Transactions on Electrical and Electronic Materials
/
제5권5호
/
pp.180-184
/
2004
This paper proposes a novel methodology of systematic global calibration and validates its accuracy and efficiency with application to memory and logic devices. With 175 SIMS profiles which cover the range of conditions of implant and diffusion processes in the fabrication lines, the dominant diffusion phenomenon in each process temperature region has been determined. Using the dual-pearson implant model and fully-coupled diffusion model, the calibration was performed systematically. We applied the globally calibrated process simulator parameters to memory and logic devices to predict the optimum process conditions for target device characteristics.
The overhang structure of photoresist in optical lithography was studied for the metallization of GaAs-related devices throughout lift-off method. Optical contact aligner with a dose of 8.5 m J/cm\ulcornerand with a wavelength of 300mm was used for ultraviolet exposure of single layer of S1400-27 photoresist. The overhang thickness shows a linear relationship with the soaking time in monochlorobenzene, which its magnitude becomes high at elevated softbake temperature. Such process conditions as a low softbake temperature, a long monochlorohbenzene soaking time and a little exposed energy make the development rate of photoresist lower. The optimum process conditions to obtain a target line-width, which include an appropriate overhang structure such as complete separation between the sidewall of photoresist pattern and the deposited metal edge, are determined as the softbake temperature of 64-74\ulcornerC, the monochlorobenzene soaking time of 10-15min, the ultraviolet exposure time of 70-100sec and the development time of 50-80sec.
A rigid-viscoplastic finite element code for superplastic forming processes has been developed The material is assumed to be isotropic and a modified Coulomb friction law is adopted to explain contact between tool and sheet. This code uses the triangular element based on the membrane approximation and a hierarchical contact searching method is implemented The optimum pressure-time relationships for target strain rate are calculated by several pressure control algorithms. By the analysis, optimum pressure-time curves and deformation behavior are predicted.
The objective of this paper is to investigate into the influence of the injection conditions on the insert deformation and the wall thickness of the injection part using the three-dimensional injection molding analysis. Full three-dimensional insert model was added to the injection molding analysis model to consider the effects of insert deformation during the injection molding process. In order to obtain the optimum injection molding condition with a minimum insert deformation, degree of experiments were utilized. From the results of the analyses, it was shown that the optimum injection condition is injection time of 1.6 sec, injection pressure of 30 MPa and packing time of 15 sec. In addition it was shown that the wall thickness is approached to target thickness when the core deformation is considered in the injection molding analysis.
In the injection molding process, the controlling stability of products quality is a very important factor in terms of productivity. Even when the optimum process conditions for the desired product quality are applied, uncontrollable external factors such as ambient temperature and humidity cause inevitable changes in the state of the melt resin, mold temperature. etc. Therefore, it is very difficult to maintain prodcut quality. In this study, a system that learns the correlation between process variables and product weight through artificial neural networks and predicts process conditions for the target weight was established. Then, when a disturbance occurs in the injection molding process and fluctuations in the weight of the product occur, the stability control of the product quality was performed by ANN predicting a new process condition for the change of weight. In order to artificially generate disturbance in the injection molding process, controllable factors were selected and changed among factors not learned in the ANN model. Initially, injection molding was performed with a polypropylene having a melt flow index of 10 g/10min, and then the resin was replaced with a polypropylene having a melt floiw index of 33 g/10min to apply disturbance. As a result, when the disturbance occurred, the deviation of the weight was -0.57 g, resulting in an error of -1.37%. Using the control method proposed in the study, through a total of 11 control processes, 41.57 g with an error of 0.00% in the range of 0.5% deviation of the target weight was measured, and the weight was stably maintained with 0.15±0.07% error afterwards.
Producing printing plate is essential progress to do offset printing. In this Film-less period, the more PS plate becomes extinct, the more the age of the Plate-Making of Exposure declines the place to stand. To do offset printing, the CTP (Computer to Plate) is taking a place of PS plate that covers speed, quality and economical problems. The biggest advantage of using CTP is that laser directly goes to the plate, thus there are no dust from the Plate-Making of Exposure. It is also theoretically able to print 200lpi${\sim}$300lpi as well as print 1751pi, because it has over 2400dpi resolution. The high quality printing could be available inside of the country, if printing machine keeps the optimum condition in offset printing. The CTP has many advantages, however there is a difficulty for the operators to preserve the equipment. The actual circumstance is that they cannot make a decision about how many dots need to be generated, and also it is necessary to know how to establish the setup at RIP on CTP to make the optimum condition output. If offset printing machine keeps the optimum condition, it would be able to print up to high quality printing however it is hard to comment what is the optimum condition for the printing machine. Anyone could say easy subjectively that machine is in the optimum condition, however it is objectively hard to estimate by number. In this research GATF / Plate Test target used to analyze the image and to make numerical value of the optimum condition of the CTP. It also used GATF / The sheep fed test printing 5.0 to know the density of the color representation, dot gain and gray balance for the optimum condition of the print machine. The purpose of this research is to represent the ISO 12647-2 which is the international standard with domestic printing equipments.
