bala;Liang, Jun;Huang, Yuanding;Hoche, Daniel;Scharnagl, Nico;Heitmann, Volker;Burmester, Ulrich
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2012.11a
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    • pp.7-11
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    • 2012
  • Plasma electrolytic oxidation of magnesium alloys is a well known technique to produce corrosion and wear resistant coatings. The addition of particles to the electrolyte provides a possibility to produce coatings with an increasing range of composition by in-situ incorporation of those particles into the coating. An extensive literature review has revealed that the mode of incorporation depends mainly on the melting point of the used particles and the energy provided by the discharges of the PEO process. The spectrum ranges from inert to partly reactive incorporation, but a complete reactive incorporation and a formation of a new single phase coating was not observed so far. Thus a new approach in PEO processing is introduced using specific particles as a kind of sintering additive, changing not only the composition but lowering the melting temperature and increase the liquid phase fraction during the discharges, resulting in a new amorphous coating.

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The Properties of STS 630 Alloy by Plasma nitriding Treatment (플라즈마질화 처리에 따른 STS630합금의 특성)

  • Jeong, Yong-Ho;Song, Ho-Cheol;Jeong, Yeon-Ok
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2016.11a
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    • pp.138-138
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    • 2016
  • 의료용 공구로 사용되는 합금은 마르텐사이트계 스테인리스강의 대표 강종인 420스테인리스강이 사용되며, 이 합금은 고온의 오스테나이트 상태에서 ?칭하면 마르텐사이트 조직으로 변태하여 현저하게 경화하는 특징을 가지고 있으며, 오스테나이트화 후 템퍼링시 우수한 기계적 성질이 얻어진다. 그러나 템퍼링 온도의 영향으로 석출탄화물이 형성되어 기계적 성질이나 내식성이 저하되는 단점이 있다. 본 연구에서는 STS 420스테인리스강의 템퍼링 온도에 의한 내식성 문제점을 개선시키기 위해 STS630 합금을 사용하여 다양한 석출 열처리 조건 및 플라즈마 질화공정을 연구하였다. 구입한 소재의 균일한 성분 조정을 통한 미세 편석 및 물성부여를 위한 균질화 조건 도출 열처리를 실시하였으며, STS630의 고용화열처리는 오스테나이트 균일조직이 되는 온도영역으로 가열하여 급냉하는 것으로 마르텐사이트 변태시키는 열처리를 진행하였으며, 열처리온도는 $1020{\sim}1060^{\circ}C$로 설정하였다. 석출경화 열처리는 $460{\sim}480^{\circ}C$$500{\sim}520^{\circ}C$의 온도에서 실시, 제품에 따른 인성을 부여하였으며, 질화공정은 플라즈마 장비를 이용하여 플라즈마 가열 ${\rightarrow}$플라즈마 이온질화를 통하여 가장 최적의 공정을 도출하였다.- 질화가 마무리 된 시료는 내식성 및 물성 평가를 통해 제품으로서의 특성을 평가하였다. 석출경화 열처리에 의해 STS420합금에 버금가는 인장강도 및 경도값이 나타났으며, 플라즈마 질화에 따라 물성 값의 향상이 나타났다. 용출실험결과 STS420합금의 경우 Fe, Cr원소의 용출이 나타나며 변색이 형성되었으나 STS630합금의 경우 그 현상이 미미하였다.

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Improvement Electrical Property of AgNWs by Plasma Treatment (플라즈마처리를 이용한 은나노와이어 투명전극의 전기적 특성 향상에 관한 연구)

