• 제목/요약/키워드: H1-H2 measure

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MEASUREMENT OF FIELD PERFORMANCE FOR TRACTOR

  • M. J. NahmGung;Park, C. H.
    • 한국농업기계학회:학술대회논문집
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    • 한국농업기계학회 2000년도 THE THIRD INTERNATIONAL CONFERENCE ON AGRICULTURAL MACHINERY ENGINEERING. V.III
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    • pp.819-826
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    • 2000
  • This study was performed to develop a measurement system of tractor field performance for plow and rotary operations. Measurement system for tractor consisted of torque sensors to measure torque of drive axles and PTO axle, speed sensors to measure rotational speed of drive axles and engine, microcomputer to control data logger, and data logger as I/O interface system. The measurement system was installed on four-wheel-drive tractor. Four-element full-bridge type strain gages were used for torque measurement of drive axles and optical encoders were used to measure speeds of drive axles and engine. Slip rings were mounted on the rotational axles. Signals from sensors were inputted to data logger that was controlled by microcomputer with parallel communication. Sensors were calibrated before the field tests. Regression equations were found on completion of the calibrations. The field experiment was performed at paddy fields and uplands. Rotary and plow were used when the tractor was operated in the field. Travelling speeds of the tractor were 1.9 km/h, 2.7 km/h, 3.7 km/h, 5.5 km/h, 8.2 km/h, and 11.8 km/h. Operating depths of implements were maintained approximately 20cm during the tests. Torque data of drive axles were different at each location during plow and rotary operations. Results showed that torque of rear axles were greater than those of front axles. Total torque were 6860 - 11064 Nm at the upland and 7360 - 14190 Nm at the paddy field for plow operations. It was found that torque at the paddy field were about 20% greater than those at the upland for plow operations. Torque data showed that rotary operations required less power than plow operation at the paddy field and the upland. Torque measurements at each axle for rotary operations were only 8 - 16% of plow operations in the upland and 15 - 20% in the paddy field.

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이성분 혼합용매에서 화학변화에 미치는 용매의 영향 : THF-$H_2O$ (제2보). 매체의 특성과 용매화된 전자의 흡수스펙트럼 (The Solvent Effect on The Chemical Changes in Binary Mixture : i. e. THF-$H_2O$ System (Ⅱ))

  • 박유철;오상오
    • 대한화학회지
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    • 제24권6호
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    • pp.444-451
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    • 1980
  • 극성용매에서 전자의 용매화과정을 구체적으로 고찰하여 보기 위하여 테트라히드로퓨란(THF)-물 이성분계의 메디움효과를 측정하였다. 이 메디움효과는 Pt|$H_2Q$, Q, HCI, THF, $H_2O$|KC1 | $Hg_2Cl_2$|Hg(Pt) 셀로 수용액과 다른 용액(TGF-$H_2O$)에서 결정된 $H^+$ 이온에 대한 자유에너지 변화의 차(${\Delta}{\Delta}G_0$)를 이용하여 연구하였다. 여기서 $H_2Q$와 Q는 히드로퀴논과 퀴논을 각각 나타낸다. 자유에너지 변화의 차와 용매화된 전자의 최대흡수 에너지에 대한 용매의 유전상수 영향을 고찰하기 위하여 THF에서 $H_2O$의 회합정도를 관찰하였다. $H_2O$의 회합정도는 $H_2O$의 근적외선 스펙트럼을 이용하여 분석하였다. 이들 실험결과로부터 이성분 혼합용매에서 전자나 다른 이온의 용매화는 용매의 특정성분과 선택적으로 진행된다는 것을 알았다.

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COHEN의 합치도의 두 가지 역설을 해결하기 위한 새로운 합치도의 제안 (A New Measure of Agreement to Resolve the Two Paradoxes of Cohen's Kappa)

  • 박미희;박용규
    • 응용통계연구
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    • 제20권1호
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    • pp.117-132
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    • 2007
  • 두 평정자가 있는 이차원 분류표에서 우연에 의한 합치 비율을 보정한 Cohen의 합치도($\kappa$)는 문제점이 있는 측도로 알려져 있다. $\kappa$는 평정자의 분류 비율(주변확률)에 매우 민감하고, 합치도로서의 조건도 만족하지 못한다. 그러나 $\kappa$를 비롯한 기존 합치도들은 주변확률이 0.5에 가까울 때 안정되며 비슷한 값을 갖는다. 본 연구에서는 이차원 분류표의 불균형적 주변분포를 보정함으로써 $\kappa$의 역설을 해결하는 새로운 합치도 H를 제안한다. 또한 예제를 통해 기존의 합치도들과 제안된 합치도를 비교한다.