Producing printing plate is essential progress to do offset printing. In this Film-less period, the more PS plate becomes extinct, the more the age of the Plate-Making of Exposure declines the place to stand. To do offset printing, the CTP (Computer to Plate) is taking a place of PS plate that covers speed, quality and economical problems. The biggest advantage of using CTP is that laser directly goes to the plate, thus there are no dust from the Plate-Making of Exposure. It is also theoretically able to print $200lpi{\sim}300lpi$ as well as print 1751pi, because it has over 2400dpi resolution. The high quality printing could be available inside of the country, if printing machine keeps the optimum condition in offset printing. The CTP has many advantages, however there is a difficulty for the operators to preserve the equipment. The actual circumstance is that they cannot make a decision about how many dots need to be generated, and also it is necessary to know how to establish the setup at RIP on CTP to make the optimum condition output. If offset printing machine keeps the optimum condition, it would be able to print up to high quality printing however it is hard to comment what is the optimum condition for the printing machine. Anyone could say easy subjectively that machine is in the optimum condition, however it is objectively hard to estimate by number. In this research GATF / Plate Test target used to analyze the image and to make numerical value of the optimum condition of the CTP. It also used GATF / The sheep fed test printing 5.0 to know the density of the color representation, dot gain and gray balance for the optimum condition of the print machine. The purpose of this research is to represent the ISO 12647-2 which is the international standard with domestic printing equipments.
In order to solve this sort of electrostatic failure in Display and Semiconductor process, Soft X-ray ionizer is mainly used. Soft X-ray Ionizer does not only generate electrical noise and minute particle but also is efficient to remove electrostatic as it has a wide range of ionization. There exist variable factors such as type of tungsten thickness deposited on target, Anode voltage etc., and it takes a lot of time and financial resource to find optimal performance by manufacturing with actual X-ray tube source. Here, MCNPX (Monte Carlo N-Particle Extended) is used for simulation to solve this kind of problem, and optimum efficiency of X-ray generation is anticipated. In this study, X-ray generation efficiency was compared according to target material thickness using MCNPX and actual X-ray tube source under the conditions that tube voltage is 5 keV, 10 keV, 15 keV and the target Material is Tungsten(W). At the result, In Tube voltage 5 keV and distance 100 mm, optimal target thickness is $0.05{\mu}m$ and fastest decay time appears + decay time 0.28 sec. - deacy time 0.30 sec. In Tube voltage 10keV and distance 100 mm, optimal target Thickness is $0.16{\mu}m$ and fastest decay time appears + decay time 0.13 sec. - deacy time 0.12 sec. In the tube voltage 15 keV and distance 100 mm, optimal target Thickness is $0.28{\mu}m$ and fastest decay time appears + decay time 0.04 sec. - deacy time 0.05 sec.
As for the purpose, we first introduce an random mutation into wild-type gene to expand a mutation space, and then further recombine the mutant genes by staggered extension process PCR. As a result, we obtained the best clones 6-52 that showed a high activity and stability, from a round of error prone and staggered extension process PCR. The purified enzyme showed a similar pH stability to the wild-type enzyme and reveal a slightly high optimum pH at 12. In the optimum temperature, an identical dependency was also showed and a quite high stability in the thermal stability was obtained. Along with this, the enzyme was also stable at a reaction that supplement with a 15 % of ethanol as an additive. The addition of other solvents and surfactants did not improve the reaction and thus resulted in a similar profile to those of wild-type enzyme. The specific activity on the target compound rac-ketoprofen ethyl ester was calculated to be about 85, 000 unit, and the kinetic constants Km and Vmax were determined to be 0.2 mM and 90 mM/mg-protein/min respectively. The deduced amino acid alignment with the wild type enzyme revealed five mutations at L120P, I208V, T249A, D287H and T357A. Based on these observations, the site directed mutagenesis to delineate the mutagenic effect is under progress.
An optimum design process of the broad-band multi-layered radar absorbing material, using genetic algorithm, is established for the radar cross section reduction of a complex target, which consists of multiple reflection structures, such as surface warships. It follows the successive process of radar cross section analysis, scattering center analysis, radar absorbing material design, and reanalysis of radar cross section after applying the radar absorbing material. It is demonstrated that it is very effective even in the optimum design of the multi-layer radar absorbing material. This results from the fact that the three factors, i.e.. the incident angle range, broad-band frequencies, and maximum thickness can be simultaneously taken into account by adopting the genetic algorithm.