  • An, Won-Min;Jeong, Seong-Hun;Kim, Do-Geun
    • Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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    • 2015.05a
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    • pp.51-52
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    • 2015
  • Organic light emitting diode (OLED) 나 organic photovoltaic device (OPV)와 같은 유기소자에 전극으로 쓰이고 있는 indium tin oxide (ITO)는 유연한 디바이스에 적용하기에는 유연성이 떨어진다는 문제가 있다. 이를 해결하기 위해서 ITO를 대체할 수 있는 CNT, Graphene, AgNWs, 전도성 고분자 등의 투명전극에 관한 연구가 활발히 진행되고 있다. 그러나 CNT, Grapene, 전도성 고분자는 여전히 전기적 특성이 좋지 못하기 때문에 차세대 투명전극으로 사용되기는 어려움이 있다. 반면에 AgNWs는 용액공정으로 제조 단가가 비교적 저렴하며, 높은 전기전도도 특성과 우수한 유연성을 가지는 투명 전극이기 때문에 많은 주목을 받고 있다. 그러나 NW-NW간의 접촉저항이 높아 전도성이 저하된다는 문제점과 Environmental stability가 좋지 못하다는 단점이 여전히 존재한다. 본 연구에서는 AgNW 전극 위에 플라즈마처리를 진행하여 AgNW의 전도성과 Stability를 향상시키고자하였다. 플렉서블한 PET기판위에 AgNW 전극을 Spray Coating하여 균일하게 전극을 형성하였고, 플라즈마 처리를 통해서 기판의 변형없이 AgNW의 저항을 45%이상 향상시켰으며, Stability 또한 아무것도 처리하지 않은 AgNW에 대비하여 2배 이상 향상된 것을 확인하였다.

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Rapid Thermal Annealing at the Temperature of 650℃ Ag Films on SiO2 Deposited STS Substrates

  • Kim, Moojin;Kim, Kyoung-Bo
    • Applied Science and Convergence Technology
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    • v.26 no.6
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    • pp.208-213
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    • 2017
  • Flexible opto-electronic devices are developed on the insulating layer deposited stainless steel (STS) substrates. The silicon dioxide ($SiO_2$) material as the diffusion barrier of Fe and Cr atoms in addition to the electrical insulation between the electronic device and STS is processed using the plasma enhanced chemical vapor deposition method. Noble silver (Ag) films of approximately 100 nm thickness have been formed on $SiO_2$ deposited STS substrates by E-beam evaporation technique. The films then were annealed at $650^{\circ}C$ for 20 min using the rapid thermal annealing (RTA) technique. It was investigated the variation of the surface morphology due to the interaction between Ag films and $SiO_2$ layers after the RTA treatment. The results showed the movement of Si atoms in silver film from $SiO_2$. In addition, the structural investigation of Ag annealed at $650^{\circ}C$ indicated that the Ag film has the material property of p-type semiconductor and the bandgap of approximately 1 eV. Also, the films annealed at $650^{\circ}C$ showed reflection with sinusoidal oscillations due to optical interference of multiple reflections originated from films and substrate surfaces. Such changes can be attributed to both formation of $SiO_2$ on Ag film surface and agglomeration of silver film between particles due to annealing.

MoN-Cu Thin Films Deposited by Magnetron Sputtering with Single Alloying Target (단일 합금타겟을 이용한 마크네트론 스퍼터링 공정으로 증착된 MoN-Cu 박막)

  • Lee, Han-Chan;Moon, Kyoung-Il;Shin, Paik-Kyun
    • Journal of the Korean institute of surface engineering
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    • v.49 no.4
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    • pp.368-375
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    • 2016
  • MoN-Cu thin films were prepared to achieve appropriate properties of high hardness and low friction coefficient, which could be applied to automobile engine parts for reducing energy consumption as well as solving wear problems. Composite thin films of MoN-Cu have been deposited by various processes using multiple targets such as Mo and Cu. However, those deposition with multiple targets revealed demerits such as difficulties in exact control of composition and homogeneous deposition. This study is aiming for suggesting an appropriate process to solve those problems. A single alloying target of Mo-Cu (10 at%) was prepared by powder metallurgy methods of mechanical alloying (MA) and spar plasma sintering (SPS). Thin film of MoN-Cu was then deposited by magnetron sputtering using the single alloying target of Mo-Cu (10 at%). Properties of the resulting MoN-Cu thin film were examined and compared to those of MoN-Cu thin films prepared with double targets of Mo and Cu.

