Hydrophobic polymer [ex. Poly(vinylidenfluoride)] layer was coated on polyaniline (PANi) sensor to reduce the contamination humidity. The differences in sensitivity to methanol gas detection in various humidity condition between pure-PANi sensor and sensor coated with poly(vinylidenfluoride) polymer (PVDF) (coated-PANi sensor) were investigated. Considering the relation between the density of pore, which was coated on the layer of the PANi sensor, and sensitivity was investigated. To fabricate the porous PVDF layer on PANi sensor, poly(vinylalcohol) (PVA), which is water-soluble polymer, was used. Coated-PANi sensor was less affected by humidity compared with pure-PANi sensor. And higher density of pore on PVDF layer led to higher sensitivity.
Vanadium oxides have been widely used in a variety of technological applications such electrochromic devices as infrared detectors and are expected as a material suitable for gas sensing applications. Thin films of Vanadium oxide (VOx) have been deposited by r.f magnetron sputtering under different oxygen partial pressure ratios and substrate temperatures. Humidity-sensitive properties of resistive sensors having interdigitated electrode structure are characterized. Our sensors show good response to humidity over 20%RH to 80%RH. Vanadium oxide films deposited with 0% $O_2$ partial pressure at foot exhibit greater sensitivity to humidity change than others.
Physical properties and impedance-humidity characteristics of carbon nitride films were investigated for micro-humidity-sensors. Carbon nitride films were deposited in low temperature and low power for application of semiconductor fabrication process, and empirical equation was proposed for thickness evaluation. Deposited films had an uniform and compact surface comparing with previously reported results, which was expected a good candidate for humidity sensing materials. Carbon nitride humidity sensors based on Si substrate revealed good humidity-impedance characteristics with a wide range of relative humidity and showed low hysteresis.
Crystalline carbon nitride films have been attempted for an application of humidity sensors. The films were deposited on $Al_2O_3$ substrate having interdigitated electrodes by reactive RF magnetron sputtering system. The film revealed a good humidity-resistance characteristics as well as humidity-capacitance ones in the humidity range of $10\;{\sim}\;95\;RH(%)$. Temperature dependence was also investigated. These results suggest that carbon nitride film have a possibility for a new humidity-sensitive materials.
On-chip micro humidity sensor, using $CN_x$ films for the sensing material, was designed, simulated, and fabricated with Op amp based readout circuit and diode temperature sensors. To compensate the temperature and other gases, two methods were applied. One is wheatstone-bridge with reference FET that eliminates other undesirable chemical species, and the other is a diode temperature sensor to compensate the temperature effect. $CN_x$ film can be a new humidity sensing material, and has a strong potential to adapt to smart sensors or multi-sensors using MEMS or nano-technology. A particular design technology for integration of sensors and systems together was proposed that whole fabrication process could be achieved by a standard CMOS process.
In this work, the nanocrystalline ZnO/polycrystalline (poly) aluminum nitride (AlN)/Si structure was fabricated for humidity sensor applications based on surface acoustic wave (SAW). In this structure, the ZnO film was used as sensing material layer. These ZnO and AlN(0002) were deposited by so-gel process and a pulse reactive magnetron sputtering, respectively. These experimental results showed that the obtained SAW velocity on AlN film was about 5128 m/s at $h/\lambda$=0.0125 (h and $\lambda$ is thickness and wavelength, respectively). For ZnO sensing layers coated on AlN, films have hexagonal wurtzite structure and nanometer particle size. The crystalline size of ZnO films annealed at 400, 500, and 600 $^{\circ}C$ is 10.2, 29.1, and 38 nm, respectively. Surface of the film exhibits spongy which can adsorb steam in the air. The best quality of the ZnO film was obtained with annealing temperature at 500 $^{\circ}Cis$. The change in frequency response (127.9~127.85 MHz) of the SAW humidity sensor based on ZnO/AlN structure was measured along the change in humidity (41~69%). The structural properties of thin films wereinvestigated by XRD and SEM.
Carbon nitride films were evaluated that they had many advantages for miniature micro-humidity-sensors using the standard CMOS technology humidity sensing properties and CV characteristics of the carbon nitride films have been investigated for fabricating one chip HUSFET(Humidity Sensitive Field Effect Transistor) humidity sensors Carbon nitride films were deposited on silicon substrate with meshed electrodes by reactive RF magnetron sputtering system. The capacitor-type humidity sensor revealed good humidity-impedance characteristics with a wide range of relative humidity changes, decreasing $254k{\Omega}$ to $16k{\Omega}$ according to increase of relative humidity between 5% ~ 95% and the films were very stable on the Si wafer. These results reveal that $CN_x$ thin films can be used for Si based or HUSFET structure one chip micro-humidity sensors.
The influence of water molecule on the electrical properties of single-walled carbon nanotube field effect transistors (SWNT-FETs) was reported. Conductance suppression was observed with the increase of the humidity. This can be explained by doping of the SWNT-FETs, which has p-type semiconductor characteristic, with the water molecules acting as an electron donor. However, after 65 % of humidity, conductance of the SWNT-FETs started to increase again, due to the opening of electron channels. Upon annealing at $400^{\circ}C$ in Ar atmosphere, conductance increases more than 500 %, and the threshold voltage shifts toward further positive gate voltages. The results of this experiment support possible application of single-walled carbon nanotubes for humidity sensing material.
The Study of this paper is to establish the optimum fabricating condition of specimens using Vapor Deposition Polymerization Method which belongs to a mode of preparation of functional organic thin films with dry process and to develop thin film type humidity sensor which has good humidity sensitive Characteristics. Scanning electron microscopy Atomic force microscopy were used to analyze the characteristics of thin film and the basic structure of the humidity sensor is a parallel capacitor which consists of three layers of Al/PI/Al. The characteristics of fabricated samples were measured under various conditions and obtained linear characteristics in the range of 20∼80%RH independent of temperature change and low hysteresis characteristics.
A capacitance-type humidity sensors in which porous silicon layer is used as humidity-sensing material was developed. This sensors was fabricated monolithically to be compatible with the typical IC process technology except for the formation of porous silicon layer. As the sensors is made as a mesa structure, the correct measurement of capacitance is expected because it can remove the effect of the parasitic capacitance from the bottom layer and another junctions. To do this, the sensor was fabricated using process steps such as localized formation of porous silicon, oxidation of porous silicon layer and etching of oxidized porous silicon layer. From completed sensors, capacitance response was measured on the relative humidity of 25 to 95% at room temperature. As the result the measured capacitance showed the increase over 300% at the low frequency of 120Hz, and showed little dependence on the temperature between 10 to $40^{\circ}C$.
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[게시일 2004년 10월 1일]
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