• Proceedings of the IEEK Conference
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• 2003.07b
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• pp.1149-1152
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• 2003

Now a days, many different kinds of display technologies such as Liquid Crystal Display (LCD), Organic Light Emitting Diode (OLED), and Liquid Crystal On Silicon (LCOS) are designed. And these display technologies will be used in many application products like High Definition Televisions (HDTVs) or mobile devices. In this paper, pattern generation circuit for display test is proposed. The proposed circuit will be embedded in the control circuit of display chip. Two differenct kinds of patterns is generated by the circuit. One is block pattern for color test, and the other is line pattern for pixel test. The shape of test pattern is determined by the values of registers in pattern generation circuit. The circuit is designed using Verilog HDL RTL code.

• ETRI Journal
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• v.34 no.5
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• pp.727-733
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• 2012

This paper demonstrates a new driving scheme that allows reducing the supply voltage of data drivers for low-power active matrix organic light-emitting diode (AMOLED) displays. The proposed technique drives down the data voltage range by 50%, which subsequently diminishes in the peak power consumption of data drivers at the full white pattern by 75%. Because the gate voltage of a driving thin film transistor covers the same range as a conventional driving scheme by means of a level-shifting scheme, the low-data supply scheme achieves the equivalent dynamic range of OLED currents. The average power consumption of data drivers is reduced by 60% over 24 test images, and power consumption is kept below 25%.

• Proceedings of the Korean Institute of Electrical and Electronic Material Engineers Conference
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• 2003.08a
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• pp.81-84
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• 2003

Conductive polyaniline(PANI)-camphosulfonic acid (CSA) film applied as a hole injection layer in ITO/PANI/P3HT/LiF/Al device. In the AFM images, electrochemically polymerized PANI-CSA films have the small particles and smooth sufficient for application as hole injection layer. By insertion of PANI-CSA buffer layer, the turn on voltage of ITO/PANI/P3HT/LiF/Al device lowed by 3V, whereas that of ITO/P3HT/LiF/Al device shows 5V.

• Proceedings of the Korean Institute of Surface Engineering Conference
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• 2011.05a
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• pp.106-107
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• 2011

Organic Light Emitting Diode(OLED), Optical Photovotaic Device(OPV)와 같은 유기소자에서 전극으로 적용되어지고 있는 Indium Tin Oxide (ITO) 박막의 유연성을 향상시키기 위하여 중간층으로 투명도(~80%)와 전도도(~1000 S/cm)가 우수한 PEDOT:PSS(PH1000)을 적용하였다. PEDOT:PSS(PH1000)의 적용으로 인하여 ITO 박막의 유연성이 현저히 개선됨과 동시에 PEDOT:PSS(PH1000)의 우수한 전도도로 인하여 보다 얇은 ITO의 두께에서도 우수한 면 저항(25 ${\Omega}/{\square}$ ~ 220 ${\Omega}/{\square}$) 및 비저항(3.75E-4 ${\Omega}{\cdot}cm$ ~ 4.40E-4 ${\Omega}{\cdot}cm$)의 값을 측정하였다.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2007.08a
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• pp.155-158
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• 2007

Printed organic thin-film transistor(OTFT) to use as a switching device for an organic light emitting diode(OLED) were fabricated in the microcontact printing and direct printing processes at room temperature. The gate electrodes($5{\mu}m$, $10{\mu}m$, and $20{\mu}m$) of OTFT was fabricated using microcontact printing process, and source/drain electrodes ($W/L=500{\mu}m/5{\mu}m$, $500{\mu}m/10{\mu}m$, and $500{\mu}m/20{\mu}m$) was fabricated using direct printing process with hard poly(dimethylsiloxane)(h-PDMS) stamp. Printed OTFT with dielectric layer was formed using special coating system and organic semiconductor layer was ink-jet printing process. Microcontact printing and direct printing processes using h-PDMS stamp made it possible to fabricate printed OTFT with channel lengths down to $5{\mu}m$, and reduced the process by 20 steps compared with photolithography. As results of measuring he transfer characteristics and output characteristics of OTFT fabricated with the printing process, the field effect characteristic was verified.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.02a
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• pp.453-453
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• 2012

최근 디스플레이 시장에서는 저전력 자발광 소자인 OLED가 많은 관심 속에 연구 진행 되고 있다. 높은 효율과 투명, 플렉서블 디스플레이가 실현 가능한 OLED 소자는 초기 수명감소, 저전압구동 및 신뢰성에 대한 문제점을 개발 중에 있기에 많은 가능성을 현실화 하지 못하고 있다. 따라서 본 연구에서는 OLED소자의 역방향 반송자 회복 수명을 측정함으로써 스트레스에 의한 소자 열화를 전기적으로 분석하는 방법을 제시하고자 한다. 우선 5cm5cm의 면적에 네 개의 픽셀이 들어가는 후면 발광 Blue OLED를 제작하고 $-40^{\circ}C$부터 $100^{\circ}C$까지 $10^{\circ}C$간격으로 온도 스트레스를 주어 수명을 측정하였다. 전원공급기를 사용하여 직류 전압을 2V 인가하고 함수 발생기를 사용하여 +3V, -0.5V의 구형파를 500 kHz 주파수로 인가하였다. 이러한 조건으로 측정된 소자는 오실로스코프를 이용하여 전압 회복시간을 측정하고 온도 스트레스에 따른 수명을 산출하였다. $-40^{\circ}C$일 때 는 약 1.92E-7s이고 $100^{\circ}C$일 때 는 약 1.49E-7s로 약 0.43E-7s정도 감소하였다. 양의 전압이 인가되었을 때의 소자 내부의 전압은 온도가 증가함에 따라 꾸준히 감소하였고, 이에 따라 또한 꾸준히 감소하였다. 그러나 음의 전압이 인가되는 부분에서는 무설 전류에 의하여 음의 방향으로 흐르게 되는 전압의 절대값이 꾸준히 증가하였고 대체적으로 온도가 증가함에 따라 그래프가 아래로 이동하는 현상이 관찰되었다. 이러한 경향은 이상적인 다이오드의 반송자 축적 식을 통하여 온도가 증가함에 따라 가 증가하는 것과 관련이 있음을 확인하였다. 따라서 다수 층의 레이어로 이루어진 OLED소자의 열적 스트레스에 대한 수명 변화의 물리적 조건이 이상적인 다이오드 특성에 부합한다는 것을 확인하였다.

