The electrical and physical charateristics of aluminum oxide and Pt thin films on it, deposited by reactive sputtering and DC magnetron sputtering, respectively, were analysed with increasing annealing temperature(400~80$0^{\circ}C$) by four point probe, SEM and XRD. Under $600^{\circ}C$ of annealing temperature, aluminum oxide had the properties of improving Pt adhesion to SiO$_2$and insulation without chemical reaction to Pt thin films and the resistivity of Pt thin finns was improved. But these properties of aluminum oxide and Pt thin finns on it were degraded over $700^{\circ}C$ of annealing temperature because aluminum oxide was changed into metal aluminum and then reacted to Pt thin films deposited on it. The thermal characteristics of Pt micro heater were analysed with Pt-RTD integrated on the same substrate. In the analysis of properties of Pt micro heater. active area was smaller size, Pt micro heater had better thermal characteristics. Temperature of Pt micro heater fabricated on membrane was up to 34$0^{\circ}C$ with 1.2watts of the heating power due to reduction of the external thermal loss.
한국정보디스플레이학회 2005년도 International Meeting on Information Displayvol.I
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pp.161-166
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2005
The plasma ion density in AC-PDP has shown to be increased from $5.6{\times}10^{11}cm^{-3}$ to $9.0{\times}10^{11)cm^{-3}$ as the Xe mixture ratio to neon increase from 1 % to 10 %, respectively, at fixed pressure of 400 Torr, by using the micro-Langmuir probe. It is noted that the plasma ion density is density increases as the gas pressure increases in this experiment. The electron temperature decreases from 2.3 to 1.2 eV as the Xe mole fraction increases from 1 % to 10 % at fixed pressure of 400 Torr, which is measured by the micro Langmuir probe and high-speed ICCD camera in this experiment. It is noted that the electron temperature decreases as the gas pressure increases from 150 to 400 Torr in this experiment. It is also observed that the exited Xe atom density and the plasma ion density are in strong correlation sharp between each other in this experiment. It is noted that $5.2{\times}10^{12}cm^{-3}$ in the $1s_5$ metastable state and $1.2{\times}10^{12}cm^{-3}$ in the $1s_4$ resonance state for the PDP cell with gap of 50 um distances under the fixed gas pressure of 400 Torr and Xe content ratio of 10 %.
Newly developed Atom Probe Tomography (APT) technique can provide the highest available spatial resolution, 3D tomography imaging and quantitative chemical analysis in a sub-nm scale. As a complementary technique to APT, Nano-secondary ion Mass Spectroscopy (SIMS) also provides the boron distribution in micro-scale. Therefore, the exact behavior of boron at either grain boundary or grain interior in steels can be investigated by the combination of APT and SIMS techniques from the sub-nanometer scale to the micrometer scale. The results obtained by both APT and SIMS revealed that the boron atoms were mainly segregated to the grain boundaries rather than to the grain interior in the steels containing 50ppm and 100ppm boron. It also found that carbon atoms were segregated at the boron enriched regions, which were thought to be retained austenite phase due to the chemical composition of carbon atoms.
In this paper, we present a pH measurement method that uses a microcantilever-array-based biosensor system. It is composed of microcantilever array, liquid cell, micro syringe pump, laser diode array, position sensitive detector, data acquisition device, and data processing software. Four microcantilevers are functionalized with pH-sensitive MHA(mercaptohexadecanoic acid) as a probe, while three microcantilevers are functionalized with HDT(hexadecane thiol) as reference. We prepare PBS(phosphate buffered saline) solutions of different pH and inject them into the liquid cell with a predefined volumetric speed at regular time intervals. The functionalized mircocantilevers in the liquid cell deflect as a self-assembled monolayer on the microcantilever binds with probe molecules in the solution. The difference in deflection between the MHA-covered probe microcantilever and the HDT-covered reference microcantilever was used to compensate for thermal drift. The deflection difference clearly increases with increasing pH in the solution. It was shown that when the pH values of the PBS solutions are high, there were large variations in the deflection of microcantilevers, whereas there were small variations for low pH value. The experimental results show that the microcantilever array functionalized with MHA and HDT can detect pH value with good repeatability.
