Kim, Young-Sung;Lee, Choong-Sun;Kim, Ik-Joo;Ko, Hyung-Duk;Tai, Weon-Pil;Song, Yong-Jin;Suh, Su-Jeung
한국결정성장학회지
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제14권5호
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pp.187-192
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2004
We try to use isopropanol which has low boiling point to prepare ZnO thin films at low temperature. ZnO thin films were prepared by sol-gel spin-coating method using zinc acetate dehydrate-isopropanol-monoethanolamine (MEA) solution. The c-axis preferred orientation and optical properties of ZnO films with preheating temperature have been investigated. ZnO thin films were preheated at 200 to $300^{\circ}C$ with an interval of $25^{\circ}C$ and post-heated at $650^{\circ}C$. The ZnO film preheated at $275^{\circ}C$ and post-heated at $650^{\circ}C$ was highly oriented along c-axis (002) plane, and the surface with homogeneous and dense microstructures was formed having nano-sized grains. The optical transmittance was above 90 % in the visible range and exhibited absorption edges at 368 nm wavelength.
디스플레이 시장이 rigid에서 flexible로 변화하기 시작하면서 유연 투명전극 소재에 대한 수요가 증가하고 있다. 투명전극으로 대표되는 Indium Tin Oxide(ITO)는 고투과 저저항의 장점을 가지지만 유연성이 떨어져 이를 대체 할 투명전극 소재로 Metal mesh, Ag nano-wire, CNT, Graphene, Conductive polymer 등에 대한 응용 연구가 활발히 진행되고 있다. 본 연구에서는 Metal mesh 용 Cu thin film 형성을 위해 플라즈마 표면처리 기술로 플라스틱 기판과 Cu 박막 사이의 밀착력을 향상시키고자 공정 연구를 수행하였다. 고품질의 Cu thin film 제작을 위해 양산용 roll to roll 장비를 이용하였고, 선형이온소스를 적용하여 플라즈마 표면처리를 수행하였다. 이후 마그네트론 스퍼터링을 통해 Ni buffer layer 및 Cu 박막 증착 공정을 in-situ로 진행하였다. 이러한 공정을 통해 제작한 Cu thin film의 밀착력을 평가하기 위해 cross cut test(ASTM D3359)를 수행하였다. 그 결과 플라스틱 기판과 Cu 금속 박막 사이의 밀착력이 0B에서 5B까지 향상된 것을 확인하였고, 플라즈마 표면처리 공정을 통해서 저항 또한 감소되는 결과를 얻을 수 있었다. 본 연구를 통해 polyethylene terephthalate(PET)뿐만 아니라 polyimide(PI) 기판 상에서도 플라즈마 표면처리를 통해 금속 박막의 밀착력이 향상되는 결과를 확인하였으며, flexible copper clad laminate (FCCL) 같은 유연 정보 소자 분야에 응용 가능할 것으로 기대된다.
In recent years the interest on flexible display has been increasing as a future display due to its bendable characteristics. An ITO(indium tin oxide) layer, which is part of a flexible display, can be broken easily while bending because it is made of brittle materials. This brittle property can cause the malfunction of flexible display. To analyze fracture characteristics of ITO layer, bending test was conducted commonly. However, it is not possible to know specific phenomena on bended ITO layer by simple bending test only. Accordingly, in this study, the FE(finite element) model is developed similarly to a real flexible display to analyze stress distribution of flexible display under bending condition, especially on ITO layer. To validate FE model, actual bending test was conducted and the test results were compared with the simulation results by measuring reaction forces during bending. By using the developed model, FE analysis about the effect of design parameter (Thickness & Young's Modulus of BL) on ITO Layer was performed. By explained FE analysis above, this research draws a conclusion of reliable design guide of flexible display, especially on ITO layer.
Power MOSFETs(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) operate as energy control semiconductor switches. In order to reduce energy loss of the device during switch-on state, it is essential to increase its conductance. We have experimental results and explanations on the doping profile dependence of the electrical behavior of the vertical MOSFET. The device is fabricated as $8.25{\mu}m$ cell pitch and $4.25{\mu}m$ gate width. The performances of device with various p base doping concentration are compared at Vth from 1.77 V to 4.13 V. Also the effect of the cell structure on the on-resistance and breakdown voltage of the device are analyzed. The simulation results suggest that the device optimized for various applications can be further optimized at power device.
