• Title/Summary/Keyword: ITO (Indium Tin Oxide)

검색결과 835건 처리시간 0.031초

Combinatorial studies on the work function characteristics for Nb or Zn doped indium-tin oxide electrodes

  • Heo, Gi-Seok;Kim, Sung-Dae;Park, Jong-Woon;Lee, Jong-Ho;Kim, Tae-Won
    • 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국전기전자재료학회 2008년도 하계학술대회 논문집 Vol.9
    • /
    • pp.159-159
    • /
    • 2008
  • Indium-tin oxides (ITO) films have been widely used as transparent electrodes for optoelectronic devices such as organic light emitting diodes (OLEDs), photovoltaics, touch screen devices, and flat-paneldisplay. In particular, to improve hole injection efficiency in OLEDs, transparent electrodes should have high work-function besides their transparency and low resistivity. Nevertheless, few studies have been made on engineering the work function of ITO for use as an efficient anode. In this study, the effects of a wide range of Nb or Zn doping rate on the changes in work functions of ITO anode were investigated. The Nb or Zn doped ITO films were fabricated on glass substrates using combinatorial sputtering system which yields a linear composition spread of Nb or Zn concentration in ITO films in a controlled manner by co-sputtering two targets of ITO and Nb2O5 or ITO and ZnO. We have also examined the resistivity, transmittance, and other structural properties of the Nb or Zn-doped ITO films. Furthermore, OLEDs employing Nb or Zn-doped ITO anodes were fabricated and the device performances were investigated concerned with the work function changes.

  • PDF

모듈레이티드 펄스 스퍼터링으로 상온 증착한 Indium-Tin-Oxide (ITO) 나노 박막 (Indium Tin Oxide (ITO) Nano Thin Films Deposited by a Modulated Pulse Sputtering at Room Temperature)

  • 유영군;정진용;주정훈
    • 한국표면공학회지
    • /
    • 제47권3호
    • /
    • pp.109-115
    • /
    • 2014
  • High power impulse magnetron sputtering (HIPIMS), also known as the technology is called peak power density in a short period, you can get high, so high ionization sputtering rate can make. Higher ionization of sputtered species to a variety of coating materials conventional in the field of improving the characteristics and self-assisted ion thin film deposition process, which contributes to a superior being. HIPIMS at the same power, but the deposition speed is slow in comparison with DC disadvantages. Since recently as a replacement for HIPIMS modulated pulse power (MPP) has been developed. This ionization rate of the sputtered species can increase the deposition rate is lowered and at the same time to overcome the problems to be reported. The differences between the MPP and the HIPIMS is a simple single pulse with a HIPIMS whereas, MPP is 3 ms in pulse length is adjustable, with the full set of multi-pulses within the pulse period and the pulse is applied can be micro advantages. In this experiment, $In_2O_3$ : $SnO_2$ composition ratio of 9 : 1 wt% target was used, Ar : $O_2$ flow rate ratio is 4.8 to 13.0% of the rate of deposition was carried out at room temperature. Ar 40 sccm and the flow rate of $O_2$ and then fixed 2 ~ 6 sccm was compared against that. The thickness of the thin film deposition is fixed at 60 nm, when the partial pressure of oxygen at 9.1%, the specific resistance value of $4.565{\times}10^{-4}{\Omega}cm$, transmittance 86.6%, mobility $32.29cm^2/Vs$ to obtain the value.

디스플레이용 SiO2/ITO 투명전도막의 반사특성 (Reflection Properties of SiO2/ITO Transparent and Conductive Thin Films for Display)

  • 신용욱;김상우;윤기현
    • 한국세라믹학회지
    • /
    • 제39권3호
    • /
    • pp.233-239
    • /
    • 2002
  • CRT의 전면에 전자파차폐, 정전기 방지 및 저반사 효과를 위해 코팅되는 $SiO_2$/ITO (Indium Tin Oxide) 이층박막의 반사특성에 관하여 연구하였다. 실리카층 및 ITO층의 두께를 변화시키며 나타나는 반사율의 경향을 고찰하고, 이론적인 2층, 3층 저반사코팅의 디자인에 적용시켜 보았다. 입자 상으로 코팅된 ITO는 두께가 증가할수록 기공에 의해 박막의 불균일성이 증가하면서 이론적인 반사모델과의 차이가 커졌다. 실리카와 ITO의 계면에 존재하는 혼합층의 영향으로 인하여 실제측정반사율은 2층으로 디자인한 이론반사율보다 $SiO_2$/$SiO_2$+ITO/ITO의 3층으로 디자인한 반사모델에 보다 잘 적용되었다. 이론적인 저반사 디자인은 근거로 $SiO_2$/ITO 박막의 두께를 90, 65 nm로 조절한 이층막은 기준파장에서 2.5%의 반사율을 나타내었고, 가시광선 영역에서 이론반사율과 유사한 거동을 보였다.