본 웹사이트에 게시된 이메일 주소가 전자우편 수집 프로그램이나
그 밖의 기술적 장치를 이용하여 무단으로 수집되는 것을 거부하며,
이를 위반시 정보통신망법에 의해 형사 처벌됨을 유념하시기 바랍니다.
[게시일 2004년 10월 1일]
이용약관
제 1 장 총칙
제 1 조 (목적)
이 이용약관은 KoreaScience 홈페이지(이하 “당 사이트”)에서 제공하는 인터넷 서비스(이하 '서비스')의 가입조건 및 이용에 관한 제반 사항과 기타 필요한 사항을 구체적으로 규정함을 목적으로 합니다.
제 2 조 (용어의 정의)
① "이용자"라 함은 당 사이트에 접속하여 이 약관에 따라 당 사이트가 제공하는 서비스를 받는 회원 및 비회원을
말합니다.
② "회원"이라 함은 서비스를 이용하기 위하여 당 사이트에 개인정보를 제공하여 아이디(ID)와 비밀번호를 부여
받은 자를 말합니다.
③ "회원 아이디(ID)"라 함은 회원의 식별 및 서비스 이용을 위하여 자신이 선정한 문자 및 숫자의 조합을
말합니다.
④ "비밀번호(패스워드)"라 함은 회원이 자신의 비밀보호를 위하여 선정한 문자 및 숫자의 조합을 말합니다.
제 3 조 (이용약관의 효력 및 변경)
① 이 약관은 당 사이트에 게시하거나 기타의 방법으로 회원에게 공지함으로써 효력이 발생합니다.
② 당 사이트는 이 약관을 개정할 경우에 적용일자 및 개정사유를 명시하여 현행 약관과 함께 당 사이트의
초기화면에 그 적용일자 7일 이전부터 적용일자 전일까지 공지합니다. 다만, 회원에게 불리하게 약관내용을
변경하는 경우에는 최소한 30일 이상의 사전 유예기간을 두고 공지합니다. 이 경우 당 사이트는 개정 전
내용과 개정 후 내용을 명확하게 비교하여 이용자가 알기 쉽도록 표시합니다.
제 4 조(약관 외 준칙)
① 이 약관은 당 사이트가 제공하는 서비스에 관한 이용안내와 함께 적용됩니다.
② 이 약관에 명시되지 아니한 사항은 관계법령의 규정이 적용됩니다.
제 2 장 이용계약의 체결
제 5 조 (이용계약의 성립 등)
① 이용계약은 이용고객이 당 사이트가 정한 약관에 「동의합니다」를 선택하고, 당 사이트가 정한
온라인신청양식을 작성하여 서비스 이용을 신청한 후, 당 사이트가 이를 승낙함으로써 성립합니다.
② 제1항의 승낙은 당 사이트가 제공하는 과학기술정보검색, 맞춤정보, 서지정보 등 다른 서비스의 이용승낙을
포함합니다.
제 6 조 (회원가입)
서비스를 이용하고자 하는 고객은 당 사이트에서 정한 회원가입양식에 개인정보를 기재하여 가입을 하여야 합니다.
제 7 조 (개인정보의 보호 및 사용)
당 사이트는 관계법령이 정하는 바에 따라 회원 등록정보를 포함한 회원의 개인정보를 보호하기 위해 노력합니다. 회원 개인정보의 보호 및 사용에 대해서는 관련법령 및 당 사이트의 개인정보 보호정책이 적용됩니다.
제 8 조 (이용 신청의 승낙과 제한)
① 당 사이트는 제6조의 규정에 의한 이용신청고객에 대하여 서비스 이용을 승낙합니다.
② 당 사이트는 아래사항에 해당하는 경우에 대해서 승낙하지 아니 합니다.
- 이용계약 신청서의 내용을 허위로 기재한 경우
- 기타 규정한 제반사항을 위반하며 신청하는 경우
제 9 조 (회원 ID 부여 및 변경 등)
① 당 사이트는 이용고객에 대하여 약관에 정하는 바에 따라 자신이 선정한 회원 ID를 부여합니다.
② 회원 ID는 원칙적으로 변경이 불가하며 부득이한 사유로 인하여 변경 하고자 하는 경우에는 해당 ID를
해지하고 재가입해야 합니다.
③ 기타 회원 개인정보 관리 및 변경 등에 관한 사항은 서비스별 안내에 정하는 바에 의합니다.
제 3 장 계약 당사자의 의무
제 10 조 (KISTI의 의무)
① 당 사이트는 이용고객이 희망한 서비스 제공 개시일에 특별한 사정이 없는 한 서비스를 이용할 수 있도록
하여야 합니다.
② 당 사이트는 개인정보 보호를 위해 보안시스템을 구축하며 개인정보 보호정책을 공시하고 준수합니다.