강유전성 박막의 형성 및 수소화 된 비정질실리콘과의 접합 특성 (The Contact Characteristics of Ferroelectrics Thin Film and a-Si:H Thin Film)

  • 허창우
    • 한국정보통신학회논문지
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    • 제7권3호
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    • pp.468-473
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    • 2003
  • 본 연구에서는 박막트랜지스터의 특성 향상을 위하여 강유전성 박막을 게이트 절연층으로 사용하기 위하여 강유전성 박막과 a-Si:H의 계면특성을 조사하였다. 먼저 강유전성 박막 중에 대표적인 SrTiO$_3$를 I-BEAM 증착기로 박막을 형성시켰다. 형성된 박막은 N2 분위기에서 $150^{\circ}C∼600^{\circ}C$로 1시간 ANNEALING하여 전자현미경으로 표면을 측정하였다. SrTiO$_3$의 유전상수는 50∼100 정도였으며 항복전계는 1∼l.5 MV/cm로 매우 우수한 유전특성을 갖고 있었다. 강유전체 박막 위에 a-SiN:H,a-Si:H(n-type a-Si:H) 등을 PECVD로 증착하여 MFNS구조를 형성하였다. 계면특성을 C-V PLOTTER로 측정한 결과 SrTiO$_3$ 박막은 SiN과의 접합이 매우 안정되어 있었고 C-V특성은 SiN/a-Si:H과 유사하였다. 그러나 FERROELECTRIC/a-S:H의 경우가 훨씬 CAPACITANCE 값이 컸으며, 이는 강유전체 박막의 높은 유전상수에 기인 된 것이라 생각된다.

반도체용 실리콘 젤의 경화조건에 따른 체적고유저항 특성 (Volume Resistivity Properties due to the Curing Condition of Silicone Gel for Semiconductor)

  • 조경순
    • 한국컴퓨터산업학회논문지
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    • 제3권12호
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    • pp.1747-1758
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    • 2002
  • 실리콘 젤의 경화조건에 따른 전기적 특성을 조사하기 위하여 절연파괴특성에 대한 실험을 실시하였다. 실험을 위해 온도 100[$^{\circ}C$], 125[$^{\circ}C$], 150[$^{\circ}C$], 160[$^{\circ}C$], 170[$^{\circ}C$], 180[$^{\circ}C$]에서 각각 30[Min], 1[H], 2[H]동안 경화된 여러 시료를 제작하였다. 절연파괴실험에서 사용된 전극의 재료는 순도 99.9[%]의 구리이며, 전극간 간격은 1~3[mm]로 하였고, 전극의 두께는 0.2[mm]이다. 실험결과 온도 170[$^{\circ}C$]에서 2[H] 경화된 시료의 전기적 특성이 가장 우수하였다.

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Relationship Between pH and Temperature of Electroless Nickel Plating Solution

  • Nguyen, Van Phuong;Kim, Dong-Hyun
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 2018년도 춘계학술대회 논문집
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    • pp.33.1-33.1
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    • 2018
  • pH is expressed mathematically as $pH=-{\log}[H^+]$, is a measure of the hydrogen ion concentration, [$H^+$] to specify the acidity or basicity of an aqueous solution. The pH scale usually ranges from 0 to 14. Every aqueous solution can be measured to determine its pH value. The pH values below 7.0 express the acidity, above 7.0 are alkalinity and pH 7.0 is a neutral solution. The solution pH can be determined by indicator or by measurement using pH sensor, which measuring the voltage generated between a glass electrode and a reference electrode according to the Nernst Equation. The pH value of solutions depends on the temperature and the activity of contained ions. In nickel electroless plating process, the controlled pH value in some limited ranges are extremely important to achieve optimal deposition rate, phosphorus content as well as solution stability. Basically, nickel electroless plating solution contains of $Ni^{2+}ions$, reducing agent, buffer and complexing agents. The plating processes are normally carried out at $82-92^{\circ}C$. However, the change of its pH values with temperatures does not follow any rule. Thus, the purpose of study is to understand the relationship between pH and temperature of some based solutions and electroless nickel plating solutions. The change of pH with changing temperatures is explained by view of the thermal dynamic and the practical measurements.