CMP 공정변수에 따른 ITO박막의 전기적.광학적 특성 (Electrical and Optical of Properties ITO Thin Film by CMP Process Parameter)

  • 최권우;김남훈;서용진;이우선
    • 대한전기학회:학술대회논문집
    • /
    • 대한전기학회 2005년도 추계학술대회 논문집 전기물성,응용부문
    • /
    • pp.151-153
    • /
    • 2005
  • Indium tin oxide (ITO) thin film was polished by chemical mechanical polishing (CMP) by the change of process parameters for the improvement of electrical and optical properties of ITO thin film. Light transparent efficiency of ITO thin film was improved after CMP process at the optimized process parameters compared to that before CMP process.

  • PDF

스퍼터링에 의한 ITO 박막의 저온 증착 및 측정 (Low Temperature Deposition of ITO Film Using Magnetron Sputtering)

  • 장승현;이영민;양지훈;정재인
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국표면공학회 2009년도 춘계학술대회 논문집
    • /
    • pp.172-172
    • /
    • 2009
  • 전자부품 소재의 경량화 및 연성화 경향에 따라 고분자 소재의 수요가 증가하고 있으며 이에 따라 각종 디스플레이 소자의 투명 도전막으로 사용되는 ITO(Indium-tin Oxide) 피막의 저온 박막 성장에 대한 관심이 증가하고 있다. 본 연구에서는 PET 기판의 전처리 및 후처리 조건에 따라 저온에서 ITO 피막을 제조하고 전처리 및 후처리 조건이 ITO 피막의 면저항 및 투과율 그리고 결정성에 미치는 영향에 대해서 연구하였다.

  • PDF

ITO막의 두께 제어를 위한 투과율 측정 (Transmittance measurement for thickness control of ITO layer)

  • 박정규;이무영
    • 제어로봇시스템학회:학술대회논문집
    • /
    • 제어로봇시스템학회 2000년도 제15차 학술회의논문집
    • /
    • pp.213-213
    • /
    • 2000
  • A sensor system which can measure the transmittance of ITO(Indium Tin Oxide) layed glass is proposed. The sensor system includes a single wavelength laser beam source, photo diodes and electronic circuit processing sensor signal. The wavelength of laser is 543.5 m, this is most sensitive wavelength to photopic and scotopic vision. We applied the sensor to measure transmittance of ITO layer on general manufacturing environment and verified the effectiveness of sensor through experimental measurement.

  • PDF

Ultrafine ITO Nanoparticle for Ink Jet Printing

  • Hong, Sung-Jei;Kim, Yong-Hoon;Han, Jeong-In
    • 한국정보디스플레이학회:학술대회논문집
    • /
    • 한국정보디스플레이학회 2007년도 7th International Meeting on Information Display 제7권1호
    • /
    • pp.467-470
    • /
    • 2007
  • Ultrafine Indium tin oxide (ITO) nanoparticle was successfully fabricated by low temperature synthetic method (LTSM). Mean size of ITO nanoparticle is 5 nm, and uniformly dispersed with (222) orientated cubic structure. Using the nanoparticle, ITO thin film with good optical and electrical properties was fabricated by inkjet printing.

  • PDF

인라인 스퍼터링에 의한 저항막 방식 터치패널용 ITO 기판 제조공정 최적화 기술 (Process Optimization of ITO Film on PC Substrate Deposited by In-line Sputtering Method for a Resistive-type Touch Panel)

