In this study, we produced a coil of micro-pattern that can be used for electromagnetic wave absorber, heating material, wireless charging, sensor, antenna, etc. by using electrochemical additive manufacturing method. Currently, it contains research contents for manufacturing a micro pattern coil having practicality through control of process control variables such as applied voltage, distance between electrode, and nozzle injection. Circulation of the electrolyte through the nozzle injection control can significantly contribute to improving the surface characteristics of the coil because of minimizing voltage fluctuations that may occur during the additive manufacturing process. In addition, by applying the pulse method in the application of voltage, the lamination characteristics of the plated body were improved, which showed that the formation of a fine line width plays an important role in the production of a micro pattern coil. By applying the pulse signal to the voltage application, the additive manufacturing characteristics of the produced product were improved, and it was shown that the formation of a fine line width plays an important role in the production of a micro pattern coil.
A field-oriented UHF system for on-line PD monitoring of transformers is designed, which has been installed inside the oil tank of transformer in a substation by two ways: on-line installing mode through the oil-valve and pre-installing mode through the man hole/hand hole cover. This system has successfully captured long intermittent discharge signals that hadn't been detected through conventional techniques, and solved the problem successfully. The results demonstrate that UHF technique has great advantages for on-line PD monitoring of transformers. By adopting the peak detection technique, it becomes easy and effective for the transplantation of the phase-resolved pattern recognition technique from conventional method to UHF method, and then to realize continuous on-line monitoring, source characterization and trending analysis.
A new line code design technique based on the BUDA(Binary Unit DSV and ASV) concept is introduced. The new line code called MB34 and designed by this new technique is of the minimum bandwidth, dc-free, and runlength limited. To confirm the performance of the new code, its power spectrum and eye pattern are obtained, wherein spectral nulls at dc(f=0) and Nyguist frequency (f=1/2Ts) are clearly identified. It is also discussed how the transmission errors can be detected by monitoring the DSV, the ASV, and the runlength.
In this paper, we present the new method for joint aspect inspecting system. We use the image processing and laser maker for light source. We can find the matrial joint status through processing the line pattern which is made by laser maker. To get the line pattern, in first, we had done the preprocss of threshold. If the shape of line had over two segments, then the joint status is abnormal. We show our system efficency by experiment on tire facility.
Kim, B.K.;Kong, B.Y.;Seon, J.Y.;Lee, N.S.;Kim, H.J.;Han, I.T.;Kim, J.M.
한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
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한국정보디스플레이학회 2004년도 Asia Display / IMID 04
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pp.471-474
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2004
We investigated field emission (FE) characteristics of multi-walled carbon nanotubes (CNTs) grown on all over patterned cathode electrode lines (CL pattern) and grown on along the central areas of the cathode lines(CL pattern). The CNTs grown on the SL pattern showed a lower threshold voltage and higher emission current than those on the CL pattern, due to the concentration of electric fields at the edges of the cathode lines. For the SL-patterned CNTs, however, the FE gradually spread out to the neighbors with time, and was instantly extinguished in some area and then slowly resumed again. Such areal- spread FE did not occur for the CL-patterned sample, leading to the stable FE together with the instant turn-on capability. It is suggested that the spread FE and instability for the SL-patterned CNTs may be related to the electrical charging on the insulator surface around the cathode line edges.
KSII Transactions on Internet and Information Systems (TIIS)
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제11권11호
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pp.5474-5490
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2017
Although two-dimensional principal component analysis (2DPCA) has been shown to be successful in face recognition system, it is still very sensitive to illumination variations. To reduce the effect of these variations, texture-based techniques are used due to their robustness to these variations. In this paper, we explore several texture-based techniques and determine the most appropriate one to be used with 2DPCA-based techniques for face recognition. We also propose a new distance metric computation in 2DPCA called Row Assembled Matrix Distance (RowAMD). Experiments on Yale Face Database, Extended Yale Face Database B, AR Database and LFW Database reveal that the proposed RowAMD distance computation method outperforms other conventional distance metrics when Local Line Binary Pattern (LLBP) and Multi-scale Block Local Binary Pattern (MB-LBP) are used for face authentication and face identification, respectively. In addition to this, the results also demonstrate the robustness of the proposed RowAMD with several texture-based techniques.
This study researches the historical production, process, and design method for 3 pairs of corsets in $18^{th}$ century France. In the analytical stage of historical materials, it grasped the kind, form, origin, and change in style through a lexical definition of relevant terms. Through a precedent study on Garsault's 'L'art du tailleur', preservation costume, and historical reconstruction of pattern in preservation costume, it confirmed corps size, silhouette, pattern form, and material for historical production. The sewing method and the producing sequence were analyzed. In the production stage, 3 selective models in corps plein baleine, corps demi-baleine, and corset were historically produced. With neckline of forming broad Letter U, the bust part is covered roundly. The bodice was composed of 10 panels based on the corps form in the mid-$18^{th}$ century of following a curve of a human body. A shoulder strap was allowed to make the arm movement comfortable by producing and attaching it separately. The cutting line except the center in the front and the back of vertical line was distributed according to the natural flow of a form and movement of the human body. The curve-based pattern line was confirmed.
대면적 액정 표시판 (Liquid Crystal Display:LCD) panel내(內)의 구동소자인 비정질 실리콘 (amorphous silicon) 박막 트랜지스터 (Thin Film Transistor:TFT)의 구동신호전달 소자특성 향상을 위한 본(本) 연구의 목적은 액정 panel TFT 제조공정 상(上)의 증착금속 전극박막들의 Test Elements Group(TEG) metal line pattern별(別) 전기적 저항특성 평가에 있다. 현(現) TFT 전극용(用)으로 개발이 진행 중(中)인 Aluminum(Al), Tantalum(Ta) 및 Chromium(Cr) 이 특성평가 대상 금속 박막으로 선정 되었으며, 이들 금속막의 증착 thickness 와 TEG metal line width가 저항특성 변수로 성립 되었다. 본(本) 실험을 통해 금속 박막의 TEG line width별(別) 체적(體積)저항 (bulk resistance), 면(面)저항(sheet resistance), 비(比)저항 (resistivity) 및 기판 상(上)의 metal pattern 위치 변화에 따른 전기적 저항 uniformity 특성변화 평가가 있었다. TEG metal line 측정 변위에 따른 저항율의 선형변화 특성도 연구 되었으며, metal line별(別) 전기적 연속, 불연속 배선 단락 특성(electrical continuity test) 관찰도 있었다.
The line commutated inverter with GTO forced commutation is described in this paper. The presented circuit has one bypass GTO inserted in DC power side line commutated thyristor inverter. The extended commutation region with additional one GTO-commutation is clearly shown. Also, a new PWM pattern is presented to decrease the effects of harmonics for commutation. A criterion for designing the AC filter parameters to decrease harmonics of AC part is given. The simulation and experimental results clearly show that the proposed circuit can be adapted in the application of regeneration.
An in-line wet etch/cleaning system was established for the research and development in wet etch process. The system was equipped with a reverse moving system for the reduction in the size of the in-line wet etch/cleaning system and it was possible for the glass substrate to be moved back and forth and alternated in a wet etch bath. For the comparison of the effect of the normal motion and that of the alternating motion on the in-line wet etch process, indium tin oxide(ITO) pattern was obtained through both wet etch process conditions. The results showed that the alternating motion is not inferior to the normal motion in etch rate and in etch uniformity. It is concluded that the alternating motion is possible to be applied to the in-line etch process.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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