Heterogeneous ion exchange membranes were prepared by mixing polyethylene as matrix with bead and fibrous anionic ion exchangers at different mixing ratio. Generally, ion exchange capacities were increased with increasing the ratio of the fibrous ion exchanger content. The highest ion exchange capacity of the membrane was 1.86 meq/g at 30wt% IXF (ion exchange fiber) in the membrane. The water uptake, fixed ion concentration, and ion transport number of the membrane increased with increasing the content of the fibrous ion exchanger. However, the electrical resistivity of the membrane was decreased with increasing the content of the fibrous ion exchanger. The lowest electrical resistivity of 5$\Omega$/$\textrm{cm}^2$ was observed at 30 wt%of IXF.
Journal of the Korean Society for Precision Engineering
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v.28
no.3
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pp.383-388
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2011
The cold hollow cathode gas ion source is under development for multi aperture focused ion beam (FIB) system. In this paper, we describe the cold hollow cathode ion source design and the general ion source performance using Ar gas. The glow discharge characteristics and the ion beam current density at various operation conditions are investigated. This ion source can generate maximum ion beam current density of approximately 120 mA/$cm^2$ at ion beam potential of 10 kV. In order to effectively transport the energetic ions generated from the ion source to the multi-aperture focused ion beam(FIB) system, the einzel lens system for ion beam focusing is designed and evaluated. The ions ejected from the ion source can be forced to move near parallel to the beam axis by adjusting the potentials of the einzel lenses.
Linear ion beams have been introduced for the ion beam treatments of flexible substrates in roll-to-roll web coating systems. Anode layer linear ion sources (300 mm width) were used to make the linear ion beams. Oxygen ion beams having an ion energy from 200 eV to 800 eV used for the adhesion improvement of Cu thin films on PET substrates. The Cu thin films deposited by a conventional magnetron sputtering on the oxygen ion beam treated PET substrates showed Class 5 adhesion defined by ASTM D3359-97 (tape test). Argon ion beams with 1~3 keV used for the ion beam sputtering deposition process, which aims to control the initial layer before the magnetron sputtering deposition. When the discharge power of the linear ion source is 1.2 kW, static deposition rate of Cu and Ni were 7.4 and $3.5{\AA}/sec$, respectively.
Adsorption of phosphate, sulfate, and copper ion to goethite was investigated. Goethite was prepared in the alkaline solution. In the single adsorbate systems, the final equilibrium plateau reached within 20 min. The adsorption isotherms of the individual ions could be well described by the Langmuir equation. The maximum adsorption capacities (q$\_$max/) were calculated as 0.483 m㏖/g and 0.239 m㏖/g at pH 3 for phosphate and sulfate ion, and 0.117 m㏖/g at pH 6 for copper ion, respectively, In competitive adsorption system with phosphate and sulfate, phosphate ion was a stronger competitor for adsorption on goethite than sulfate ion, which was consistent with higher affinity of phosphate ion for the surface compared to sulfate ion. The existence of sulfate ion enhanced the adsorption of copper ion but the adsorption of sulfate was inhibited when copper ion was present.
Journal of the Korean Institute of Illuminating and Electrical Installation Engineers
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v.25
no.5
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pp.104-109
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2011
In this paper, after an acceleration typed ion wind generator which could format strong electric field in air was manufactured and installed, the effects of the electrode configuration and distance of acceleration type ion wind generator with triangle structure on the ion wind generation characteristics were investigated. As a result, the ion wind generator with curvature multipoint electrode could generate higher ion wind velocity and ion wind generation yield than others with multipoint electrode, curvature line electrode, line electrode structure. The ion wind generator with curvature multipoint electrode showed a peak ion wind velocity of 1.33[m/s] at 19.0[kV] and a ion wind generation yield of 0.12[m/Ws] at 15.0[kV].
