ECR을 이용한 ${SF_6}/{O_2}$ 가스 플라즈마에 의한 ITO의 식각 특성연구
(Etch characteristics of ITO(Indium Tin Oxide)using ${SF_6}/{O_2}$ -gas ECR(Electron Cyclotron Resonance) plasmas)
-
- 한국전기전자재료학회논문지
- /
- 제13권7호
- /
- pp.563-567
- /
- 2000