• Proceedings of the Korean Vacuum Society Conference
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• 2012.08a
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• pp.249-249
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• 2012

최근 주목받고 있는 Flexible Organic Light Emitting Diode (OLED) display에서는 Flexible 특성이 요구된다. 이는 현재 쓰이는 유리기판 대신 플라스틱기판으로 만들어야 가능하다. 하지만 플라스틱기판은 구성물질로 유기물을 사용하므로 수분과 산소의 투과에 매우 취약하다. 이는 장시간 사용 시 기판 위에 제작된 소자성능저하를 야기하는 등의 소자 신뢰도에 치명적 결함을 갖게 하는 원인이 된다. 따라서 기판 위의 소자를 보호할 수 있는 봉지기술 개발이 필요한데 가장 잘 알려진 플라스틱 기판에 적합한 Barrier기술로 유기물과 무기물을 교대로 적층하는 기술[1] 등이 있다. 본 연구에서는 PE-CVD 공정기술을 이용한 Flowable Oxide 박막과 ALD 공정기술을 이용한 Al2O3 무기물 박막을 적층하여 봉지박막을 구성하려 한다. Flowable Oxide는 저온공정이 가능하며 높은 증착속도와 뛰어난 Gap fill 특성을 가지고 있는데 이는 플라스틱기판의 엉성한 분자구조를 치밀하게 만들 것으로 예상되며 표면의 Pin-hole 또한 쉽게 채우는 특성이 있다. 실험은 Polyethylene Naphthalate (PEN) film 위에 PE-CVD 공정을 이용하여 Flowable Oxide를 증착하고, 그 후에 ALD 공정을 이용하여 Al2O3을 적층한 것을 하나의 샘플로 하였다. 샘플의 분석은 Ca test를 이용한 Water Vapor Transmission rate(WVTR)과 FT-IR, FE-SEM을 이용하여 분석하였다. FT-IR로 박막의 구성요소를 확인 하고 FE-SEM으로 박막의 Cross section image를 얻을 수 있었으며 또한 $4.85{\times}10^{-5}g/m^2$ day의 초기 WVTR 값을 얻을 수 있었다.

• Proceedings of the KIEE Conference
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• 2011.07a
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• pp.1491-1492
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• 2011

In this study, we investigated about the effect of hole transport layer materials(${\alpha}$-NPD, TPD) depending on the electrical properties of organic light emitting diode. In deposition method, we used thermal evaporation and it was a method for performing thin film by attaching vaporizing a molecule to substrate in a high thermal and vaccum. We analyzed luminance, current density, external quantum efficiency and current efficiency in 40 [nm] as optimization thickness of ${\alpha}$-NPD and TPD. In result of experiment, maximum luminance of TPD had 1.1 times higher than ${\alpha}$-NPD, but ${\alpha}$-NPD had luminance, external quantum efficiency, and current efficiency higher than TPD in low operating voltage. Actually, ${\alpha}$-NPD had efficiency higher than TPD in low operating voltage.

• Journal of the Korean Applied Science and Technology
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• v.19 no.3
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• pp.189-197
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• 2002

The color stability and purity from OLED is of current interest. Aggregation of dyes alters the device color after fabrication of the devices. Exciplex and electroplex formations have been proposed to explain the aggregate color change. We investigate the possibility of exciplex formation and propose the new electroplex state that can cause the bathochromic shift of the electroluminescence spectrum from the devices with TPD/PBD layers. The photoluminescence maximum of the device was 420nm, and the electroluminescence maximum of the device to became 480nm. The bathochromic shift cannot be attained with photoluminescence study with highly concentrated TPD/PBD mixture. This clearly indicates that the 480nm spectrum of the devices is not resulted from the exciplex formation with TPD and PBD. We observed the overshoot in EL spectrum from the OLEDs. The most intense overshoot was observed at 460nm, which may be due to the aggregates that are formed after the electric field has been removed from the devices.

• 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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• 2007.08b
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• pp.1284-1287
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• 2007

Titanium dioxide ($TiO_2$) is promising candidate for fabricating blocking layer of gate dielectrics in non-volatile memory (NVM). In this work, we investigated $TiO_2$ as high dielectric constant material instead of silicon dioxide ($SiO_2$), which is generally used as blocking layer for NVM.