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충돌제트를 이용한 pedestal 형상의 칩 냉각연구 (Jet Impingement Heat Transfer on a Pedestal Encountered in Chip Cooling)

  • 이대희;정승훈;정영석;이준식
    • 대한기계학회:학술대회논문집
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    • 대한기계학회 2001년도 추계학술대회논문집B
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    • pp.124-130
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    • 2001
  • The heat transfer and flow measurements were made on a cylindrical pedestal mounted on a flat plate with a turbulent impinging air jet. The heat transfer coefficient distributions on the flat plate were measured using the shroud-transient technique and liquid crystal was used to measure the surface temperature. The jet Reynolds number (Re) is 23,000, the dimensionless nozzle-to-surface distance (L/d) from 2 to 10, the dimensionless pedestal diameter-to-height (H/D) from 0 to 1.5, the dimensionless 2nd pedestal diameter-to-height ($H/D_2$) from 0 to 0.4 and the distance from the stagnation point to 2nd pedestal (p/D). The results show that for H/D = 0.5 to 1.5, the Nusselt number distributions on the plate surface exhibit a maximum between $r/d\;{\cong}\;1.0$ and 1.5. The presence of the pedestal appears to cause the flow separation and reattachment on the plate surface, which results in the maximum heal transfer coefficient. Also, for p/D = 2.5 and $H/D_2$ = 0.3, the local Nusselt number in the region corresponding to $r/d\;{\cong}\;1.1$ was increased up to 50% compared to that for $H/D_2=0$.

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강유전성 박막의 형성 및 수소화 된 비정질실리콘과의 접합 특성 (The Contact Characteristics of Ferroelectrics Thin Film and a-Si:H Thin Film)

  • 허창우
    • 한국정보통신학회:학술대회논문집
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    • 한국해양정보통신학회 2003년도 춘계종합학술대회
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    • pp.501-504
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    • 2003
  • 본 연구에서는 박막트랜지스터의 특성 향상을 위하여 강유전성 박막을 게이트 절연충으로 사용하기 위하여 강유전성 박막과 a-Si:H 의 계면특성을 조사하였다. 먼저 강유전성 박막 중에 대표적인 SrTiO$_3$를 E-BEAM 증착기로 박막을 형성시켰다. 형성된 박막은 $N_2$ 분위기에서 15$0^{\circ}C$~$600^{\circ}C$로 1시간 ANNEALING 하여 전자현미경으로 표면을 측정하였다. SrTiO$_3$의 유전상수는 50~100 정도였으며 항복전계는 1~l.5 MV/cm로 매우 우수한 유전특성을 갖고 있었다. 강유전체 박막 위에 a-SiN:H,a-Si:H(n-type a-Si:H) 등을 PECVD로 증착하여 MFNS구조를 형성하였다. 계면특성을 C-V PLOTTER로 측정한 결과 SrTiO$_3$ 박막은 SiN 과의 접합이 매우 안정되어 있었고 C-V특성은 SiN/a-Si:H 과 유사하였다. 그러나 FERROELECTRIC/a-S:H의 경우가 훨씬 CAPACITANCE값이 컸으며, 이는 강유전체 박막의 높은 유전상수에 기인 된 것이라 생각된다.

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BOUNDS OF ZERO MEAN GAUSSIAN WITH COVARIANCE FOR AVERAGE ERROR OF TRAPEZOIDAL RULE

  • Hong, Bum-Il;Choi, Sung-Hee;Hahm, Nahm-Woo
    • Journal of applied mathematics & informatics
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    • 제8권1호
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    • pp.231-242
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    • 2001
  • We showed in [2] that if r≤2, zero mean Gaussian of average error of the Trapezoidal rule is proportional to h/sub i//sup 2r+3/ on the interval [0,1]. In this paper, if r≥3, we show that zero mean Gaussian of average error of the Trapezoidal rule is bounded by Ch⁴/sub i/h⁴/sub j/.

COMPARISON FOR SOLUTIONS OF A SPDE DRIVEN BY MARTINGALE MEASURE

  • CHO, NHAN-SOOK
    • 대한수학회보
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    • 제42권2호
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    • pp.231-244
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    • 2005
  • We derive a comparison theorem for solutions of the following stochastic partial differential equations in a Hilbert space H. $$Lu^i=\alpha(u^i)M(t,\; x)+\beta^i(u^i),\;for\;i=1,\;2,$$ $where\;Lu^i=\;\frac{\partial u^i}{\partial t}\;-\;Au^{i}$, A is a linear closed operator on Hand M(t, x) is a spatially homogeneous Gaussian noise with covariance of a certain form. We are going to show that if $\beta^1\leq\beta^2\;then\;u^1{\leq}u^2$ under some conditions.