Memory Characteristics of MOS Capacitors Embedded with Ge Nanocrystals in $HfO_2$ Layers by Ion Implantation
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- 한국전기전자재료학회:학술대회논문집
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- 한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19
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- pp.147-148
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- 2006