• 한국정밀공학회:학술대회논문집
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• 한국정밀공학회 2008년도 추계학술대회 논문집
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• pp.131-132
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• 2008

• 한국광학회:학술대회논문집
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• 한국광학회 2003년도 제14회 정기총회 및 03년 동계학술발표회
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• pp.4-4
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• 2003

Diffractive- and micro-optics technology Provides new degrees of freedom for the design and optimization of optical systems. In this talk emphasis will be placed on recent advances in the design and fabrication of precision, micro- structured optical elements and their applications in the optical telecommunication, vision-care, illumination and display markets. (omitted)

• 천문학회보
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• 제28권2호
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• pp.51-51
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• 2003

• 한국광학회지
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• 제16권6호
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• pp.508-515
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• 2005

MEMS 공정을 이용한 굴절렌즈 제작을 위하여, 슬릿 패턴을 갖는 마스크를 이동시키며 노광을 하는 가변 속도 이동식 마스크에 의한 노광 방법을 제안하였다. 감광제 면이 굴절렌즈의 곡면을 이루려면 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 조절해야 한다. 마스크의 패턴 형태와 이동 속돈 방향에 따라 감광제의 위치에 따른 노광 에너지의 분포를 이론적으로 분석하였으며, 감광제 박막에 임의의 곡면을 갖는 굴절렌즈 형상을 형성할 수 있음을 실험적으로 확인하였다. $100 {\mu}m$ 이상의 후막 감광제를 이용하거나, 혹은 곡면 형상을 갖는 얇은 감광제 형상을 마스크로 하여 이온식각을 수행하여 수백 ${\mu}m$ 정도의 최대높이를 갖는 렌즈 곡면형상을 제작 할 수 있었다.

• 한국방사선학회논문지
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• 제5권6호
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• pp.409-413
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• 2011

경 X선 형광분석 기법에 사용되는 X선 튜브는 X선의 휘도가 낮아 분석의 정밀도가 떨어지고 분석 시간 또한 오래 걸린다. 모세관 집광소자를 이용하면 X선 휘도의 이득(gain)을 최소 10 이상 얻을 수가 있다. 모세관 광학소자는 8.4keV의 텅스텐 특성방사선을 효율적으로 집광할 수 있도록 설계되었다. 파이렉스 유리로 된 모세관 모재를 풀러(puller)를 이용하여 45 g의 추에 $650^{\circ}$의 온도를 가하여 모세관 광학소자를 제작하였다. 모세관 광학소자의 제작은 총 460분이 소요되었으며 제작된 모세관 광학소자의 길이는 87 mm, X선 입사부의 직경은 300 ${\mu}m$, 출구부의 직경은 192 ${\mu}m$로 제작되었다. 제작된 모세관 광학소자를 경 X선 형광분석에 적용하면 황(S)과 같은 경원소 검출의 정밀도를 높일 수 있을 것이다.

• Bulletin of the Korean Chemical Society
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• 제25권6호
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• pp.934-936
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• 2004

• 한국광학회지
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• 제10권6호
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• pp.462-467
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• 1999

중적외선 파장대역$(3.7-4.8{\mu}m)$에서 20:1의 줌 비(zoom ratio)를 가지며 최저배율에서는 40$^{\circ}$$\times$30$^{\circ}$의 광시계를 갖는 연속 줌렌즈 광학계를 설계, 제작하였다. 설계된 줌 렌즈 광학계는 F/2.5에 총 7매의 렌즈로 구성되며 실리콘(Si)과 게르마늄(Ge)이 광학재질로 사용된다. 줌 광학계는 적외선 검출기를 최종 상면에 놓을 때 비네트(vignett)에 의한 광학적 errors를 줄이면서도 줌 대물렌즈의 크기를 최소화하기 위한 릴레이 형태의 재결상계(reimaging system)로 설계하였으며, 줌 렌즈의 배율 변화와 1차적인 결상을 담당하는 줌 대물부와 이를 다시 검출기에 재결상 시켜주는 결상부는 구성된다. 줌 대물부는 기계보정식 4군 줌 렌즈 형태로 구성되며 각 군을 구성하는 렌즈 매수를 최소화하여 광학계의 질량 및 크기를 줄이면서도 광학적 성능은 우수하게 유지되도록 설계하였으며 결상부는 1개의 렌즈군으로 구성하였다. 제작된 줌 렌즈 광학계의 축상 MTF를 측정한 결과 최고 배율인 20배에서 공간주파수가 24cycle/mm일 때 4.0$\mu$m파장에 대한 MTF 측정값이 0.692로 회절한계에 가까운 성능을 보였으며, 분해능은 7.6 cycles/crad까지 분해되는 것을 확인하였다.

• 대한전기학회:학술대회논문집
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• 대한전기학회 1995년도 추계학술대회 논문집 학회본부
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• pp.555-557
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• 1995

In near field optics, optical fiber probe is smaller than the wavelength of light. This small probe makes it possible to overcome the diffraction limit due to wave property of light. In conventional optical systems, the image resolution is governed by wavelength. But in NSOM, it is determined by probe tip size and probe shape. Therefore probe tip size and shape are very important points in near field optics. In this paper, we will suggest the new fabrication methods of optical fiber probe and show that the probe tip size is sub-micrometer using SEM.

• Journal of the Korean Physical Society
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• 제73권11호
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• pp.1657-1662
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• 2018

A null test method which relies on a computer generated hologram (CGH) is widely used to measure a large aspheric surface. For precise measurements of the surface shape of an aspheric optics, the CGH must precisely generate a wavefront that can fit on the ideal surface shape of the aspheric optics. If fabrication errors arise in the CGH, an unwanted wavefront will be generated and the measuring result will lack trustworthiness. Thus far, there has been limited research on wavefronts generated by CGH using only linear-type binary grating models. In this study, a theoretical error model of a circular-type zone plate, the most commonly used types for CGH patterns, is suggested. The proposed error model is checked by simulations and experiments.

• Journal of the Optical Society of Korea
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• 제11권1호
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• pp.40-43
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• 2007

We propose a taper-underlaid spot-size converter (TU-SSC) with an offset which consists of two vertically stacked taper layers. The designed TU-SSC reduces coupling loss of a high index-contrast waveguide with $1.5%{\Delta}$ to a single mode fiber from 1.5 dB to 0.27 dB. We also considered the effects of mask misalignment in the fabrication process of TU-SSC, and optimized the design of TU-SSC so that the additional loss of TU-SSC for the mask misalignment of $3{\mu}m$ in the photo-lithography process was as low as 0.13 dB.