Previous simulations posed a problem that they used reduced ion to electron mass ratios to save computation time. It was assumed that ion and electron dynamics are sufficiently separated, but it was not clearly verified. In this study, we examine the effect of ion to electron mass ratios on the generation of ion holes by ion beam driven instability. Ion holes are generated via electron holes in an applied electric field with the given initial condition. First, the ion acoustic instability is excited and nonlinearly develops. After the ion acoustic instability nonlinearly develops, the ion two-stream instability is excited and develops into ion holes. This implies that the previously suggested ion beam driven instability is strongly affected by the coupling between ions and electrons and the ion to electron mass ratio is important on the development of the instability. The energy transition and detail variation is different as reduced mass ratio under the same observation value based on FAST satellite. Although, the parameters are rescaled by conserving the kinetic energy to obtain the proper results, the nonlinear evolution is not perfectly identical.
Ferrocyanide-anion exchange resin was prepared and the prepared ion exchange resins were tested on the ability to uptake $Cs^+$ ion. The prepared ion exchange resins were resin-KCoFC, resin-KNiFC, and resin-KCuFC. The three tested ion exchange resins showed ion exchange selectivity on the $Cs^+$ ion of the surrogate soil decontamination solution, and resin-KCoFC showed the best $Cs^+$ ion uptake capability among the tested ion exchange resins. The ion exchange behaviors were explained well by the modified Dubinin-Polanyi equation. A regeneration feasibility study of the spent ion exchange resins was also performed by the successive application of hydrogen peroxide and hydrazine. The desorption of the $Cs^+$ ion from the ion exchange resin satisfied the electroneutrality condition in the oxidation step; the desorption of the $Fe^{2+}$ ion in the reduction step could also be reduced by adding the $K^+$ ion.
Adsorption on goethite of individual component from a solution containing phosphate, sulfate, or copper ion was investigated. Competitive adsorption in the binary and ternary solution systems composed of phosphate, sulfate, and copper ions was also investigated. In competitive adsorption systems with phosphate and sulfate ions, the presence of phosphate ion reduced the adsorption of sulfate ion largely. On the other hand, the presence of sulfate ion caused only a small decrease in phosphate adsorption. This result suggests that phosphate ion is a stronger competitor for adsorption on goethite than sulfate ion, which is consistent with the higher affinity of phosphate for the surface compared to sulfate ion. Compared to the results from single-sorbate systems, adsorption of copper ion in the binary system of sulfate ion and copper ion was found to be enhanced in the presence of sulfate ion. Addition of sulfate ion to the binary system of copper ion and phosphate ion resulted in a small enhancement in copper sorption. This result implies that the presence of sulfate ion promotes adsorption of the ternary complex FeOHCuSO$_4$. The adsorption isotherms could be well described by the Langmuir adsorption equation.
The bilayer film of Ag/a-S $e_{75.G}$$e_{25}$ and the monolayer film of a-S $e_{75.G}$$e_{25}$ act as a negative-type and a positive-type resist in focused ion beam lithography, respectively. Using a model which takes into account the ion stopping power, the ion projected range, the ion concentration implanted into resists and the ion transmission coefficient, etc., the ion resist parameters are calculated for a broad range of ion energies and implanted doses. Ion sources of A $r^{+}$, S $i^{++}$ and G $a^{+}$ are used to expose resists. As the calculated results, the energy loss per unit distance by Ga'$^{+}$ ion is about 10$^{3}$[keV/.mu.M] and nearly constant for all energy range. Especially, the projected range and struggling for 80[keV] G $a^{+}$ ion energy are 0.0425[.mu.m] and 0.020[.mu.m], , respectively and the resist thickness of a-S $e_{75}$ G $e_{25}$ to minimize the ion penetration rate into a substrate is 0.118[.mu.m].u.m]..u.m].
The affection of activated carbon on the dissolved aluminum ion in drinking water has been observed. In addition, the aluminum ion removal capability of activated, alumina, chitosan, and ion exchange resin have been investigated. Experimental results indicated that the coal based activated carbon released considerable amount of aluminum ion to the water while coconut shell based activated carbon didn't. However the release was not continuous. Activated alumina didn't show any recognizable removal capability for aluminum ion in water. Particulate chitosan has removed aluminum ion although dissolved chitosan has not. However it need to development a regeneration process for chitosan to be an effective mean for aluminum ion removal. Ion exchange resin showed a reliable aluminum ion removal capability. The ion exchange capacity was 2.63 meq/g resin for the aluminum ion in drinking water.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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