Silicone breast implant modification review: overcoming capsular contracture

  • Shin, Byung Ho;Kim, Byung Hwi;Kim, Sujin;Lee, Kangwon;Choy, Young Bin;Heo, Chan Yeong
    • Biomaterials Research
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    • v.22 no.4
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    • pp.319-327
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    • 2018
  • Background: Silicone implants are biomaterials that are frequently used in the medical industry due to their physiological inertness and low toxicity. However, capsular contracture remains a concern in long-term transplantation. To date, several studies have been conducted to overcome this problem. This review summarizes and explores these trends. Main body: First, we examined the overall foreign body response from initial inflammation to fibrosis capsule formation in detail and introduced various studies to overcome capsular contracture. Secondly, we introduced that the main research approaches are to inhibit fibrosis with anti-inflammatory drugs or antibiotics, to control the topography of the surface of silicone implants, and to administer plasma treatment. Each study examined aspects of the various mechanisms by which capsular contracture could occur, and addressed the effects of inhibiting fibrosis. Conclusion: This review introduces various silicone surface modification methods to date and examines their limitations. This review will help identify new directions in inhibiting the fibrosis of silicone implants.

A Study on the Bonding Strength of Titanium Artificial Teeth for Baking Dental Ceramics using Micro-arc Oxidation Surface Treatment Technology (마이크로 아크 산화 표면처리 기술을 활용한 치과도재 소부용 티타늄 인공치아 결합강도 연구)

  • Song, Jong-Beop;Park, Jong-Min;Kim, Jong-Soon;Jung, Hyo-Kyung;Choi, Won-Sik
    • Journal of the Korean Society of Industry Convergence
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    • v.25 no.2_2
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    • pp.309-314
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    • 2022
  • The bonding strength [ISO22674] test was conducted by firing a dedicated ceramic powder on the surface of the dental titanium material treated with micro-arc oxidation. In the test group, an average result value of 34.34 MPa was obtained, and in the control group, a result value of 21.53 MPa was obtained. The bonding strength of the test group was higher than that of the control group by 12.81 MPa, resulting in a 37% improvement in durability of the dental artificial tooth ceramic restoration.

Gasification from Surface during Discharge and Thermal Processes in Plasma Display Panel (PDP)

  • Soh, Hyun;Lee, Sang-Moo;Kim, Young-Chai
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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    • 2004.08a
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    • pp.495-498
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    • 2004
  • PDP use the mixture of inert gases to generate a discharge inside display pixels. Inside of PDP, there exist highly reactive conditions in the gap between two glass panels. MgO layer and phosphor have been investigated as a function of discharge and thermal process. Impurities such as CO, $CO_2$, OH and $H_2O$ in discharge region may deteriorate the characteristics of PDP operation during life time. Change of impurity generation of various MgO and phosphor surfaces were measured by using x-ray photoelectron spectroscopy(XPS) and quadropole mass spectrometer (QMS). Carbon containing species such as C, CO and $CO_2$ were drastically increased on the surfaces during discharge and thermal treatment. Carbon impurities on the MgO and phosphor are the dominant factor for their instability.

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Surface Mdification of ITO Film by an Atmospheric Pressure Plasma Treatment (대기압 플라즈마 처리에 의한 ITO 필름의 표면 개질)

  • Lee, Chang-Ho;Choi, Young-Kil;Kim, Jong-Hyun;Song, Hyun-Jig;Park, Won-Joo;Lee, Kwang-Sik
    • Proceedings of the Korean Institute of IIIuminating and Electrical Installation Engineers Conference
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    • 2009.10a
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    • pp.323-326
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    • 2009
  • 본 연구에서는 대기압 플라즈마의 처리 조건에 따른 ITO 필름의 접착력 향상을 위한 접촉각 및 표면에너지의 변화를 관찰하였다. 대기압 플라즈마의 처리 변수로는 반응 가스, 처리 속도 방전 전압 및 시료와 플라즈마 헤드 사이의 방전 캡이며, 측정된 접촉각을 이용하여 ITO 필름의 표면을 분석하였다. 그 결과는 방전 전압이 증가할수록 접촉각은 낮아졌으며, 시료와 플라즈마 헤드 사이의 방전 간격은 2.5[mm]에서 접촉각이 낮게 나타나 ITO 필름의 접착력 향상을 위한 친수성 물질로 표면 개질됨을 확인할 수 있었다.

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