③ 당 사이트는 회원으로부터 제기되는 의견이나 불만이 정당하다고 객관적으로 인정될 경우에는 적절한 절차를
거쳐 즉시 처리하여야 합니다. 다만, 즉시 처리가 곤란한 경우는 회원에게 그 사유와 처리일정을 통보하여야
합니다.
제 11 조 (회원의 의무)
① 이용자는 회원가입 신청 또는 회원정보 변경 시 실명으로 모든 사항을 사실에 근거하여 작성하여야 하며,
허위 또는 타인의 정보를 등록할 경우 일체의 권리를 주장할 수 없습니다.
② 당 사이트가 관계법령 및 개인정보 보호정책에 의거하여 그 책임을 지는 경우를 제외하고 회원에게 부여된
ID의 비밀번호 관리소홀, 부정사용에 의하여 발생하는 모든 결과에 대한 책임은 회원에게 있습니다.
③ 회원은 당 사이트 및 제 3자의 지적 재산권을 침해해서는 안 됩니다.
제 4 장 서비스의 이용
제 12 조 (서비스 이용 시간)
① 서비스 이용은 당 사이트의 업무상 또는 기술상 특별한 지장이 없는 한 연중무휴, 1일 24시간 운영을
원칙으로 합니다. 단, 당 사이트는 시스템 정기점검, 증설 및 교체를 위해 당 사이트가 정한 날이나 시간에
서비스를 일시 중단할 수 있으며, 예정되어 있는 작업으로 인한 서비스 일시중단은 당 사이트 홈페이지를
통해 사전에 공지합니다.
② 당 사이트는 서비스를 특정범위로 분할하여 각 범위별로 이용가능시간을 별도로 지정할 수 있습니다. 다만
이 경우 그 내용을 공지합니다.
제 13 조 (홈페이지 저작권)
① NDSL에서 제공하는 모든 저작물의 저작권은 원저작자에게 있으며, KISTI는 복제/배포/전송권을 확보하고
있습니다.
② NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 상업적 및 기타 영리목적으로 복제/배포/전송할 경우 사전에 KISTI의 허락을
받아야 합니다.
③ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 보도, 비평, 교육, 연구 등을 위하여 정당한 범위 안에서 공정한 관행에
합치되게 인용할 수 있습니다.
④ NDSL에서 제공하는 콘텐츠를 무단 복제, 전송, 배포 기타 저작권법에 위반되는 방법으로 이용할 경우
저작권법 제136조에 따라 5년 이하의 징역 또는 5천만 원 이하의 벌금에 처해질 수 있습니다.
제 14 조 (유료서비스)
① 당 사이트 및 협력기관이 정한 유료서비스(원문복사 등)는 별도로 정해진 바에 따르며, 변경사항은 시행 전에
당 사이트 홈페이지를 통하여 회원에게 공지합니다.
② 유료서비스를 이용하려는 회원은 정해진 요금체계에 따라 요금을 납부해야 합니다.
제 5 장 계약 해지 및 이용 제한
제 15 조 (계약 해지)
회원이 이용계약을 해지하고자 하는 때에는 [가입해지] 메뉴를 이용해 직접 해지해야 합니다.
제 16 조 (서비스 이용제한)
① 당 사이트는 회원이 서비스 이용내용에 있어서 본 약관 제 11조 내용을 위반하거나, 다음 각 호에 해당하는
경우 서비스 이용을 제한할 수 있습니다.
- 2년 이상 서비스를 이용한 적이 없는 경우
- 기타 정상적인 서비스 운영에 방해가 될 경우
② 상기 이용제한 규정에 따라 서비스를 이용하는 회원에게 서비스 이용에 대하여 별도 공지 없이 서비스 이용의
일시정지, 이용계약 해지 할 수 있습니다.
제 17 조 (전자우편주소 수집 금지)
회원은 전자우편주소 추출기 등을 이용하여 전자우편주소를 수집 또는 제3자에게 제공할 수 없습니다.
제 6 장 손해배상 및 기타사항
제 18 조 (손해배상)
당 사이트는 무료로 제공되는 서비스와 관련하여 회원에게 어떠한 손해가 발생하더라도 당 사이트가 고의 또는 과실로 인한 손해발생을 제외하고는 이에 대하여 책임을 부담하지 아니합니다.
제 19 조 (관할 법원)
서비스 이용으로 발생한 분쟁에 대해 소송이 제기되는 경우 민사 소송법상의 관할 법원에 제기합니다.
[부 칙]
1. (시행일) 이 약관은 2016년 9월 5일부터 적용되며, 종전 약관은 본 약관으로 대체되며, 개정된 약관의 적용일 이전 가입자도 개정된 약관의 적용을 받습니다.