$Si_2H_6$ 를 이용한LPCVD 실리콘 박막의 결정 성장 및 구조적 성질에 관한 연구
(A Study on the Grain Growth and Structure Properties of LPCVD Films Using $Si_2H_6$ GAS)
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- 대한전기학회논문지
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- 제40권7호
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- pp.670-674
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- 1991