Recently various molecular diagnostic techniques have been used to identify rabbit hemorrhagic disease virus (RHDV), a causative agent responsible for acute hepatitis and disseminated intravascular coagulation in rabbit. But they were hard to perform and time consuming. To detect RHDV in a rapid and easy way, we developed biotinylated oligonucleotide probe within ORF 1 region encoding the polyprotein of RHDV in formalin-fixed and paraffin-embedded tissues from various tissues of 20 rabbits naturally infected with RHDV, Our in situ hybridization (ISH) was quickly carried out within two hours by MicroProbe capillary action system. The ISH produced a positive reaction in liver, kidney and lung. In conclusion, ISH with a biotintlated oligonucleotide probe provided a useful diagnostic method for detecting RHDV.
NiCr thin film was deposited by DC magnetron sputtering on $A;_2O_3$/Si substrate with NiCr (80:20) alloy target. NiCr thin films were annealed at $300^{\circ}C,\;400^{\circ}C,\;500^{\circ}C,\;600^{\circ}C,\;and\;700^{\circ}C$ for 6 hr in $H_2$ after annealing at $500^{\circ}C$ for 6hr in air atmosphere, respectively. To analyze NiCr thin film properties, the changes of its micro structure were Investigated through field emission scanning electron microscope (FESEM). X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) was used to analyze a surface of NiCr thin film. Resistance of NiCr thin film was measured by 4-point probe technique. The generated heats were measured by infrared thermometer through the application of DC voltage (5 V/l2 V). NiCr thin film treated by gradational double annealing process had uniform and small grains. Maximum temperature generated heat by NiCr micro heater was $173^{\circ}C$. We expect that our results will be a useful reference in the realization of NiCr micro heater.
This paper discusses the fabrication process for a Nipkow disk using micro-lens and pinhole disks. The confocal measuring system that uses the Nipkow disk has the advantage in measuring speed, because the Nipkow disk can simultaneously provide confocal images of all pixels in a CCD camera without requiring a lateral scanning unit. A micro-lens configuration, which focuses illumination on a pinhole, overcomes the low optical efficiency of the Nipkow disk system and allows its use in practical applications. This paper describes how to design the Nipkow disk in terms of numerical aperture, particularly for measuring the height of solder bumps in packaging application and for hybrid processes combining mechanical and semiconductor processes.
We design, develope and test a parallel active polymer pen lithography (PPL) device, which consists of individually addressable elastomeric probe tips. The PPL array chip is fabricated using soft lithography method with polydimethylsiloxane (PDMS) material. Individual probe can be pneumatically actuated via a computer controlled interface. We demonstrate parallel writing with 16 individually addressed pens, with each pen producing a different pattern in the same run. The largest proof-of-concept array fabricated is $4{\times}4$ with a spacing of $250{\mu}m$ in both x and y axes.
Scanning Probe Lithography is a method to localized oxidation on single crystal silicon wafer surface. This study demonstrates nanometer scale non contact lithography process on (100) silicon (p-type) wafer surface using AFM(Atomic force microscope) apparatuses and pulse controlling methods. AFM-based experimental apparatuses are connected the DC pulse generator that supplies ultra short pulses between conductive tip and single crystal silicon wafer surface maintaining constant humidity during processes. Then ultra short pulse durations are controlled according to various experimental conditions. Non contact lithography of using ultra short pulse induces electrochemical reaction between micro-scale tip and silicon wafer surface. Various growths of oxides can be created by ultra short pulse non contact lithography modification according to various pulse durations and applied constant humidity environment.
With the advancement of micro-systems and nanotechnology, the need for ultra-precision fabrication techniques has been steadily increasing. In this paper, a novel nano-structure fabrication process that is based on the fundamental understanding of nano-scale tribological interaction is introduced. The process, which is called Mechano-Chemical Scanning Probe Lithography (MC-SPL), has two steps, namely, mechanical scribing for the removal of a resist layer and selective chemical etching on the scribed regions. Organic monolayers are used as a resist material, since it is essential for the resist to be as thin as possible in order to fabricate more precise patterns and surface structures. The results show that high resolution patterns with sub-micrometer scale width can be fabricated on both silicon and various metal surfaces by using this technique.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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