  • 안민형;조의식;권상직
    • 한국진공학회지
    • /
    • 제18권6호
    • /
    • pp.440-446
    • /
    • 2009
  • 본 연구에서는 인라인 스퍼터링 공정을 이용하여 저항막 방식 터치패널에 적용이 가능한 인듐 주석 산화물(indium tin oxide: ITO)기판 제조 공정을 최적화하였다. 플라스틱 기판으로 고분자 기판인 폴리카보네이트(polycarbonate : PC) 기판을 사용하였으며 면저항 $500{\pm}50\;{\Omega}$/□, 면저항 균일도 10 % 이내, 투과율 87 %(at550nm)이상, 두께 $120{\sim}250\;{\AA}$의 조건을 만족하는 ITO 기판의 공정 최적화를 위한 실험을 진행하였다. 스퍼터링 공정은 초기 진공도 $1{\times}10^{-6}\;torr$ 일 때 상온에서 DC 전압을 인가하여 진행되었으며 산소/알곤 가스의 비율, 인가 전압, 공정 압력, 기판의 이송 속도를 변수로 하여 요구되는 ITO 박막의 특성에 가장 최적화된 공정 조건을 형성하였다. 인라인 방식의 스퍼터 장비에서 최적화된 공정 조건은 실제 생산 라인에 적용이 가능할 것으로 판단되며 향후 지속적인 연구를 통해 현재 수입에 의존하고 있는 ITO 기판 제조기술의 국산화에 기여할 수 있을 것이다.

Studies on the Toxicity and Distribution of Indium Compounds According to Particle Size in Sprague-Dawley Rats

  • Lim, Cheol Hong;Han, Jeong-Hee;Cho, Hae-Won;Kang, Mingu
    • Toxicological Research
    • /
    • 제30권1호
    • /
    • pp.55-63
    • /
    • 2014
  • Objectives: The use of indium compounds, especially those of small size, for the production of semiconductors, liquid-crystal panels, etc., has increased recently. However, the role of particle size or the chemical composition of indium compounds in their toxicity and distribution in the body has not been sufficiently investigated. Therefore, the aim of this study was to examine the effects of particle size and the chemical composition of indium compounds on their toxicity and distribution. Methods: Male Sprague-Dawley rats were exposed to two different-sized indium oxides (average particle sizes under 4,000 nm [IO_4000] and 100 nm [IO_100]) and one nano-sized indium-tin oxide (ITO; average particle size less than 50 nm) by inhalation for 6 hr daily, 5 days per week, for 4 weeks at approximately $1mg/m^3$ of indium by mass concentration. Results: We observed differences in lung weights and histopathological findings, differential cell counts, and cell damage indicators in the bronchoalveolar lavage fluid between the normal control group and IO- or ITO-exposed groups. However, only ITO affected respiratory functions in exposed rats. Overall, the toxicity of ITO was much higher than that of IOs; the toxicity of IO_4000 was higher than that of IO_100. A 4-week recovery period was not sufficient to alleviate the toxic effects of IO and ITO exposure. Inhaled indium was mainly deposited in the lungs. ITO in the lungs was removed more slowly than IOs; IO_4000 was removed faster than IO_100. IOs were not distributed to other organs (i.e., the brain, liver, and spleen), whereas ITO was. Concentrations of indium in the blood and organ tissues were higher at 4 weeks after exposure. Conclusions: The effect of particle size on the toxicity of indium compounds was not clear, whereas chemical composition clearly affected toxicity; ITO showed much higher toxicity than that of IO.

비틀림 변형 중 ITO 필름의 시편 형태에 따른 기계적 전기적 파괴 연구 (Mechanical and Electrical Failure of ITO Film with Different Shape during Twisting Deformation)

  • 권용욱;김병준
    • 마이크로전자및패키징학회지
    • /
    • 제24권4호
    • /
    • pp.53-57
    • /
    • 2017
  • 현재 전자 기기에서 가장 대표적인 투명전극은 ITO(Indium Tin Oxide) 필름으로, 우수한 전기적 물성과 광학적 성질로 인해 터치패널, 발광 소자 등 다양한 곳에 사용 중이다. 하지만, 세라믹 재료가 가지는 취성으로 인해, 유연 전자 소자와 같은 곳에 적용할 경우 기계적 변형 중 취성 파괴가 일어나기 쉬우므로 각별한 주의가 필요하다. 본 연구에서는 PET 위에 증착한 ITO 필름에 비틀림 변형이 가해졌을 경우 나타나는 기계적 파괴 및 이에 따라 발생하는 전기적 물성 변화에 대해 연구하였다. 다양한 형태의 시편을 준비하여 비틀림 변형 시 ITO 필름의 전기적 안정성에 대해 연구하였고, 시편의 길이가 길수록 폭이 클수록 면적이 작을수록 비틀림 변형에 취약한 것으로 나타났다. 이를 비틀림 변형 시 발생하는 복합 응력을 고려하여 ITO 필름의 비틀림 안정성에 대해 연구하였다.