Oxygen ionic conductors of CeScSZ electrolyte in SOFC unit cell are applied to anode and cathode as well as electrolyte to have the triple-phase-boundaries of electrochemical reaction, and it is required to decrease the sintering temperature of anode-supported electrolyte by the nanoscale of CeScSZ electrolyte powder. In this report, nanoscale CeScSZ electrolyte powder was synthesized by chemical synthesis method. The particle size, surface area and morphology of the powder were observed by SEM and BET. Thin film electrolyte of under $10{\mu}m$ was fabricated by tape casting using the synthesized CeScSZ electrolyte powder, and ionic conductivity and gas permeability of electrolyte film were evaluated. Finally the SOFC unit cell was fabricated using the anode-supported electrolyte prepared by a tape casting method and co-sintering, in which the active layer, measuring $20{\mu}m$, was introduced in the anode layer to provide a more efficient reaction. Electrochemical evaluations of the SOFC unit cell, including measurements such as power density and impedance, were performed and analyzed.
Here, we review the various methods for the preparation of vanadium dioxide ($VO_2$) films and nanowires, and their potential applications to the sensors such as gas sensor, strain sensor, and temperature sensor. $VO_2$ is an interesting material on account of its easily accessible and sharp Mott metal-insulator transition (MIT) at ${\sim}68^{\circ}C$ in the bulk. The MIT is also triggered by the electric field, stress, magnetic field etc. This paper involves exceptionally sensitive hydrogen sensors based on the catalytic process between hydrogen molecules and Pd nanoparticles on the $VO_2$ surface, and fast responsive sensors based on the self-heating effects which leads to the phase changes of the $VO_2$. These features will be seen in this paper and can enable strategies for the integration of a $VO_2$ material in advanced and complex functional units such as logic gates, memory, FETs for micro/nano-systems as well as the sensors.
Metallic tin powder with diameter less than 50 nm was synthesized by inert gas condensation method and subsequently oxidized to tin oxide ($SnO_2$) along the two heat-treatment routes. The $SnO_2$ powder of single phase with a tetragonal structure was obtained by the heat-treatment route with intermediate annealing step-wise oxidation, whereas the $SnO_2$ powder with mixture of orthorhombic and tetragonal phases was obtained by the heat-treatment route without intermediate annealing (direct oxidation). $SnO_2$ gas sensors fabricated from the nano-phase $SnO_2$ powders were investigated by structural observations as well as measurement of electrical resistance. The $SnO_2$ gas sensors fabricated from the mixed-phase powder exhibited much lower sensitivity against $H_2$ gas than those fabricated from the powder of tetragonal phase. Reduced sensitivity of gas sensors with the new orthorhombic phase was attributed to detrimental effects of phase boundaries between orthorhombic and tetragonal phases and many twin boundaries on the charge mobility.
한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권2호
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pp.1715-1718
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2007
New ITO thin film of good performance has been developed by brand-new, plasma-damage-free sputtering process at the room temperature. The room temperature-processed ITO films with optimized conditions as neutral beam acceleration bias of -30V and In & Sn composition ratio of 99:01 gives lower resistivity as $4.22{\times}10^{-4}{\Omega}-cm$ and higher transmittance over 90% a wavelength of 550 nm. The transmission electron microscope (TEM) images of the films show a nano-crystalline structure.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제10권5호
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pp.169-172
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2009
The ZnO/CuSn/ZnO (ZCSZ) multilayer films were deposited on polycarbonate substrates using reactive RF and DC magnetron sputtering. The thickness of each layer was 50 nm/5 nm/45 nm, respectively. The ZCSZ films showed a sheet resistance of $44{\Omega}$/Sq, which was an order of magnitude lower than that indium tin oxide (ITO) films. Although the ZCSZ films had a CuSn interlayer that absorbed visible light, both films had similar optical transmittances of 74% in the visible wavelength region. The figure of merit of the ZCSZ films was $1.0{\times}10^{-3}{\Omega}^{-1}$ and was greater than the value of the ITO films, $1.6{\times}10^{-4}{\Omega}^{-1}$. From the X-ray diffraction (XRD) analysis, the ITO films did not show any diffraction peaks, whereas the ZCSZ films showed diffraction peaks for the ZnO (100) and (002) phases. The hardness of the ITO and ZCSZ films were 5.8 and 7.1 GPa, respectively, which were determined using nano-indentation. From these results, the ZCSZ films exhibited greater optoelectrical performance and hardness compared to the conventional ITO films.
Transactions on Electrical and Electronic Materials
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제17권2호
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pp.98-103
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2016
The surface morphology of the front transparent conductive oxide (TCO) films plays a vital role in amorphous silicon thin film solar cells (a-Si TFSCs) due to their high transparency, conductivity and excellent light scattering properties. Recently, plasma textured glass surface morphologies received much attention for light trapping in a-Si TFSCs. We report various plasma textured glass surface morphologies for the high efficiency of a-Si TFSCs. Plasma textured glass surface morphologies showed high rms roughness, haze ratio with micro- and nano size surface features and are proposed for future high efficiency of a-Si TFSCs.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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